JP4544996B2 - フッ素系界面活性剤 - Google Patents

フッ素系界面活性剤 Download PDF

Info

Publication number
JP4544996B2
JP4544996B2 JP2004530578A JP2004530578A JP4544996B2 JP 4544996 B2 JP4544996 B2 JP 4544996B2 JP 2004530578 A JP2004530578 A JP 2004530578A JP 2004530578 A JP2004530578 A JP 2004530578A JP 4544996 B2 JP4544996 B2 JP 4544996B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
monomer
mass
copolymer
fluorine
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004530578A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2004018535A1 (ja
Inventor
俊治 尾高
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seimi Chemical Co Ltd
AGC Seimi Chemical Ltd
Original Assignee
Seimi Chemical Co Ltd
AGC Seimi Chemical Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seimi Chemical Co Ltd, AGC Seimi Chemical Ltd filed Critical Seimi Chemical Co Ltd
Publication of JPWO2004018535A1 publication Critical patent/JPWO2004018535A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4544996B2 publication Critical patent/JP4544996B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/22Esters containing halogen
    • C08F220/24Esters containing halogen containing perhaloalkyl radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/06Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polyethers, polyoxymethylenes or polyacetals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/062Polyethers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)

Description

本発明は、新規なフッ素系界面活性剤に関する。
フッ素系界面活性剤は、表面張力低下能力が高いため、塗膜の均一性および平滑性を向上させる目的で、塗料などコーティング分野で広く使用されている。しかし、フッ素系界面活性剤の人体への蓄積性が懸念されているのも事実である。人体への蓄積性を低下させるには水への溶解性を向上させることが必要であるが、その際には肝心な表面張力低下能力が低下するという問題があり、高い表面張力低下能力と水への高い溶解性の双方を満足するフッ素系界面活性剤が望まれていた。
本発明は、水への溶解性に優れ、かつ表面張力低下能力に優れるフッ素系界面活性剤を提供することを目的とするものである。
本発明者は、上記問題点を解決すべく鋭意検討した結果、フルオロアルキル基を有する一群の(メタ)アクリルエステル1種と、ポリオキシアルキレン結合を有する一群の(メタ)アクリルエステル2種の共重合体が、水への溶解性に優れ、かつ界面活性剤として非常に優れた表面張力低下能力を有することを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、下記単量体A、BおよびCを重合成分として共重合せしめた共重合体からなるフッ素系界面活性剤である。
単量体A: R−Q−OCOC(R)=CH
[ただし、単量体Aにおいて、Q、RおよびRは以下の意味を示す。
Q: −(CH−もしくは−CHCHC(CH)H−
ただしnは1〜3の整数を表す。
: 水素原子またはメチル基
: 炭素数1〜20のフルオロアルキル基。]
単量体B: HO(CO)l1(CO)m1(CO)n1COC(R)=CH
単量体C: CH=C(R)COO(CO)l2(CO)m2(CO)n2COC(R)=CH
[ただし、単量体BおよびCにおいて、
、R、R: 水素原子またはメチル基、
、m、n、l、m、n: 1〜100の整数。]
本発明のフッ素系界面活性剤は、水に対する溶解度が高いため人体への蓄積性が低く、なおかつ表面張力低下能力が高く、レベリング性等の特性に優れる。
本発明の共重合体の原料である単量体AにおけるRは、フルオロアルキル基(水素原子の1個以上がフッ素原子で置換されているアルキル基を示す)であれば特に制限はないが、製造の容易さや表面張力低下能力の優秀性からパーフルオロアルキル基(水素原子の全てがフッ素原子で置換されているアルキル基を示す)であることが好ましい。Rは炭素数4〜18のものが好ましく、特に炭素数4〜12のものが好ましい。
