CN102971391A - 氟系表面活性剂、使用其的涂层组合物以及抗蚀剂组合物 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种氟系表面活性剂,其为将具有聚(全氟亚烷基醚)链并在其两末端具有的聚合性不饱和基团的聚合性单体(A)、和具有氧化亚烷基以及聚合性不饱和基团的聚合性单体(B)作为必需的单体共聚而成的共聚物。该氟系表面活性剂为其结构上不能生成对环境以及生物体的蓄积性高的PFOS或者PFOA的表面活性剂,而且即便含氟率比具有碳原子数8以上的氟代烷基的表面活性剂更低,也会具有更优异的降低表面张力的能力。因此,该氟系表面活性剂可以作为涂层组合物、抗蚀剂组合物等的流平剂适宜使用。
Description
技术领域
本发明涉及可以作为要求表面平滑性的各种涂料领域、或者要求精密涂覆的涂层领域的各种涂层材料、抗蚀材料的流平剂使用,而且对环境以及生物体的蓄积性低的含氟系表面活性剂,进而涉及使用该表面活性剂的涂层组合物以及抗蚀剂组合物。
背景技术
以往,在各种涂层领域中,以提高得到的涂膜的均质性以及平滑性为目的,使用烃系、有机硅系、氟系等各种被称为流平剂的表面活性剂。其中氟系表面活性剂由于其降低表面张力的能力高、涂覆后的污染少而被广泛使用。
作为这样的氟系表面活性剂,提出了利用具有如下聚合单元的聚合物的方法,该聚合单元具有至少1个氢原子被取代为氟原子的碳原子数为20以下的烷基。(例如,参照专利文献1)。特别是,利用碳原子数8以上的全氟烷基的表面活性剂显示出源于其表面张力降低的能力的、作为流平剂的优异性能,但是具有碳原子数为6以下的全氟烷基的表面活性剂却难以维持该性能,存在随着碳原子数减少、降低表面张力的能力进一步削弱的问题。
然而,近年来,已知具有碳原子数为8的全氟烷基化合物能够通过分解而生成对环境以及生物体的蓄积性高的全氟辛烷磺酸(以下,简称为“PFOS”)或者全氟辛酸(以下,简称为“PFOA”)。另外,还已知具有碳原子数大于8的全氟烷基的化合物能够生成进一步对环境以及生物体的蓄积性高的化合物。因此,市场上寻求在结构上不能生成对环境以及生物体的蓄积性高的PFOS或者PFOA的、碳原子数为6以下的、链长尽可能短的氟代烷基例如碳原子数为4以下的氟代烷基、除氟代烷基以外的结构的材料。但是,如上所述存在随着链长变短而难以维持作为表面活性剂的性能的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平10-230154号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明要解决的课题为提供一种氟系表面活性剂,其为在结构上不能生成对环境以及生物体的蓄积性高的PFOS或者PFOA的表面活性剂,而且即便含氟率比具有碳原子数8以上的氟代烷基的表面活性剂更低,也具有同等以上的高的降低表面张力的能力,可以作为流平剂使用。另外,提供使用该氟系表面活性剂的涂层组合物以及抗蚀剂组合物。
用于解决问题的方案
本发明人等经过深入的研究,结果发现,将具有聚(全氟亚烷基醚)链并在其两末端具有(甲基)丙烯酰基等聚合性不饱和基团的聚合性单体、和具有氧化亚烷基以及聚合性不饱和基团的聚合性单体共聚而成的共聚物的氟系表面活性剂显示出与具有碳原子数8以上的氟代烷基的聚合性单体、和非氟系聚合性单体的通常的无规共聚物相比同等以上的降低表面张力的能力,作为在对环境、生物体的蓄积性方面风险更低的氟系表面活性剂是有效的,从而完成本发明。
即,本发明涉及一种氟系表面活性剂,其特征在于,其为将具有聚(全氟亚烷基醚)链并在其两末端具有聚合性不饱和基团的聚合性单体(A)、和具有氧化亚烷基以及聚合性不饱和基团的聚合性单体(B)作为必需的单体共聚而成的共聚物。
另外,本发明涉及含有前述氟系表面活性剂的涂层组合物以及抗蚀剂组合物。
发明的效果
本发明的氟系表面活性剂由于在具有聚(全氟亚烷基醚)链以及氧化亚烷基而充分发挥作为表面活性剂的性能的同时、不具有碳原子数8以上的氟代烷基,因此是不会生成PFOS或者PFOA、对环境以及生物体的蓄积性低的安全制品。另外,即便含氟率比具有碳原子数8以上的氟代烷基的表面活性剂更低,也具有更优异的降低表面张力的能力,少量添加即可以发挥优异的流平性。
因此,可以作为涂层组合物、抗蚀剂组合物的流平剂适宜地使用,进而由于少量添加就可以显示出充分的流平性,因此还能够发挥出不损害基础树脂的物性的效果。另外,在涂层组合物、抗蚀剂组合物中添加本发明的氟系表面活性剂作为流平剂时,可以在旋转涂布、辊涂、浸渍涂布、喷涂、刮板涂布、狭缝涂布、帘涂、凹版涂布等多种涂布方法中实现高度的表面平滑性。
附图说明
图1是实施例1中合成的氟系共聚物(1)的GPC的谱图。
图2是实施例2中制造的氟系共聚物(2)的GPC的谱图。
具体实施方式
本发明的氟系表面活性剂为将具有聚(全氟亚烷基醚)链并在其两末端具有聚合性不饱和基团的聚合性单体(A)、和具有氧化亚烷基以及聚合性不饱和基团的聚合性单体(B)作为必需的单体共聚而成的共聚物。
前述聚合性单体(A)为具有聚(全氟亚烷基醚)链、在其两末端具有聚合性不饱和基团的化合物。
作为前述聚(全氟亚烷基醚)链,可举出具有碳原子数1~3的2价氟碳基团与氧原子交替连接的结构的聚(全氟亚烷基醚)链。关于碳原子数1~3的2价氟碳基,可以为一种、也可以为数种的混合,具体而言,可列举出下述结构式(a1)所示的氟碳基。
(上述结构式(a1)中,X为下述结构式(a1-1)~(a1-5),结构式(a1)中的所有X可以是相同结构,另外,也可以是多个结构以无规或嵌段状存在的结构。另外,n是表示重复单元数的1以上的整数。)
-CF2- (a1-1)
-CF2CF2- (a1-2)
-CF2CF2CF2- (a1-3)
其中,从添加有本发明的氟系表面活性剂的涂层组合物的流平性良好、可得到平滑的涂膜的观点考虑,尤其优选共存有前述结构式(a1-1)所示的全氟亚甲基结构和前述结构式(a1-2)所示的全氟亚乙基结构的聚(全氟亚烷基醚)链。这里,关于前述结构式(a1-1)所示的全氟亚甲基结构和前述结构式(a1-2)所示的全氟亚乙基结构的存在比例,从流平性的观点考虑,优选摩尔比[结构(a1-1)/结构(a1-2)]为1/10~10/1的比例。另外,优选前述结构式(a1)中的n值为3~100的范围,特别优选为6~70的范围。
另外,关于前述聚(全氟亚烷基醚)链,从可以兼顾涂层组合物的流平性和对涂层组合物中的非氟系材料的溶解性的观点出发,聚(全氟亚烷基醚)链的一条链中所含的氟原子的总和优选为18~200个的范围,更加优选为25~150个的范围。
作为向成为前述聚合性单体(A)的原料的两末端导入聚合性不饱和基团之前的化合物,可以列举出以下的通式(a2-1)~(a2-6)。需要说明的是,下述的各结构式中的“-PFPE-”表示上述聚(全氟亚烷基醚)链。
HO-CH2-PFPE-CH2-OH (a2-1)
HO-CH2CH2-PFPE-CH2CH2-OH (a2-2)
OCN-PFPE-NCO (a2-5)
关于前述聚合性单体(A)的聚(全氟亚烷基醚)链的两末端所具有的聚合性不饱和基团,例如可列举出下述结构式U-1~U-5所示的具有聚合性不饱和基团的基团。
在这些聚合性不饱和基团中,特别是从聚合性单体(A)自身的获得、制造的容易程度,或者从与后述的聚合性单体(B)共聚的容易程度出发,优选结构式U-1所示的丙烯酰氧基、或者结构式U-2所示的甲基丙烯酰氧基。
作为前述聚合性单体(A)的制造方法,例如可列举出如下方法:对于在聚(全氟亚烷基醚)链的两末端具有各一个羟基的化合物,有使(甲基)丙烯酰氯进行脱氯化氢反应而得到聚合性单体(A)的方法、使(甲基)丙烯酸进行脱水反应而得到聚合性单体(A)的方法、使2-(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰酸酯进行氨基甲酸酯化反应而得到聚合性单体(A)的方法、使衣康酸酐进行酯化反应而得到聚合性单体(A)的方法、以及与具有氯甲基的苯乙烯在碱存在下反应而得到聚合性单体(A)的方法;对于在聚(全氟亚烷基醚)链的两末端具有各一个羧基的化合物,有使4-羟基丁基丙烯酸酯缩水甘油醚进行酯化反应而得到聚合性单体(A)的方法、使(甲基)丙烯酸缩水甘油酯进行酯化反应而得到聚合性单体(A)的方法;对于在聚(全氟亚烷基醚)链的两末端具有各一个异氰酸酯基的化合物,有使(甲基)丙烯酸2-羟乙基酯反应来进行导入的方法、使2-羟乙基(甲基)丙烯酰胺反应的方法。在它们当中,从在合成上容易得到的观点出发,特别优选的是,对于在聚(全氟亚烷基醚)链的两末端具有各一个羟基的化合物进行的、使(甲基)丙烯酰氯进行脱氯化氢反应而得到聚合性单体(A)的方法、以及使2-(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰酸酯进行氨基甲酸酯化反应而得到聚合性单体(A)的方法。
需要说明的是,在本发明中,“(甲基)丙烯酰基”是指甲基丙烯酰基和丙烯酰基中的一者或两者,“(甲基)丙烯酸酯”是指甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯中的一者或两者,“(甲基)丙烯酸”是指甲基丙烯酸和丙烯酸中的一者或两者。
作为前述聚合性单体(A)的具体例子,可以列举出下述结构式(A-1)~(A-13)所示的聚合性单体。需要说明的是,
下述各结构式中的“-PFPE-”表示聚(全氟亚烷基醚)链。
在它们当中,从聚合性单体(A)的工业制造容易的观点出发,优选前述结构式(A-1)、(A-2)、(A-5)、(A-6)所示的聚合性单体,由于能够进一步提高作为流平剂的性能出发,更优选前述结构式(A-1)所示的在聚(全氟亚烷基醚)链的两末端具有丙烯酰基的聚合性单体。
前述聚合性单体(B)为具有氧化亚烷基以及聚合性不饱和基团的聚合性单体。作为聚合性单体(B)所具有的聚合性不饱和基团,可以列举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、马来酰亚胺基等;从与前述聚合性单体(A)的共聚容易的观点出发,优选(甲基)丙烯酰基。
另外,作为前述聚合性单体(B)的具体例子,可列举出下述通式(B1)所示的单体。
(式(B1)中,R1为氢原子或者甲基,X、Y以及Z为各自独立的亚烷基,p、q以及r分别为0或者1以上的整数,而且p、q以及r的总和为1以上的整数,R2为氢原子或者碳原子数1~6的烷基。)
前述通式(B1)中的X、Y以及Z为亚烷基,但在该亚烷基中也包括具有取代基的亚烷基。作为-O-(XO)p-(YO)q-(ZO)r-部分的具体例子,可以列举出:重复单元数p为1、q以及r为0、而且X为亚乙基的乙二醇残基;重复单元数p为1、q以及r为0、而且X为亚丙基的丙二醇残基;重复单元数p为1、q以及r为0、而且X为亚丁基的丁二醇残基;重复单元数p为2以上的整数、q以及r为0、而且X为亚乙基的聚乙二醇残基;重复单元数p为2以上的整数、q以及r为0、而且X为1-甲基亚乙基(亚丙基)的聚丙二醇残基;重复单元数p以及q均为1以上的整数、r为0、而且X或者Y为亚乙基且另一方为1-甲基亚乙基(亚丙基)的环氧乙烷和环氧丙烷的共聚物的残基;重复单元数p、q以及r均为1以上的整数、而且X以及Z为亚乙基、Y为1-甲基亚乙基(亚丙基)的环氧乙烷和环氧丙烷的共聚物的残基等聚亚烷基二醇的残基。
前述聚亚烷基二醇的聚合度、即通式(B1)中的p、q以及r的总和优选为1~80、更优选为3~50。需要说明的是,包含X的重复单元、包含Y的重复单元以及包含Z的重复单元既可以配置为无规状,也可以配置为嵌段状。
前述通式(B1)中的R2为氢或者碳原子数1~6的烷基。R2为氢的情况下,聚合性单体(B)为聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇等亚烷基二醇的单(甲基)丙烯酸酯;R2为碳原子数1~6的情况下,为亚烷基二醇的单(甲基)丙烯酸酯的非(甲基)丙烯酸酯末端被碳原子数1~6的烷基封端的聚合性单体。
作为前述单体(B1)的更具体的例子,可列举出聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚四亚甲基二醇(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇/丙二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇/聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇/四亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇/聚四亚甲基二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇/四亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇/聚四亚甲基二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇/丁二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇/聚丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇/丁二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇/聚丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(四乙二醇/丁二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚四乙二醇/聚丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇/三亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇/聚三亚甲基二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇/三亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇/聚三亚甲基二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(三亚甲基二醇/四亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚三亚甲基二醇/聚四亚甲基二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(丁二醇/三亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇/聚三亚甲基二醇单(甲基)丙烯酸酯等。需要说明的是,“聚(乙二醇/丙二醇)”是指乙二醇和丙二醇的无规共聚物,“聚乙二醇/聚丙二醇”是指乙二醇和丙二醇的嵌段共聚物。其他的物质也同样。在这些单体(B1)之中,从与本发明的涂层组合物中的其他成分的相容性变得良好、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇/聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯是优选的。
另外,作为前述单体(B1)的市售品,例如可以列举出新中村化学工业株式会社制造的“NK Ester M-20G”、“NK EsterM-40G”、“NK Ester M-90G”、“NK Ester M-230G”、“NK EsterAM-90G”、“NK Ester AMP-10G”、“NK Ester AMP-20G”、“NK Ester AMP-60G”、日油株式会社制造的“BLEMMERPE-90”、“BLEMMER PE-200”、“BLEMMER PE-350”、“BLEMMER PME-100”、“BLEMMER PME-200”、“BLEMMERPME-400”、“BLEMMER PME-4000”、“BLEMMER PP-1000”、“BLEMMER PP-500”、“BLEMMER PP-800”、“BLEMMER70PEP-350B”、“BLEMMER55PET-800”、“BLEMMER50POEP-800B”、“BLEMMER10PPB-500B”、“BLEMMERNKH-5050”、“BLEMMER AP-400”、“BLEMMER AE-350”等。这些单体(B1)可以单独使用也可以组合两种以上使用。
作为本发明的氟系表面活性剂的原料,以前述聚合性单体(A)以及聚合性单体(B)作为必需成分,但作为除了这些以外的聚合性单体,也可以将(甲基)丙烯酸烷基酯(C)作为原料组合使用。作为该(甲基)丙烯酸烷基酯(C)的具体例子,可以列举出下述通式(C1)所表示的结构。
(式(C1)中、R3为氢原子或者甲基、R4为碳原子数1~18的具有直链状、支链状或者环结构的烷基。)
需要说明的是,前述通式(C1)中的R4为碳原子数1~18的具有直链状、支链状或者环结构烷基,该烷基中还包括具有脂肪族或者芳香族的烃基、羟基等取代基的烷基。作为前述(甲基)丙烯酸烷基酯(C)的更具体的例子,可列举出:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸的碳原子数为1~18的烷基酯;(甲基)丙烯酸双环戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、二甲基金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、二环戊基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸的碳原子数1~18的桥接环状烷基酯等。这些聚合性单体(C)可以单独使用也可以组合两种以上使用。
另外,作为本发明的氟系表面活性剂的原料、作为前述聚合性单体(A)、(B)以及(C)以外的聚合性单体,还可以使用苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯等芳香族乙烯基化合物;马来酰亚胺、甲基马来酰亚胺、乙基马来酰亚胺、丙基马来酰亚胺、丁基马来酰亚胺、己基马来酰亚胺、辛基马来酰亚胺、十二烷基马来酰亚胺、硬脂基马来酰亚胺、苯基马来酰亚胺、环己基马来酰亚胺等马来酰亚胺化合物等。进而,使用具有碳原子数1~6的氟化烷基的聚合性单体等亦可。
作为制造本发明的氟系表面活性剂的方法,没有特别的限制,可以列举出在有机溶剂中使用自由基聚合引发剂将聚合性单体(A)以及聚合性单体(B)、根据需要使用的除了这些以外的聚合性单体聚合的方法。作为这里使用的有机溶剂,优选为酮类、酯类、酰胺类、亚砜类、醚类、烃类,具体而言,可举出丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、乙醚、二异丙基醚、四氢呋喃、二噁烷、甲苯、二甲苯等。它们是考虑沸点、相容性、聚合性而适宜选择的。作为自由基聚合引发剂,可以例示出例如过氧化苯甲酰等过氧化物、偶氮二异丁腈等偶氮化合物等。进而可以根据需要使用月桂基硫醇、2-巯基乙醇、硫代甘油、硫代乙醇酸乙酯、硫代乙醇酸辛酯等链转移剂。
关于本发明的氟系表面活性剂的数均分子量(Mn)以及重均分子量(Mw),从向涂层组合物等树脂组合物中添加时与其他配混成分之间的相容性良好、可以实现高度的流平性出发,数均分子量(Mn)优选500~20000的范围,更优选为1500~10000的范围。另外,重均分子量(Mw)优选2000~100000的范围,更优选3000~50000的范围。需要说明的是,数均分子量(Mn)以及重均分子量(Mw)为基于凝胶渗透色谱法(以下,简称为“GPC”)测定并进行聚苯乙烯换算而得到的值。需要说明的是,GPC的测定条件如下。
[GPC测定条件]
测定装置:TOSOH Corporation制造“HLC-8220GPC”;
柱:TOSOH Corporation制造的保护柱“HHR-H”(6.0mmI.D.×4cm)
+TOSOH Corporation制造“TSK-GEL GMHHR-N”(7.8mmI.D.×30cm)
+TOSOH Corporation制造“TSK-GEL GMHHR-N”(7.8mmI.D.×30cm)
+TOSOH Corporation制造“TSK-GEL GMHHR-N”(7.8mmI.D.×30cm)
+TOSOH Corporation制造“TSK-GEL GMHHR-N”(7.8mmI.D.×30cm)
检测器:ELSD(Ortec Ltd.制造“ELSD2000”)
数据处理:TOSOH Corporation制造“GPC-8020Model II数据解析版本4.30”
测定条件:柱温度 40℃
展开溶剂 四氢呋喃(THF)
流速 1.0ml/分钟
试样:将以树脂固体成分换算计为1.0质量%的四氢呋喃溶液用微孔滤膜过滤而得到的试样(5μl)。
标准试样:根据前述”GPC-8020Model II数据解析版本4.30”的测定手册,使用分子量为已知的下述单分散聚苯乙烯。
(单分散聚苯乙烯)
TOSOH Corporation制造“A-500”
TOSOH Corporation制造“A-1000”
TOSOH Corporation制造“A-2500”
TOSOH Corporation制造“A-5000”
TOSOH Corporation制造“F-1”
TOSOH Corporation制造“F-2”
TOSOH Corporation制造“F-4”
TOSOH Corporation制造“F-10”
TOSOH Corporation制造“F-20”
TOSOH Corporation制造“F-40”
TOSOH Corporation制造“F-80”
TOSOH Corporation制造“F-128”
TOSOH Corporation制造“F-288”
TOSOH Corporation制造“F-550”
另外,关于作为本发明的氟系表面活性剂的原料使用的前述聚合性单体(A)、聚合性单体(B)、以及根据需要使用的除了这些以外的聚合性单体的总体中的含氟率,从可以使涂层组合物、抗蚀剂组合物的流平性变得充分、与涂层组合物、抗蚀剂组合物中的其他成分的相容性良好考虑,优选为2~40质量%的范围,更优选为5~30质量%的范围,进一步优选为10~25质量%的范围。需要说明的是,前述含氟率计算为氟原子相对于作为本发明的氟系表面活性剂的原料使用的聚合性单体的总量的质量比率。