炭素数4〜12のパーフルオロアルキル基を有する単量体Aの具体例としては、以下のものが挙げられる。
A−1: C17CHCHOCOCH=CH
A−2: C17CHCHOCOC(CH)=CH
A−3: C1021CHCHOCOCH=CH
A−4: C1021CHCHOCOC(CH)=CH
A−5: C1225CHCHOCOCH=CH
A−6: C1225CHCHOCOC(CH)=CH
A−7: C13CHCHOCOCH=CH
A−8: C13CHCHOCOC(CH)=CH
A−9: C17CHCHCHOCOCH=CH
A−10: C17CHCHCHOCOC(CH)=CH
A−11: C17CHCHCH(CH)OCOCH=CH
A−12: C17CHCHCH(CH)OCOC(CH)=CH
A−13: CCHCHOCOCH=CH
A−14: CCHCHOCOC(CH)=CH
なお、本発明が前記具体例によって、何ら限定されるものではないことは勿論である。
本発明の共重合体の原料である単量体Bおよび単量体Cがポリオキシプロピレン基のみで構成され、例えば、ポリオキシエチレン基を含有しない場合には、共重合体の水への溶解性が著しく低下し、他方、ポリオキシエチレン基のみで構成され、例えば、ポリオキシプロピレン基を含有しない場合には、共重合体と他のポリマーや顔料との相溶性に問題が生じる場合がある。単量体Bおよび単量体Cはいずれも、異種のポリオキシアルキレン結合を有する必要、すなわち、2種以上のポリオキシアルキレン結合を有する必要がある。単量体Bおよび単量体Cにおいて、l,m,n、l,m,nは5〜60であることが好ましく、特に10〜40であることが好ましい。これらが同数である必要はない。
単量体Bの具体例としては、l、m、nが、それぞれ4〜10、8〜20、4〜10である(メタ)アクリレートが挙げられる。
B−1: HO(CO)(CO)(CO)COCH=CH
B−2: HO(CO)(CO)(CO)COC(CH)=CH
B−3: HO(CO)10(CO)20(CO)10COCH=CH
B−4: HO(CO)10(CO)20(CO)10COC(CH)=CH
B−5: HO(CO)20(CO)40(CO)20COCH=CH
B−6: HO(CO)20(CO)40(CO)20COC(CH)=CH
本発明の共重合体の原料である単量体Cの具体例としては、l、m、nが、それぞれ4〜20、8〜40、4〜20であるジ(メタ)アクリレートが挙げられる。
C−1: CH=CHCOO(CO)(CO)(CO)COCH=CH
C−2: CH=C(CH)COO(CO)(CO)(CO)COC(CH)=CH
C−3: CH=CHCOO(CO)10(CO)20(CO)10COCH=CH
C−4: CH=C(CH)COO(CO)10(CO)20(CO)10COC(CH)=CH
C−5: CH=CHCOO(CO)20(CO)40(CO)20COCH=CH
C−6: CH=C(CH)COO(CO)20(CO)40(CO)20COC(CH)=CH
なお、本発明が前記具体例によって、何ら限定されるものではないことは勿論である。
本発明の共重合体は、前記した構造の単量体A、BおよびCが、下記した共重合割合の範囲内で共重合したものであれば、ブロック、ランダム、交互、グラフトなどいずれの構造であっても差し支えなく、また、例えば、グラフト共重合体のグラフト率、ランダム共重合体のランダム性にも格別拘らない。さらに、単量体A、BおよびCは、それぞれ前述した構造式で表される範囲内であれば、1種でも、また2種以上の混合物であっても使用可能である。好ましい単量体A、BおよびCの組合わせは、A−1、B−4およびC−4;A−7、B−4およびC−4;A−7、B−5およびC−5;A−1、A−3、A−5、A−7、B−4およびC−4などである。特に好ましい組合わせはA−1、B−4およびC−4である。
本発明の共重合体を構成する単量体A、BおよびCの共重合割合(質量比)は、該共重合体が配合される組成物中の配合物、目的とする物性のレベルなどによっても異なるが、A/(B+C)=5/95〜70/30の範囲であることが好ましく、10/90〜50/50の範囲であることがより好ましい。前記割合よりも単量体Aが多いと共重合体の水への溶解性が低下し、単量体Bと単量体Cの合計量が前記割合よりも多いと共重合体の表面張力低下能力が低下する。
また、前記(B+C)における単量体BとCの共重合割合(質量比)は、B/C=30/70〜99/1の範囲であることが好ましく、50/50〜90/10の範囲であることがより好ましい。前記割合よりもCが多いと架橋して共重合体の水への溶解性の低下や重合時にゲル化が生じる。
本発明に係わる共重合体の分子量は、ポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量Mwが1,000〜100,000であることが好ましく、3,000〜100,000であることが特に好ましい。Mwが1,000未満の場合は、十分な表面張力低下能力が得られにくく、逆にMwが100,000を超えると、組成物中の配合物との相溶性が低下する。
本発明の共重合体の製造方法には何ら制限はなく、公知の方法、すなわちラジカル重合法、カチオン重合法、アニオン重合法等の重合機構に基づき、溶液重合法、塊状重合法、さらに乳化重合法等によって製造できるが、特にラジカル重合法が簡便であり、工業的に好ましい。
この場合、重合開始剤としては、公知のものを使用することができ、例えば、過酸化ベンゾイル等の過酸化物、アゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物、リビングラジカル重合を引き起こす遷移金属触媒等が挙げられる。
さらに必要に応じて、オクチルメルカプタン、2−メルカプトエタノール等の連鎖移動剤等を使用することができる。