本发明的涂层组合物为将上述的本发明的氟系表面活性剂作为添加剂使用的涂层组合物。涂层组合物中的该氟系表面活性剂的添加量因涂层树脂的种类、涂覆方法、作为目的的膜厚等而有所不同,但相对于涂层组合物中的固体成分100质量份优选为0.0001~10质量份,更优选为0.001~5质量份,进一步优选0.01~2质量份。氟系表面活性剂为该范围的添加量时,可以充分地降低表面张力,得到作为目的的流平性,可以抑制涂覆时的起沫性等不良情况的发生。
通过使用本发明的氟系表面活性剂作为涂层组合物的添加剂,可以提供与现有的具有碳原子数8以上的全氟烷基的氟系表面活性剂相比对环境以及生物体的蓄积性低、并且与现有的具有碳原子数8以上的全氟烷基的氟系表面活性剂相比,即使为更低的氟原子浓度也具有同等以上的流平性的涂层组合物。作为这样的涂层组合物,可以列举出例如各种涂料用组合物、感光性树脂组合物。
作为前述涂料用组合物,例如可以列举出:石油树脂涂料、虫胶涂料、松香系涂料、纤维素系涂料、橡胶系涂料、漆涂料、漆酚树脂(cashew resin)涂料、油性展色涂料等使用天然树脂的涂料;酚醛树脂涂料、醇酸树脂涂料、不饱和聚酯树脂涂料、氨树脂涂料、环氧树脂涂料、乙烯树脂涂料、丙烯酸(酯)类树脂涂料、氨基甲酸酯树脂涂料、有机硅树脂涂料、氟树脂涂料等使用合成树脂的涂料等。
另外,除了前述所例示的涂料用组合物之外,在活性能量射线固化型组合物中也可以使用本发明的氟系表面活性剂。该活性能量射线固化型组合物含有活性能量射线固化型树脂或者活性能量射线固化性单体作为其主要成分。需要说明的是,前述活性能量射线固化型树脂和活性能量射线固化性单体可以分别单独使用,也可以组合使用。
关于前述活性能量射线固化型树脂,可列举出:氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯树脂、不饱和聚酯树脂、环氧(甲基)丙烯酸酯树脂、聚酯(甲基)丙烯酸酯树脂、丙烯酰基(甲基)丙烯酸酯树脂、含有马来酰亚胺基的树脂等,在本发明中,尤其从透明性、低收缩性等观点出发,优选氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯树脂。
关于在这里使用的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯树脂,可举出使脂肪族多异氰酸酯化合物或芳香族多异氰酸酯化合物与具有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物反应而得到的具有氨基甲酸酯键和(甲基)丙烯酰基的树脂。
作为前述脂肪族多异氰酸酯化合物,可列举出例如四亚甲基二异氰酸酯、五亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、七亚甲基二异氰酸酯、八亚甲基二异氰酸酯、十亚甲基二异氰酸酯、2-甲基-1,5-戊烷二异氰酸酯、3-甲基-1,5-戊烷二异氰酸酯、十二亚甲基二异氰酸酯、2-甲基五亚甲基二异氰酸酯、2,2,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、2,4,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、降冰片烷二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯、氢化甲苯二异氰酸酯、氢化二甲苯二异氰酸酯、氢化四甲基二甲苯二异氰酸酯、环己基二异氰酸酯等,另外,作为芳香族多异氰酸酯化合物,可举出甲苯二异氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、二甲基联苯二异氰酸酯、对苯二异氰酸酯等。
另一方面,作为具有羟基的丙烯酸酯化合物,可列举出例如(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯、1,5-戊二醇单(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇单(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇单(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇单(甲基)丙烯酸酯等二元醇的单(甲基)丙烯酸酯;三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸双(2-(甲基)丙烯酰氧乙基)羟乙酯等三元醇的单或二(甲基)丙烯酸酯、或者用ε-己内酯将它们的一部分醇性羟基改性而成的含有羟基的单及二(甲基)丙烯酸酯;季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等具有1官能的羟基和3官能以上的(甲基)丙烯酰基的化合物、或者进一步用ε-己内酯将该化合物改性而成的含有羟基的多官能(甲基)丙烯酸酯;二丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯等具有氧化亚烷基链的(甲基)丙烯酸酯化合物;聚乙二醇-聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚氧化亚丁基-聚氧化亚丙基单(甲基)丙烯酸酯等具有嵌段结构的氧亚烷基链的(甲基)丙烯酸酯化合物;聚(乙二醇-四亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇-四亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯等具有无规结构的氧化亚烷基链的(甲基)丙烯酸酯化合物等。
前述的脂肪族多异氰酸酯化合物或芳香族多异氰酸酯化合物与具有羟基的丙烯酸酯化合物的反应可以在氨基甲酸酯化催化剂的存在下,利用常规方法来进行。关于可在这里使用的氨基甲酸酯化催化剂,具体而言,可列举出吡啶、吡咯、三乙基胺、二乙基胺、二丁基胺等胺类;三苯基膦、三乙基膦等膦类;二月桂酸二丁基锡、三月桂酸辛基锡、二乙酸辛基锡、二乙酸二丁基锡、辛酸锡等有机锡化合物;辛酸锌等有机金属化合物。
在这些氨基甲酸酯丙烯酸酯树脂中,尤其是脂肪族多异氰酸酯化合物与具有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物反应而得到的树脂的固化涂膜从透明性优异、且对活性能量射线的灵敏度良好、固化性优异的观点出发是优选的。
其次,不饱和聚酯树脂是通过α,β-不饱和二元酸或其酸酐、芳香族饱和二元酸或其酸酐和二醇类的缩聚得到的固化性树脂,作为α,β-不饱和二元酸或其酸酐,可列举出马来酸、马来酸酐、富马酸、衣康酸、柠康酸、氯代马来酸和它们的酯等。作为芳香族饱和二元酸或其酸酐,可列举出邻苯二甲酸、邻苯二甲酸酐、间苯二甲酸、对苯二甲酸、硝基邻苯二甲酸、四氢邻苯二甲酸酐、内亚甲基四氢邻苯二甲酸酐、卤代邻苯二甲酸酐和它们的酯等。作为脂肪族或者脂环族饱和二元酸,可列举出乙二酸、丙二酸、丁二酸、己二酸、癸二酸、壬二酸、戊二酸、六氢邻苯二甲酸酐及它们的酯等。作为二醇类,可列举出乙二醇、丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、新戊二醇、三乙二醇、四乙二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、双酚A、氢化双酚A、乙二醇碳酸酯、2,2-二(4-羟基丙氧基二苯基)丙烷等;另外,环氧乙烷、环氧丙烷等氧化物同样也可以使用。
其次,作为环氧乙烯酯树脂,可列举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂等使环氧树脂的环氧基与(甲基)丙烯酸反应而得到的环氧乙烯酯树脂。
另外,作为含有马来酰亚胺基的树脂,可列举出:将N-羟乙基马来酰亚胺与异佛尔酮二异氰酸酯氨基甲酸酯化而得到的2官能马来酰亚胺氨基甲酸酯化合物、将马来酰亚胺基乙酸与聚四亚甲基二醇酯化而得到的2官能马来酰亚胺酯化合物、将马来酰亚胺己酸与季戊四醇的四环氧乙烷加成物酯化而得到的4官能马来酰亚胺酯化合物、将马来酰亚胺基乙酸与多元醇化合物酯化而得到的多官能马来酰亚胺酯化合物等。这些活性能量射线固化型树脂可以单独使用,也可以组合使用两种以上。
作为前述活性能量射线固化性单体,例如可以列举出:乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、数均分子量为150~1000的范围的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、数均分子量为150~1000的范围的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸酯新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸异硬脂酯等(甲基)丙烯酸脂肪族烷基酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、3-氯-2-羟丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸2-丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(二乙氨基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(二甲氨基)乙酯、γ-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、苯氧基二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丁二烯(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丁二醇(甲基)丙烯酸酯、聚苯乙烯乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸环己酯、二环戊基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、甲氧基化环癸三烯(甲基)丙烯酸酯、苯基(甲基)丙烯酸酯;马来酰亚胺、N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-丙基马来酰亚胺、N-丁基马来酰亚胺、N-己基马来酰亚胺、N-辛基马来酰亚胺、N-十二烷基马来酰亚胺、N-硬脂基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、2-马来酰亚胺乙基-乙基碳酸酯、2-马来酰亚胺乙基-丙基碳酸酯、N-乙基-(2-马来酰亚胺乙基)氨基甲酸酯、N,N-六亚甲基双马来酰亚胺、聚丙二醇-双(3-马来酰亚胺丙基)醚、双(2-马来酰亚胺乙基)碳酸酯、1,4-二马来酰亚胺环己烷等马来酰亚胺类等。
其中,尤其从固化涂膜的硬度优异的观点出发,优选三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯。这些活性能量射线固化性单体可以单独使用,也可以组合使用两种以上。
前述的活性能量射线固化型组合物可以在涂布于基材上后通过照射活性能量射线来制成固化涂膜。该活性能量射线是指紫外线、电子束、α射线、β射线、γ射线这样的电离辐射线。在照射紫外线作为活性能量射线来制成固化涂膜时,优选在该含氟固化性树脂或活性能量射线固化性型组合物中添加光聚合引发剂来提高固化性。另外,如果需要还可以进一步添加光敏化剂来提高固化性。另一方面,在使用电子束、α射线、β射线、γ射线这样的电离辐射线时,即使不使用光聚合引发剂、光敏化剂也可迅速固化,因此不需要特别添加光聚合引发剂、光敏化剂。
作为前述光聚合引发剂,可举出分子内裂解型光聚合引发剂及夺氢型光聚合引发剂。作为分子内裂解型光聚合引发剂,例如可列举出:二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯偶酰二甲基缩酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基(2-羟基-2-丙基)酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-2-吗啉基(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁酮等苯乙酮系化合物;苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻异丙基醚等苯偶姻类;2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰)苯基氧化膦等酰基氧化膦系化合物;苯偶酰、苯甲酰甲酸甲酯等。
另一方面,作为夺氢型光聚合引发剂,可列举出例如二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯-4-苯基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、羟基二苯甲酮、4-苯甲酰-4’-甲基-二苯基硫醚、丙烯酰化二苯甲酮、3,3’,4,4’-四(叔丁基过氧化羰基)二苯甲酮、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮等二苯甲酮系化合物;2-异丙基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二氯噻吨酮等噻吨酮系化合物;米蚩酮、4,4’-二乙氨基二苯甲酮等氨基二苯甲酮系化合物;10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、9,10-菲醌、樟脑醌等。
在前述光聚合引发剂中,从与活性能量射线固化型组合物中的前述活性能量射线固化型树脂及活性能量射线固化性单体的相容性优异的观点出发,优选1-羟基环己基苯基酮及二苯甲酮,特别优选1-羟基环己基苯基酮。这些光聚合引发剂可以单独使用,也可以组合使用两种以上。
另外,作为前述光敏化剂,例如可列举出:脂肪族胺、芳香族胺等胺类;邻甲苯基硫脲等脲类;二乙基二硫代磷酸钠、s-苄基异硫脲-对甲苯硫酸盐等硫化合物等。
关于这些光聚合引发剂及光敏化剂的用量,相对于活性能量射线固化型组合物中的不挥发成分100质量份,分别优选为0.01~20质量份、更优选为0.1~15质量%、进一步优选为0.3~7质量份。
另外,在前述涂料用组合物中可以根据需要适宜添加有机溶剂;颜料、染料、碳等着色剂;二氧化硅、二氧化钛、氧化锌、氧化铝、氧化锆、氧化钙、碳酸钙等无机粉末;高级脂肪酸、丙烯酸(酯)树脂、酚醛树脂、聚酯树脂、聚苯乙烯树脂、氨基甲酸酯树脂、尿素树脂、蜜胺树脂、醇酸树脂、环氧树脂、聚酰胺树脂、聚碳酸酯树脂、石油树脂、氟树脂(PTFE(聚四氟亚甲基)等)、聚乙烯、聚丙烯等各种树脂微粉末;抗静电剂、消泡剂、粘度调节剂、耐光稳定剂、耐候稳定剂、耐热稳定剂、抗氧化剂、防锈剂、增滑剂、蜡、光泽修饰剂、脱模剂、增容剂、导电调节剂、分散剂、分散稳定剂、增稠剂、防沉剂、有机硅系或者烃系表面活性剂等各种添加剂。
前述有机溶剂在适当调节前述涂料组合物的溶液粘度方面是有用的,尤其是在用于进行薄膜涂布时,膜厚的调节会变得容易。作为可以在这里使用的有机溶剂,例如可列举出甲苯、二甲苯等芳香族烃;甲醇、乙醇、异丙醇、叔丁醇等醇类;乙酸乙酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯等酯类;甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类等。这些溶剂可以单独使用,也可以组合使用两种以上。
另外,前述的涂料组合物的涂覆方法会根据用途不同而不同,例如可列举出使用凹版涂布机、辊涂布机、逗点涂布机、刮刀涂布机、气刀涂布机、幕帘式涂布机、辊舐涂布机、喷淋涂布机、轮式涂布机(Wheeler coater)、旋转涂布机、浸渍涂布机、丝网印刷、喷涂机、涂膜器、棒涂机、静电涂装等的涂布方法或者使用各种模具的成形方法等。
前述感光性树脂组合物是通过照射可见光、紫外光等光,树脂的溶解性、粘度、透明度、折射率、传导率(conductivity)、离子透过性等物性发生变化的组合物。在该感光性树脂组合物中,尤其是抗蚀剂组合物(光刻抗蚀剂组合物、滤色器用的彩色抗蚀剂组合物等)要求高度的流平性。通常,与半导体或者液晶相关的光刻法中,一般通过旋转涂布在硅晶元或者蒸镀有各种金属的玻璃基板上以1~2μm左右的厚度涂布抗蚀剂组合物。此时,涂层膜厚的不均会造成半导体、液晶元件的品质降低、缺陷,本发明的氟系表面活性剂通过用作该感光性树脂组合物的添加剂可以借助其高度的流平性形成均一的涂膜,因此能够提高半导体、液晶元件的生产率、使得高功能化等成为可能。
通常,抗蚀剂组合物含有表面活性剂和光致抗蚀剂,该光致抗蚀剂含有(1)碱可溶性树脂、(2)辐射线感应性物质(感光性物质)、(3)溶剂、以及根据需要而包含的(4)其他的添加剂。
作为在本发明的抗蚀剂组合物中使用的(1)碱可溶性树脂,可列举出对于作为在抗蚀剂图案化时使用的显像液的碱性溶液可溶的树脂。作为前述碱可溶性树脂例子,可列举出将选自苯酚、对甲酚、二甲苯酚、间苯二酚、间苯三酚、氢醌等芳香族羟基化合物以及它们的烷基取代或者卤素取代芳香族化合物中的至少一种物质与甲醛、乙醛、苯甲醛等醛化合物缩合而得到的酚醛清漆树脂、邻乙烯基苯酚、间乙烯基苯酚、对乙烯基苯酚、α-甲基乙烯基苯酚等乙烯基苯酚化合物以及它们的卤素取代化合物的聚合物或者共聚物、丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羟乙等丙烯酸系或甲基丙烯酸系聚合物或共聚物、聚乙烯醇、进而借助前述各种树脂的一部分羟基导入醌二叠氮基、萘醌叠氮基、芳香族叠氮基、芳香族肉桂酰基等辐射线感应性基团而获得的改性树脂等。这些碱可溶性树脂可以单独使用,也可以组合使用两种以上。
进而,作为碱可溶性树脂,可以使用在分子中包含羧酸、磺酸等的酸性基团的氨基甲酸酯树脂,另外,还可以将该氨基甲酸酯树脂与前述的碱可溶性树脂组合使用。
作为在本发明的抗蚀剂组合物中使用的(2)辐射线感应性物质(感光性物质),只要是通过与前述碱可溶性树脂混合并照射紫外线、远紫外线、准分子激光、X线、电子束、离子线、分子束、γ线等而使对碱可溶性树脂的显像液的溶解性发生变化的物质就可以使用。
作为上述辐射线感应性物质,可列举出醌二叠氮系化合物、重氮系化合物、二叠氮系化合物、鎓盐化合物、卤代有机化合物、卤代有机化合物与有机金属化合物的混合物、有机酸酯化合物、有机酸酰胺化合物、有机酸酰亚胺化合物、以及日本特开昭59-152号公报所记载的聚(烯烃磺酸盐)化合物等。
作为前述醌二叠氮系化合物,例如可列举出1,2-苯醌叠氮-4-磺酸酯、1,2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、1,2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、2,1-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、2,1-萘醌二叠氮-5-磺酸酯、此外还可列举出1,2-苯醌叠氮-4-磺酰氯、1,2-萘醌二叠氮-4-磺酰氯、1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯、2,1-萘醌二叠氮-4-磺酰氯、2,1-萘醌二叠氮-5-磺酰氯等醌二叠氮衍生物的磺酰氯等。
作为前述重氮化合物,可列举出:对重氮二苯胺与甲醛或者乙醛的缩合物的盐,例如属于六氟磷酸盐、四氟硼酸盐、高氯酸盐或者高碘酸盐与上述缩合物的反应产物的重氮树脂无机盐、属于USP3300309号说明书所记载那样的、上述缩合物和磺酸类之间的反应产物的重氮树脂有机盐等。
作为前述叠氮化合物以及二叠氮化物,可列举出日本特开昭58-203438号公报中记载的叠氮查尔酮酸、二叠氮苄叉基甲基环己酮类以及叠氮肉桂基亚苯乙酮类、日本化学会刊No.12、p1708-1714(1983年)记载的芳香族叠氮化合物或者芳香族二叠氮化物化合物等。
作为前述卤代有机化合物,只要是有机化合物的卤化物就可以使用,作为具体例子,可以列举出含有卤素的噁二唑系化合物、含有卤素的三嗪系化合物、含有卤素的苯乙酮系化合物、含有卤素的二苯甲酮系化合物、含有卤素的亚砜系化合物、含有卤素的砜系化合物、含有卤素的噻唑系化合物、含有卤素的噁唑系化合物、含有卤素的三唑系化合物、含有卤素的2氢-吡喃-2酮系化合物、含有卤素的脂肪族烃系化合物、含有卤素的芳香族烃系化合物、除此之外的含有卤素的杂环状化合物、磺苯基卤(Sulfenyl halide)系化合物等各种化合物,进而例如三(2,3-二溴丙基)磷酸酯、三(2,3-二溴-3-氯丙基)磷酸酯、氯四溴甲烷、六氯苯、六溴苯、六溴环十二烷、六溴联苯、三溴苯基烯丙基醚、四氯双酚A、四溴双酚A、双(溴乙基醚)四溴双酚A、双(氯乙基醚)四氯双酚A、三(2,3-二溴丙基)异氰脲酸酯、2,2-双(4-羟基-3,5-二溴苯基)丙烷、2,2-双(4-羟基乙氧基-3,5-二溴苯基)丙烷等作为卤素系阻燃剂使用的化合物、二氯苯基三氯乙烷等作为有机氯系农药使用的化合物等。
作为前述有机酸酯,可列举出羧酸酯、磺酸酯等。另外,作为上述有机酸酰胺可列举出羧酸酰胺、磺酸酰胺等。进而,作为上述有机酸酰亚胺,可列举出羧酸酰亚胺、磺酸酰亚胺等。这些辐射线感应性物质可以单独使用、也可以组合使用两种以上。
在本发明的抗蚀剂组合物中,关于辐射线感应性物质的配混比例,相对于碱可溶性树脂100质量份,优选为1~100质量份的范围、更优选为3~50质量份的范围。