重合は、溶剤もしくは水の存在下、または無溶媒でも実施できるが、作業性の点から溶剤存在下での重合が好ましい。溶剤としてはエタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン等の極性溶媒、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール等のエーテル類、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコール類及びエステル類、クロロホルム、1,1,1−トリクロルエタン等のハロゲン化合物類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、さらにパーフルオロオクタン等のフッ素化イナ−トリキッド等が挙げられ、これらのいずれもが使用できる。
なお、本発明が前記具体例によって、何ら限定されるものではないことは勿論である。
本発明に係わるフッ素系界面活性剤は、前記共重合体を1種類だけ用いて調製しても構わないし、前記共重合体を2種類以上同時に用いて調製しても構わない。また、フッ素系界面活性剤中の各成分との相溶性の向上等を目的として、炭化水素系、フッ素系、シリコーン系等の各種界面活性剤を併用することも可能である。
本発明のフッ素系界面活性剤は、常温(25℃)での水に対する溶解度が1質量%以上であることが好ましい。溶解度が前記範囲であると、人体への蓄積性が低くなり安全性に優れる。
また、本発明のフッ素系界面活性剤は、常温(25℃)での1質量%水溶液の表面張力が25mN/m以下であることが好ましい。表面張力が前記範囲であると、レベリング性などの特性に優れる。
本発明のフッ素系界面活性剤の用途としては、その優れた界面活性効果から、インク、塗料、レジスト、硬化性樹脂等のレベリング剤、顔料等の分散剤、泡消火剤、農業用フィルムの防霧剤、中粘度水性ボールペン顔料インク用の分散剤等が挙げられる。
以下に本発明の実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
攪拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに単量体A−1を20質量部、単量体B−4を60質量部、単量体C−4を20質量部、酢酸エチルを200質量部仕込み、窒素ガス気流中、70℃で重合開始剤として和光純薬工業株式会社製V−65(アゾビスジメチルバレロニトリル)1.5質量部と連鎖移動剤としてオクチルメルカプタン7.6質量部を添加した後、70℃にて15時間重合反応を行った。
A−1: C17CHCHOCOCH=CH
B−4: HO(CO)10(CO)20(CO)10COC(CH)=CH
C−4: CH=C(CH)COO(CO)10(CO)20(CO)10COC(CH)=CH
この共重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)によるポリメチルメタクリレート換算重量平均分子量Mwは30,000であった。
得られた共重合体の水への溶解性と、共重合体の水に対する添加量(1質量%、0.1質量%、0.01質量%)と静的表面張力を表1に示した。共重合体未添加の場合の静的表面張力も合わせて表1に示した(対照例)。
水への溶解性は、水溶液濃度が0.01質量%、0.1質量%、1質量%、5質量%になるように調合した試料を充分攪拌し、25℃で1時間放置した後の不溶解分の有無を目視で確認した。
静的表面張力は表面張力計CBVB−A3(協和科学株式会社製)を用いて25℃にて、すりガラス板を用いたウィルヘルミ−法にて測定した。
実施例1において、単量体A−1の代わりにA−7を用いて、実施例1と全く同じ条件で単量体B−4と単量体C−4との共重合を行った。この共重合体のポリメチルメタクリレート換算重量平均分子量Mwは20,000であった。得られた共重合体の水への溶解性と、共重合体の水に対する添加量(1質量%、0.1質量%、0.01質量%)と静的表面張力を実施例1と同様に測定し、その結果を表1に示した。
実施例1において、単量体A−1の代わりに単量体Aの混合物(A−7:2%、A−1:77%、A−3:18%、A−5:3%。ただし前述の%はガスクロ純度を表す。)を用いて、実施例1と全く同じ条件で単量体B−4と単量体C−4との共重合を行った。この共重合体のポリメチルメタクリレート換算重量平均分子量Mwは22,000であった。得られた共重合体の水への溶解性と、共重合体の水に対する添加量(1質量%、0.1質量%、0.01質量%)と静的表面張力を実施例1と同様に測定し、その結果を表1に示した。
(比較例1)
実施例1において、単量体A−1を添加することなく、実施例1と全く同じ条件で単量体B−4と単量体C−4の共重合を行った。この共重合体のポリメチルメタクリレート換算重量平均分子量Mwは50,000であった。得られた共重合体の水への溶解性と、共重合体の水に対する添加量(1質量%、0.1質量%、0.01質量%)と静的表面張力を実施例1と同様に測定し、その結果を表1に示した。
(比較例2)
実施例1において、単量体B−4と単量体C−4を添加することなく、実施例1と全く同じ条件で単量体A−1の重合を行った。この重合体のポリメチルメタクリレート換算重量平均分子量Mwは20,000であった。得られた重合体の水への溶解性と、共重合体の水に対する添加量(1質量%、0.1質量%、0.01質量%)と静的表面張力を実施例1と同様に測定し、その結果を表1に示した。
Figure 0004544996
実施例と比較例、対照例との対比から単量体A、BおよびCを重合成分とする共重合体の場合に限り、静的表面張力が小さく、水に対する溶解度が大きいことがわかる。