作为在本发明的抗蚀剂组合物中使用的(3)溶剂,例如可列举出:丙酮、甲乙酮、环己酮、环戊酮、环庚酮、2-庚酮、甲基异丁酮、丁内酯等酮类;甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、戊醇、庚醇、辛醇、壬醇、癸醇等醇类;乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二噁烷等醚类;乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚等醇醚类;蚁酸乙酯、蚁酸丙酯、蚁酸丁酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸丙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、丙酸丙酯、丙酸丁酯、酪酸甲酯、酪酸乙酯、酪酸丁酯、酪酸丙酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯等酯类、2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯、2-氧丙酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯等单羧酸酯类;溶纤醋酸酯、甲基溶纤醋酸酯、乙基溶纤醋酸酯、丙基溶纤醋酸酯、丁基溶纤醋酸酯等溶纤酯类;丙二醇、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单乙醚醋酸酯、丙二醇单丁醚醋酸酯等丙二醇类;二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙基醚等二乙二醇类;三氯乙烯、氟利昂溶剂、氢氯氟烃(HCFC)、氢氟烃(HFC)等卤化烃类;全氟辛烷这样的全氟化溶剂类;甲苯、二甲苯等芳香族类;二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等极性溶剂等已出版书籍《溶剂袖珍手册》(有机合成化学协会编,Ohmsha,Ltd.)中所记载的溶剂。这些溶剂可以单独使用、也可以组合使用两种以上。
作为本发明的抗蚀剂组合物的涂布方法,可列举出旋转涂布法、辊涂法、浸渍涂布法、喷涂法、刮板涂布法、狭缝涂布法、幕涂法、凹版涂布法等方法,涂布前通过滤器对抗蚀剂组合物进行过滤可以去除固体杂质。
如上所述,本发明的氟系表面活性剂作为涂层组合物(涂料用组合物、感光性树脂组合物等)的添加剂是有用的。作为本发明的氟系表面活性剂的应用例,可列举出液晶显示器(以下简称为“LCD”。)、等离子体显示器(以下简称为“PDP”。)、有机EL显示器(以下简称为“OELD”。)等各种显示器画面用硬涂层材料、防眩光(AG:防眩)涂层材料或者防反射(LR)涂层材料;用于形成LCD等的滤色器(以下简称为“CF”。)的RGB的各像素的彩色抗蚀剂、喷墨墨、印刷墨或者涂料;用于形成LCD等的CF的黑色矩阵的黑色抗蚀剂、喷墨墨、印刷墨或者涂料;在LCD等的CF中使用的保护CF表面的透明保护膜用涂料;OELD等像素隔壁用树脂组合物;用于半导体制造的光刻抗蚀剂;CD、DVD、蓝光光盘等光学记录介质用硬涂层材料;移动电话壳体用涂料或者硬涂层材料;移动电话的画面用硬涂层材料;嵌入模具(IMD、IMF)用转印膜用硬涂层材料;家用电器的壳体等各种塑料成形品用涂料或者涂层材料化妆板等各种建材用印刷墨或者涂料;住宅的窗玻璃用涂层材料;家具等木工用涂料;人工/合成皮革用涂层材料;FRP浴槽用涂料或者涂层材料;平版印刷版(PS版)用感光材料;凹版印刷用墨、喷墨墨;除此之外的光刻制造工序等的单层、或者多层涂层组合物等。通过在这些涂层组合物中添加本发明的氟系表面活性剂,可以使其表现出没有针孔、橘皮、涂布不均匀、收缩等的优异的平滑性。
进而,本发明的氟系表面活性剂配混在含有氟树脂的涂料、涂层材料中时,通过聚(全氟亚烷基醚)链的作用会提高该氟树脂的分散性,不单是流平性,还可以期待作为氟树脂的分散剂的功能。
实施例
以下列举实施例以及比较例来进一步详细说明本发明。另外,在下述实施例中,重均分子量(Mw)以及数均分子量(Mn)是按照下述的条件通过GPC测定求出的。
[GPC测定条件]
测定装置:TOSOH Corporation制造“HLC-8220GPC”、
柱:TOSOH Corporation制造保护柱“HHR-H”(6.0mmI.D.×4cm)
+TOSOH Corporation制造“TSK-GEL GMHHR-N”(7.8mmI.D.×30cm)
+TOSOH Corporation制造“TSK-GEL GMHHR-N”(7.8mmI.D.×30cm)
+TOSOH Corporation制造“TSK-GEL GMHHR-N”(7.8mmI.D.×30cm)
+TOSOH Corporation制造“TSK-GEL GMHHR-N”(7.8mmI.D.×30cm)
检测器:ELSD(Ortec Ltd.制造“ELSD2000”)
数据处理:TOSOH Corporation制造“GPC-8020Model II数据解析版本4.30”
测定条件:柱温度 40℃
展开溶剂 四氢呋喃(THF)
流速 1.0ml/分钟
试样:将以树脂固体成分换算计为1.0质量%的四氢呋喃溶液用微孔滤膜过滤后的样品(5μl)。
标准试样:根据前述“GPC-8020Model II数据解析版本4.30”的测定手册,使用分子量为已知的下述单分散聚苯乙烯。
(单分散聚苯乙烯)
TOSOH Corporation制造“A-500”
TOSOH Corporation制造“A-1000”
TOSOH Corporation制造“A-2500”
TOSOH Corporation制造“A-5000”
TOSOH Corporation制造“F-1”
TOSOH Corporation制造“F-2”
TOSOH Corporation制造“F-4”
TOSOH Corporation制造“F-10”
TOSOH Corporation制造“F-20”
TOSOH Corporation制造“F-40”
TOSOH Corporation制造“F-80”
TOSOH Corporation制造“F-128”
TOSOH Corporation制造“F-288”
TOSOH Corporation制造“F-550”
(合成例1)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中加入下述式(a2-1-1)所表示的两末端具有羟基的全氟聚醚化合物20质量份、作为溶剂的二异丙醚20质量份、作为阻聚剂的对甲氧基苯酚0.02质量份以及作为中和剂的三乙基胺3.1质量份,在空气气流下开始搅拌,一边使烧瓶内保持在10℃一边用1小时滴加丙烯酰氯2.7质量份。滴加结束后,在10℃下搅拌1小时,升温并在30℃搅拌1小时,然后升温至50℃并搅拌10小时,由此进行反应,通过气相色谱测定确认丙烯酰氯的消失。接着,追加作为溶剂的二异丙醚40质量份后,重复3次基于如下方法的洗涤:混合离子交换水80质量份并进行搅拌,然后静置使水层分离并去除。接着,添加作为阻聚剂的对甲氧基苯酚0.02质量份,添加作为脱水剂的硫酸镁8质量份并静置1天,由此完全脱水后,过滤分离脱水剂。
(式中,X为全氟亚甲基以及全氟亚乙基,平均每1分子中存在7个全氟亚甲基、8个全氟亚乙基、氟原子的个数为46。另外,基于GPC的数均分子量为1500)。
接着,在减压下蒸馏除去溶剂,由此得到下述式(A-1-1)所表示的具有聚(全氟亚烷基醚)链并在其两末端具有丙烯酰基的聚合性单体。
(式中,X为全氟亚甲基以及全氟亚乙基,平均每1分子中存在7个全氟亚甲基、8个全氟亚乙基、氟原子的个数为46。)
(合成例2)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中加入下述式(B1’-1)所表示的环氧乙烷与环氧丙烷的嵌段共聚物30质量份、丙烯酸2.8质量份、作为溶剂的甲苯64质量份、作为阻聚剂的吩噻嗪0.03质量份以及作为催化剂的甲磺酸0.6质量份,在空气气流下开始搅拌,加热至120℃、回流脱水。确认有0.63质量份的脱水之后,冷却至65℃,用三乙基胺进行中和。中和后,升温至85℃,加入离子交换水2.3质量份,进行分液,分离出下层。反复实施洗涤操作直至测定下层的pH时该pH为7以上。冷却至30℃后,用甲苯稀释,得到包含55质量%下述式(B1-1)所表示的聚合性单体的甲苯溶液。
(实施例1)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮297.5质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至105℃。接着,将由合成例1中得到的聚合性单体59.5质量份、使聚丙二醇单甲基丙烯酸酯(日油株式会社制造“BLEMMER PP-1000”,氧化亚丙基单元的重复数:平均6)238质量份溶解在甲基异丁酮154.4质量份中而得到的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、使叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯44.6质量份溶解在甲基异丁酮100.6质量份中而得到的聚合引发剂溶液这3种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在105℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在105℃下搅拌10小时,然后在减压下蒸馏除去溶剂,从而得到作为氟系表面活性剂的氟系共聚物(1)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(1)的分子量,结果数均分子量为2500、重均分子量为6000。另外,使用的原料单体中的含氟率为11质量%。
(实施例2)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮112.4质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至105℃。接着,将由合成例1中得到的聚合性单体59.5质量份、将聚丙二醇单甲基丙烯酸酯(日油株式会社制造“BLEMMER PP-1000”,氧化亚丙基单元的重复数:平均6)238质量份溶解于甲基异丁酮167.5质量份中而得到的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、使叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯44.6质量份溶解在甲基异丁酮83.7质量份中而得到的聚合引发剂溶液这3种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在105℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在105℃下搅拌10小时,然后在减压下蒸馏除去溶剂,从而得到作为氟系表面活性剂的氟系共聚物(2)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(2)的分子量,结果数均分子量为3000、重均分子量为12000。另外,使用的原料单体中的含氟率为11质量%。
(实施例3)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮100.3质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至105℃。接着,将由合成例1中得到的聚合性单体20质量份、混合有合成例2中得到的聚合性单体溶液145.5质量份(以单体计为80质量份)的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、使叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯15质量份溶解在甲基异丁酮20质量份中而得到的聚合引发剂溶液这3种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在105℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在105℃下搅拌10小时,然后在减压下蒸馏除去溶剂,从而得到作为氟系表面活性剂的氟系共聚物(3)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(3)的分子量,结果数均分子量为5500、重均分子量为25000。另外,使用的原料单体中的含氟率为11质量%。
(实施例4)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮143.4质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至105℃。接着,将由合成例1中得到的聚合性单体68.1质量份、使聚丙二醇单甲基丙烯酸酯(日油株式会社制造“BLEMMER PP-1000”,氧化亚丙基单元的重复数:平均6)57.9质量份溶解在甲基异丁酮68.5质量份中而得到的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、使叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯18.9质量份溶解在甲基异丁酮21.9质量份中而得到的聚合引发剂溶液这3种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在105℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在105℃下搅拌10小时,然后在减压下蒸馏除去溶剂,从而得到作为氟系表面活性剂的氟系共聚物(4)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(4)的分子量,结果数均分子量为2600、重均分子量为7000。另外,使用的原料单体中的含氟率为30质量%。
(实施例5)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮141.3质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至105℃。接着,将由合成例1中得到的聚合性单体68.5质量份、使聚乙二醇单甲基丙烯酸酯(日油株式会社制造“BLEMMER PE-350”,氧化亚乙基单元的重复数:平均8)58.4质量份溶解在甲基异丁酮72.4质量份中而得到的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、使叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯19质量份溶解在甲基异丁酮22质量份中而得到的聚合引发剂溶液这3种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在105℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在105℃下搅拌10小时,然后在减压下蒸馏除去溶剂,从而得到作为氟系表面活性剂的氟系共聚物(5)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(5)的分子量,结果数均分子量为1800、重均分子量为20500。另外,使用的原料单体中的含氟率为30质量%。
(实施例6)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮148.3质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至105℃。接着,将由合成例1中得到的聚合性单体70质量份、使聚乙二醇单甲基丙烯酸酯(日油株式会社制造“BLEMMER PE-200”,氧化亚乙基单元的重复数:平均4.5)59.6质量份溶解在甲基异丁酮71质量份中而得到的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、使叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯19.4质量份溶解在甲基异丁酮21.3质量份中而得到的聚合引发剂溶液这3种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在105℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在105℃下搅拌10小时,然后在减压下蒸馏除去溶剂,从而得到作为氟系表面活性剂的氟系共聚物(6)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(6)的分子量,结果数均分子量为1800、重均分子量为11500。另外,使用的原料单体中的含氟率为30质量%。
(实施例7)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮152.7质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至105℃。接着,将由合成例1中得到的聚合性单体70质量份、使聚丙二醇单甲基丙烯酸酯(日油株式会社制造“BLEMMER PP-800”,氧化亚丙基单元的重复数:平均13)59.6质量份溶解在甲基异丁酮66.5质量份中而得到的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、使叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯19.4质量份溶解在甲基异丁酮21.5质量份中而得到的聚合引发剂溶液这3种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在105℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在105℃下搅拌10小时之后,然后在减压下蒸馏除去溶剂,从而得到作为氟系表面活性剂的氟系共聚物(7)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(7)的分子量,结果数均分子量为2200、重均分子量为4200。另外,使用的原料单体中的含氟率为30质量%。
(实施例8)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮146.6质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至105℃。接着,将由合成例1中得到的聚合性单体69.9质量份、使甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制造“NK Ester M-230G”,氧化亚丙基单元的重复数:平均23)45.9质量份和二环戊基丙烯酸酯(日立化成株式会社制造“FANCRYL FA-513A”)13.7质量份溶解在甲基异丁酮72.2质量份中而得到的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、使叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯19.4质量份溶解在甲基异丁酮21.6质量份中而得到的聚合引发剂溶液这3种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在105℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在105℃下搅拌10小时,然后在减压下蒸馏除去溶剂,从而得到作为氟系表面活性剂的氟系共聚物(8)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(8)的分子量,结果数均分子量为3300、重均分子量为8800。另外,使用的原料单体中的含氟率为30质量%。
(比较例1)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮134质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至110℃。接着,将使全氟辛基乙基丙烯酸酯(以下,简称为“PFOEA”。)30.2质量份以及聚丙二醇单甲基丙烯酸酯(日油株式会社制造“BLEMMER PP-1000”、氧化亚丙基单元的重复数:平均6)70.4质量份溶解在甲基异丁酮50.3质量份中而得到的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、将叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯7.5质量份溶解在甲基异丁酮50.3质量份中而得到的聚合引发剂溶液这两种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在110℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在110℃下搅拌10小时得到氟系共聚物(9)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(9)的分子量,结果数均分子量为2400、重均分子量为4000。另外,使用的原料单体中的含氟率为19质量%。
(比较例2)
在具备搅拌装置、温度计、冷凝管、滴加装置的玻璃烧瓶中,加入作为溶剂的甲基异丁酮126.3质量份,在氮气气流下边搅拌边升温至110℃。接着,将使PFOEA50.5质量份以及聚丙二醇单甲基丙烯酸酯(日油株式会社制造“BLEMMER PP-1000”、氧化亚丙基单元的重复数:平均6)50.5质量份溶解在甲基异丁酮12.6质量份总而得到的单体溶液、以及作为自由基聚合引发剂的、使叔丁基过氧化-2-乙基己酸酯5.1质量份溶解在甲基异丁酮12.6质量份中而得到的聚合引发剂溶液这两种滴加液分别置于不同的滴加装置中,在将烧瓶内保持在110℃的同时用2小时进行滴加。滴加结束后,在110℃下搅拌10小时,得到氟系共聚物(10)。用GPC(聚苯乙烯换算分子量)测定该氟系共聚物(10)的分子量,结果数均分子量为3500、重均分子量为6500。另外,使用的原料单体中的含氟率为31质量%。
将前述实施例1~8以及比较例1、2中得到的氟系共聚物(1)~(10)的原料的聚合性单体的种类、原料中的含氟率、数均分子量(Mn)、重均分子量(Mw)以及生物体蓄积安全性归纳于表1中。需要说明的是,生物体蓄积安全性按照下述的判断基准评价。
[生物体蓄积安全性的评价]
按照以下的判断基准,评价各氟系表面活性剂的生物体蓄积安全性。
Y:不含碳原子数8以上的全氟烷基,对生物体的蓄积可能性低、安全性高。
N:含有碳原子数8以上的全氟烷基,对生物体的蓄积可能性高、安全性低。
[表1]
需要说明的是,表1中的“PFPE”表示合成例1中得到的具有(全氟亚烷基醚)链且在其两末端具有丙烯酰基的聚合性单体。另外,关于具有氧化亚烷基的聚合性单体的种类,只记载了氧化亚烷基部分,“PO”表示氧化亚丙基,“EO”表示氧化亚乙基,括号内表示其重复数(平均)。
(实施例4~6以及比较例3~5)
使用在上述实施例1~8以及比较例1、2中得到的氟系共聚物(1)~(10)作为氟系表面活性剂,进行下述的测定以及评价。
[静态表面张力的测定]
使用自动平衡式电子表面张力计(协和科学株式会社制造“ESB-IV型”),以相对于作为抗蚀剂组合物中一般使用的溶剂的丙二醇单甲基醚醋酸酯(以下简称为“PGMEA”。)、氟系表面活性剂的固体成分为0.1质量%的方式制备溶液,对于该溶液,在23℃下通过使用铂板的威廉法(Wilhelmy法)测定静态表面张力。需要说明的是,只有PGMEA的静态表面张力为27.6mN/m2(参考例)。
[评价用涂料组合物的基础组合物的制备]
作为紫外线固化型涂料组合物,将5官能无黄变型氨基甲酸酯丙烯酸酯50质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯50质量份、醋酸丁酯25质量份、光聚合引发剂(BASF Japan Ltd.制造“IRGACURE184”;1-羟基环己基苯基酮)5质量份、作为溶剂的甲苯54质量份、2-丙醇28质量份、乙酸乙酯28质量份以及丙二醇单甲醚28质量份均匀混合,从而得到评价用涂料组合物的基础组合物。
[评价用涂料组合物的制备]
在前述得到的基础组合物268质量份中分别添加1质量份在实施例1~3以及比较例1、2中得到的氟系共聚物(1)~(5)的5种氟系表面活性剂,均匀地混合之后,用0.1μm聚四氟乙烯(PTFE)制滤器精密过滤,得到评价用涂料组合物。另外,还准备什么也不添加只有基础组合物的涂料组合物作为比较例5。
[涂布性的评价]
将上述得到的评价用涂料组合物在10cm×10cm的铬处理玻璃基板上,以转速500rpm旋转涂布后,在60℃下加热干燥5分钟,从而得到具有涂膜的玻璃基板。对得到的涂膜表面用钠灯进行目视观察,作为涂布性的评价,按照以下的基准对有无涂膜表面的凹凸(涂布不均匀)的发生进行评价。
(涂布性:涂布不均匀)
AA:没有观察到涂布不均匀。
A:只观察到少量的涂布不均匀(涂布不均匀的面积小于整体的10%)。
B:观察到一部分涂布不均匀(涂布不均匀的面积为整体的10%以上且不足30%)。
C:观察到许多涂布不均匀(涂布不均匀的面积为整体的30%以上)。
将上述得到的测定以及评价的结果示于表2。
[表2]
从表2中所示的实施例4~11的结果可知,将本发明的实施例1~8的氟系表面活性剂以0.1质量%的浓度添加至作为溶剂的PGMEA中而得到的溶液的静态表面张力为18.8~22.8mN/m2,由PGMEA单独的静态表面张力27.6mN/m2大幅降低、流平性得到提高。另外可知,使用本发明的实施例1~3的氟系表面活性剂的抗蚀剂组合物的涂布性良好、还可以抑制涂层不均匀的发生。
另一方面,比较例1的氟系表面活性剂是将具有碳原子数8的全氟烷基的单体作为原料的例子。由于该氟系表面活性剂具有碳原子数8的全氟烷基,因此存在对生物体的蓄积可能性高、安全性低的问题。另外可知,含氟率为19质量%时,尽管比使用本发明的含氟率为11质量%的氟系共聚物(1)~(3)的氟系表面活性剂(实施例4~6)高,但静态表面张力的降低量却少。
比较例2的氟系表面活性剂为将具有碳原子数8的全氟烷基的单体作为原料、将含氟率设定为31质量%的例子。由于该氟系表面活性剂具有碳原子数8的全氟烷基,因此存在对生物体的蓄积可能性高、安全性低的问题。另外可知,与使用同程度的含氟率的本发明氟系共聚物(4)~(8)的氟系表面活性剂(实施例7~11)相比较,存在静态表面张力的低下少、产生涂布不均匀的问题。
比较例3为不使用氟系表面活性剂的例子,但可知流平性低、产生严重的涂布不均匀。
Claims (4)
1.一种氟系表面活性剂,其特征在于,其为将具有聚(全氟亚烷基醚)链并在其两末端具有聚合性不饱和基团的聚合性单体(A)、和具有氧化亚烷基以及聚合性不饱和基团的聚合性单体(B)作为必需的单体共聚而成的共聚物。
3.一种涂层组合物,其特征在于,其含有权利要求1或2所述的氟系表面活性剂。
4.一种抗蚀剂组合物,其含有权利要求1或2所述的氟系表面活性剂。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103805004A (zh) * | 2014-03-10 | 2014-05-21 | 北京中为三丰科技有限责任公司 | 一种超长耐候、耐盐雾的防腐防锈氟碳涂料 |
CN105705537A (zh) * | 2013-11-20 | 2016-06-22 | Dic株式会社 | 聚合性液晶组合物和使用该组合物制作的光学各向异性体、相位差膜、抗反射膜、液晶显示元件 |
CN105807563A (zh) * | 2016-05-16 | 2016-07-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光刻胶组合物及其制备方法和构图方法 |
CN107145037A (zh) * | 2017-07-07 | 2017-09-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种光刻胶组合物及制备方法 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013127611A (ja) * | 2011-11-14 | 2013-06-27 | Dic Corp | カラーレジスト組成物、カラーフィルター、液晶表示装置および有機el表示装置 |
JP2013173837A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Dic Corp | フッ素樹脂粒子の水分散体及びフッ素樹脂塗料 |
US11635688B2 (en) * | 2012-03-08 | 2023-04-25 | Kayaku Advanced Materials, Inc. | Photoimageable compositions and processes for fabrication of relief patterns on low surface energy substrates |
US8715904B2 (en) * | 2012-04-27 | 2014-05-06 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable composition |
JP2014065865A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Dic Corp | 重合性樹脂、カラーフィルター画素形成用組成物、カラーフィルター、液晶表示装置及び有機el表示装置。 |
JP6011215B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-10-19 | 日立化成株式会社 | 半導体基板パッシベーション膜形成用組成物、パッシベーション膜付半導体基板及びその製造方法、並びに太陽電池素子 |
US9126889B2 (en) | 2013-09-04 | 2015-09-08 | Honeywell International Inc. | Fluorosurfactants having improved biodegradability |
JP6198058B2 (ja) * | 2013-12-19 | 2017-09-20 | Dic株式会社 | 界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物 |
WO2015146334A1 (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-01 | Dic株式会社 | 手袋 |
US20170066208A1 (en) | 2015-09-08 | 2017-03-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography |
US10488753B2 (en) | 2015-09-08 | 2019-11-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate pretreatment and etch uniformity in nanoimprint lithography |
US10134588B2 (en) | 2016-03-31 | 2018-11-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint resist and substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography |
US10095106B2 (en) | 2016-03-31 | 2018-10-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Removing substrate pretreatment compositions in nanoimprint lithography |
US10620539B2 (en) | 2016-03-31 | 2020-04-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Curing substrate pretreatment compositions in nanoimprint lithography |
US10509313B2 (en) | 2016-06-28 | 2019-12-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint resist with fluorinated photoinitiator and substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography |
WO2018070438A1 (ja) * | 2016-10-12 | 2018-04-19 | 日産化学工業株式会社 | 耐光性ハードコート材 |
US10317793B2 (en) | 2017-03-03 | 2019-06-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate pretreatment compositions for nanoimprint lithography |
KR20210021955A (ko) | 2018-06-27 | 2021-03-02 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 불소계 공중합체, 활수성 표면개질제, 경화성 수지 조성물, 및 활수성 도막 |
CN115667338A (zh) * | 2020-07-30 | 2023-01-31 | 中国涂料株式会社 | 光固化性树脂组合物、固化被膜及带有固化被膜的成型品 |
CN116848464A (zh) * | 2021-02-17 | 2023-10-03 | 中央硝子株式会社 | 感光性树脂组合物、固化物、含氟树脂固化膜及显示器 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4440918A (en) * | 1982-01-18 | 1984-04-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Contact lens containing a fluorinated telechelic polyether |
WO2004018535A1 (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-04 | Seimi Chemical Co., Ltd. | フッ素系界面活性剤 |
JP2007186671A (ja) * | 2005-12-13 | 2007-07-26 | Agc Seimi Chemical Co Ltd | 界面活性剤および表面張力低下方法 |
JP2007262286A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング組成物 |
CN101321787A (zh) * | 2005-12-01 | 2008-12-10 | 3M创新有限公司 | 氟化表面活性剂 |
WO2009133770A1 (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | Dic株式会社 | 活性エネルギー線硬化型塗料組成物、その硬化物、及び新規硬化性樹脂 |
US20090295041A1 (en) * | 2006-06-30 | 2009-12-03 | E.I.Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor and process for preparing a stamp from the precursor |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL128965C (zh) | 1963-09-06 | |||
US4818801A (en) * | 1982-01-18 | 1989-04-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ophthalmic device comprising a polymer of a telechelic perfluoropolyether |
JPS58203438A (ja) | 1982-05-24 | 1983-11-26 | Hitachi Ltd | 微細パタ−ン形成方法 |
JPS59152A (ja) | 1982-06-25 | 1984-01-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 画像形成性樹脂組成物 |
US4569962A (en) * | 1983-09-19 | 1986-02-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Perfluoropolyether compositions which are soluble in non-fluorinated solvents |
JP4055217B2 (ja) | 1997-02-18 | 2008-03-05 | 大日本インキ化学工業株式会社 | フッ素系界面活性剤及びそれを使用した組成物 |
EP1411073B1 (en) * | 2001-06-27 | 2013-03-20 | Daikin Industries, Ltd. | Surface-treating agent composition and process for producing the same |
EP1449860A4 (en) * | 2001-10-03 | 2005-06-01 | Daikin Ind Ltd | NOVEL FLUOROPOLYMER, RESERVE COMPOSITIONS CONTAINING THE SAME, AND NOVEL FLUOROMONOMERS |
CN101326452B (zh) * | 2005-12-16 | 2011-09-07 | 富士胶片株式会社 | 滤色片用隔壁的制造方法、带有滤色片用隔壁的基板、显示元件用滤色片、以及显示装置 |
KR101763669B1 (ko) * | 2009-03-31 | 2017-08-01 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 유기 반도체 잉크 조성물 및 이를 사용한 유기 반도체 패턴 형성 방법 |
EP2554554B1 (en) * | 2010-03-31 | 2015-04-29 | DIC Corporation | Curable fluorine-containing resin and active energy ray curable composition using same |
-
2011
- 2011-06-28 KR KR1020127034030A patent/KR20130119853A/ko active Application Filing
- 2011-06-28 EP EP11800825.9A patent/EP2589636A4/en not_active Withdrawn
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- 2011-06-28 CN CN201180033318.4A patent/CN102971391B/zh active Active
- 2011-07-01 TW TW100123251A patent/TWI492957B/zh active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4440918A (en) * | 1982-01-18 | 1984-04-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Contact lens containing a fluorinated telechelic polyether |
WO2004018535A1 (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-04 | Seimi Chemical Co., Ltd. | フッ素系界面活性剤 |
CN101321787A (zh) * | 2005-12-01 | 2008-12-10 | 3M创新有限公司 | 氟化表面活性剂 |
JP2007186671A (ja) * | 2005-12-13 | 2007-07-26 | Agc Seimi Chemical Co Ltd | 界面活性剤および表面張力低下方法 |
JP2007262286A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング組成物 |
US20090295041A1 (en) * | 2006-06-30 | 2009-12-03 | E.I.Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor and process for preparing a stamp from the precursor |
WO2009133770A1 (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | Dic株式会社 | 活性エネルギー線硬化型塗料組成物、その硬化物、及び新規硬化性樹脂 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105705537A (zh) * | 2013-11-20 | 2016-06-22 | Dic株式会社 | 聚合性液晶组合物和使用该组合物制作的光学各向异性体、相位差膜、抗反射膜、液晶显示元件 |
TWI675057B (zh) * | 2013-11-20 | 2019-10-21 | 日商Dic股份有限公司 | 聚合性液晶組合物及使用該組合物製作之光學各向異性體、相位差膜、抗反射膜、液晶顯示元件 |
CN105705537B (zh) * | 2013-11-20 | 2020-07-07 | Dic株式会社 | 光学各向异性体、相位差膜、抗反射膜、液晶显示元件 |
CN103805004A (zh) * | 2014-03-10 | 2014-05-21 | 北京中为三丰科技有限责任公司 | 一种超长耐候、耐盐雾的防腐防锈氟碳涂料 |
CN105807563A (zh) * | 2016-05-16 | 2016-07-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光刻胶组合物及其制备方法和构图方法 |
CN105807563B (zh) * | 2016-05-16 | 2020-01-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光刻胶组合物及其制备方法和构图方法 |
CN107145037A (zh) * | 2017-07-07 | 2017-09-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种光刻胶组合物及制备方法 |
CN107145037B (zh) * | 2017-07-07 | 2020-05-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种光刻胶组合物及制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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