Claims (5)

  1. 下記単量体A、BおよびCを重合成分として共重合せしめた共重合体からなるフッ素系界面活性剤。
    単量体A: Rf−Q−OCOC(R1)=CH2
    [ただし、単量体Aにおいて、Q、R1およびRfは以下の意味を示す。
    Q: −(CH2n−もしくは−CH2CH2CH(CH3)−。
    ただし n:1〜3の整数。
    1: 水素原子またはメチル基、
    f: 炭素数1〜20のフルオロアルキル基。]
    単量体B: HO(C24O)11(C36O)m1(C24O)n1COC
    2)=CH2
    単量体C: CH2=C(R3)COO(C24O)12(C36O)m2
    (C24O)n2COC(R4)=CH2
    [ただし、単量体BおよびCにおいて、
    2、R3、R4: 水素原子またはメチル基、
    1、m1、n1、l2、m2、n2: 1〜100の整数。]
  2. 単量体A、単量体Bまたは単量体Cが、それぞれ、前記構造式で表される化合物の1種または2種以上の混合物である請求項1に記載のフッ素系界面活性剤。
  3. 単量体AにおけるRfが炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基である請求項1または請求項2に記載のフッ素系界面活性剤。
  4. 常温における水に対する溶解度が1質量%以上である請求項1請求項2または請求項3に記載のフッ素系界面活性剤。
  5. 常温における1質量%水溶液の表面張力が25mN/m以下である請求項1請求項2、請求項3または請求項4に記載のフッ素系界面活性剤。
JP2004530578A 2002-08-22 2003-08-20 フッ素系界面活性剤 Expired - Fee Related JP4544996B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002241434 2002-08-22
JP2002241434 2002-08-22
PCT/JP2003/010509 WO2004018535A1 (ja) 2002-08-22 2003-08-20 フッ素系界面活性剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2004018535A1 JPWO2004018535A1 (ja) 2005-12-08
JP4544996B2 true JP4544996B2 (ja) 2010-09-15

Family

ID=31943993

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004530578A Expired - Fee Related JP4544996B2 (ja) 2002-08-22 2003-08-20 フッ素系界面活性剤

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4544996B2 (ja)
AU (1) AU2003257623A1 (ja)
TW (1) TW200404821A (ja)
WO (1) WO2004018535A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101774254B1 (ko) * 2015-12-16 2017-09-04 주식회사 해림엔지니어링 질소산화물 저감용 선택적 무촉매 환원제

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4997708B2 (ja) * 2005-03-08 2012-08-08 Dic株式会社 フッ素化アルキル基含有オリゴマーの製造方法
JP5047570B2 (ja) * 2005-12-13 2012-10-10 Agcセイミケミカル株式会社 界面活性剤および表面張力低下方法
JP5306815B2 (ja) * 2006-09-07 2013-10-02 国立大学法人豊橋技術科学大学 共重合体およびその製造方法
JP5168957B2 (ja) * 2007-03-14 2013-03-27 Dic株式会社 メタリック塗料
KR101608762B1 (ko) * 2008-03-12 2016-04-04 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 감광성 수지 전사 재료, 포토 스페이서와 그 제조 방법, 표시 장치용 기판, 및 표시 장치
KR20130119853A (ko) * 2010-07-02 2013-11-01 디아이씨 가부시끼가이샤 불소계 계면 활성제, 그것을 사용한 코팅 조성물 및 레지스트 조성물
JP5737553B2 (ja) * 2010-09-17 2015-06-17 Dic株式会社 フッ素系界面活性剤、それを用いたコーティング組成物及びレジスト組成物
CN103339216B (zh) * 2011-02-18 2015-07-29 Agc清美化学股份有限公司 表面活性剂、含该表面活性剂的组合物、该表面活性剂的用途及含氟化合物
JP2014051863A (ja) * 2012-09-10 2014-03-20 Asahi Glass Co Ltd 炭化水素含有地層の処理方法、炭化水素の回収方法および炭化水素含有地層処理用組成物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62226143A (ja) * 1986-03-27 1987-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH09281636A (ja) * 1996-04-15 1997-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料
JPH10230154A (ja) * 1997-02-18 1998-09-02 Dainippon Ink & Chem Inc フッ素系界面活性剤及びそれを使用した組成物
JPH10309455A (ja) * 1997-05-13 1998-11-24 Dainippon Ink & Chem Inc フッ素系界面活性剤及びそれを使用した組成物
JPH11209787A (ja) * 1998-01-28 1999-08-03 Dainippon Ink & Chem Inc フッ素系界面活性剤及びその組成物

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0721626B2 (ja) * 1985-08-10 1995-03-08 日本合成ゴム株式会社 半導体微細加工用レジスト組成物
JPH10168140A (ja) * 1996-12-10 1998-06-23 Shin Etsu Chem Co Ltd 塗料添加剤
US6156860A (en) * 1997-02-18 2000-12-05 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Surface active agent containing fluorine and coating compositions using the same
JP2002296774A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62226143A (ja) * 1986-03-27 1987-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH09281636A (ja) * 1996-04-15 1997-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料
JPH10230154A (ja) * 1997-02-18 1998-09-02 Dainippon Ink & Chem Inc フッ素系界面活性剤及びそれを使用した組成物
JPH10309455A (ja) * 1997-05-13 1998-11-24 Dainippon Ink & Chem Inc フッ素系界面活性剤及びそれを使用した組成物
JPH11209787A (ja) * 1998-01-28 1999-08-03 Dainippon Ink & Chem Inc フッ素系界面活性剤及びその組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101774254B1 (ko) * 2015-12-16 2017-09-04 주식회사 해림엔지니어링 질소산화물 저감용 선택적 무촉매 환원제

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2004018535A1 (ja) 2005-12-08
TW200404821A (en) 2004-04-01
AU2003257623A1 (en) 2004-03-11
WO2004018535A1 (ja) 2004-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4997708B2 (ja) フッ素化アルキル基含有オリゴマーの製造方法
JP4544996B2 (ja) フッ素系界面活性剤
JP4844097B2 (ja) ポリイミド系コーティング用組成物
JP2013173837A (ja) フッ素樹脂粒子の水分散体及びフッ素樹脂塗料
JP2013185072A (ja) 滑水性表面処理剤
WO2020195916A1 (ja) 含フッ素共重合体含有組成物及び消泡剤
JP6621630B2 (ja) フッ素系表面処理剤
JP2000128934A (ja) フッ素系共重合体の水性分散液
WO2022019183A1 (ja) フッ素樹脂用分散剤、組成物、分散液、物品及び共重合体
JPWO2006003885A1 (ja) グラフト共重合体、コーティング剤、及びコーティング膜の形成方法
WO2013180236A1 (ja) 含フッ素ポリマー水性分散液の製造方法
KR101418268B1 (ko) 슬립 및 균전제
WO2021090831A1 (ja) フッ素樹脂用分散剤、分散液及び物品
JP7207922B2 (ja) 共重合体および撥水撥油剤
JP7136994B1 (ja) フッ素樹脂用分散剤、組成物、分散液、物品および共重合体
JP4732560B2 (ja) 樹脂組成物
JP7289204B2 (ja) 含フッ素共重合体含有組成物
JP2980999B2 (ja) 紫外線吸収剤、フッ素樹脂用添加剤、およびフッ素樹脂組成物
JP3957790B2 (ja) 塗料用組成物
JP2001164065A (ja) フッ素系共重合体の水性分散液
JP2009040829A (ja) フッ素系界面活性剤及びこれを用いる組成物
JP2636933B2 (ja) 高撥水性塗料用樹脂の製造方法
JPH06228491A (ja) 含フッ素水性分散液
JP2734049B2 (ja) 含フッ素共重合体非水分散液、その製造方法およびその用途
JP3314437B2 (ja) 被覆用樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060620

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060620

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100622

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100629

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4544996

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140709

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees