JPS62226143A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

Info

Publication number
JPS62226143A
JPS62226143A JP61068949A JP6894986A JPS62226143A JP S62226143 A JPS62226143 A JP S62226143A JP 61068949 A JP61068949 A JP 61068949A JP 6894986 A JP6894986 A JP 6894986A JP S62226143 A JPS62226143 A JP S62226143A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
acrylate
oxyalkylene
copolymer
poly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61068949A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06105351B2 (ja
Inventor
Akira Nishioka
明 西岡
Masayuki Kamei
亀井 政之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd, Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP61068949A priority Critical patent/JPH06105351B2/ja
Priority to DE19873751555 priority patent/DE3751555T2/de
Priority to EP19870104351 priority patent/EP0239082B1/en
Publication of JPS62226143A publication Critical patent/JPS62226143A/ja
Publication of JPH06105351B2 publication Critical patent/JPH06105351B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0048Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はフッ素系界面活性剤を含有する感光性組成物に
係り、特に感光性組成物をフッ素系界面活性剤と共に有
機溶媒中に溶解又は分散させ支持体上に塗布乾燥するこ
とによって均一な膜厚を得ることのできる感光性組成物
に関するものである。
〔従来の技術〕
感光性組成物は、一般に適当な表面処理を施したアルミ
ニウム、紙あるいはプラスチック、S+Oa/Siのウ
ェハーなどの支持体の表面に、有機溶媒中に溶解又は分
散したものを塗布し、乾燥して使用されるものである。
この感光性組成物を塗布し、乾燥する際、支持体上に均
一な感光層を設けることが感光性組成物の性能を発揮す
るため是非必要な事柄である。
しかし従来より乾燥工程において均一な感光層を得るこ
とは非常に困難であった。これ迄は乾燥工程において感
光性組成物を塗布した支持体に、調湿調温した空気を吹
きつけることによって有機溶媒を蒸発乾燥させ感光層を
得ていたのであるが調湿調温した空気の流れ及び乱れに
よって乾燥後の感光層の膜厚分布に不均一が生じた。
この感光層の膜厚ムラは外観上悪印象を与えるばかりで
なり、露光・現像処理時、感度のバラツキ、オリジナル
パターンの再現性の低下などを生じると共に印刷版とし
て用いた場合耐刷性、画像強度などのバラツキ等の原因
となるものである。
このムラを防止するためには乾燥を緩やかに行なうこと
が必要で、乾燥空気速度を微速とし長時間をかけて乾燥
させる方法、乾燥空気速度に温度勾配を持たせ、乾燥初
期においては低温とじ乾燥後期には高温とする方法、又
は感光性組成物を溶解分散する有機溶媒に比較的高沸点
の溶媒を多用する方法等が実施されている。しかし、こ
れ等の方法では乾燥空気による不均一を完全に防止する
ことが困難であり、また特に平版印刷版を工業的に製造
する場合には帯状の支持体を撤退し連続的に塗布、乾燥
するため、乾燥設備の長大化、複雑化を招き、また溶媒
の選択は感光性組成物自体の選択に大きな制限を加える
という欠点があった。
さらに我々はフルオロ脂肪族基含有アクリレートモノマ
ー単位が25〜70重量%であるフッ素系界面活性剤を
添加することにより均一な感光層が僻られることを見出
したが、この方法では平版印刷版として使用した場合、
インキ受容性が劣ることが判明した。
〔発明が解決しようとする問題点] 従って本発明の目的は、支持体上に塗布した後、乾燥す
ることによって均一な膜厚を得ることのできる感光性組
成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、支持体上に塗布した後、短時間で
乾燥することによって均一な膜厚を得ることのできる感
光性組成物を提供することにある。
本発明の更に他の目的は支持体上に塗布した後、簡略な
設備で乾燥することによって均一な膜厚を得ることので
きる感光性組成物を提供することにある。
本発明の更に他の目的はインキ受容性の良好な平版印刷
版を得ることのできる感光性組成物を提供することにあ
る。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者等は上述の問題点を解決すべく鋭意努力した結
果、塗布する感光性組成物中に特定のフッ素系界面活性
剤を含有させることにより、乾燥過程において生じる膜
厚分布の不均一を解消し得ることを見出し、本発明を完
成するに至った。すなわち本発明はフッ素系界面活性剤
を含有する感光性組成物において、該フッ素系界面活性
剤が(1)3〜20の炭素原子を有しかつ40重量%以
上のフッ素を含有し、末端の少くとも3つの炭素原子が
十分にフッ素化されているフルオロ脂肪族基CRf基)
を含有するアクリレートまたはRf基を含有“するメタ
クリレートと、1iilポリ(オキシアルキレン)アク
リレートまたはポリ(オキシアルキレン)メタクリレー
トとの共重合体であって、Rf基含有アクリレートまた
はRf基含有メタクリレートモノマー単位が、該共重合
体の重量に基づいて7〜25重量%であり、該共重合体
の分子量が6.000〜100.000であることを特
徴とする感光性組成物である。
以下本発明について、感光性平版印刷版を例にとって詳
細に説明する。
感光性平版印刷版等に使用される支持体は、寸度的に安
定な板状物であり、これ迄印刷版の支持体として使用さ
れたものが含まれ、好適に使用することができる。かか
る支持体としては、紙、プラスチックス(例えばポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネ
ートされた紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金
も含む)、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、例えば
二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セ
ルロース、醋酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸
セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート
、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチックスの
フィルム、上記のような金属がラミネートもしくは蒸着
された紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれる
が、特にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板に
は純アルミニウム及びアルミニウム合金板が含まれる。
アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例え
ばけい素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛
、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの
合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄お
よびチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物
をも含むものである。
支持体は、必要に応じて表面処理される。例えば感光性
平版印刷版の場合には、支持体の表面に、親水化処理が
施される。かかる親水化処理には神様のものがある。例
えばプラスチックの表面を有する支持体の場合には、化
学的処理、放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処
理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理
などの所謂表面処理方法(たとえば米国特許第2.76
4.520号、第3.497.407号、第3.145
.242号、第3.376、208号、第3.072.
483号、第3.475.193号、第3.360.4
48号、英国特許第788.365号明細書など)によ
り処理したものと、一旦これらの表面処理後、該プラス
チックに下塗層を塗設したものとがある。
塗布方法としても色々工夫が行なわれており一層目はプ
ラスチックによく接着し、かつ接着性のよい疎水性の樹
脂層を塗布し、二層目として親水性の樹脂層を塗布する
重層法と、同一重合体中に疎水基と親木基を含有する樹
脂の層を塗布する単層法とがある。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
巖カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。また、米国特許第2.714.066号明細書に
記載されているように、砂目立てしたのち珪酸す) U
ラム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第
3.181.461号明細書に記載されているようにア
ルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属
珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される
上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、
硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有
機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は
二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽
極として電流を流すことにより実施される。
また、米国特許第3.658.662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為
に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物と
のを害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させ
る為に施されるものである。
アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じ
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等
が用いられている。
又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ・エツチング剤を用いる方法が広く行われて
いる。
砂目立て方法としては、機械的、化学的および電気化学
的な方法のいずれの方法も有効である。
機械的方法としては、ボール研暦法、ブラスト研暦法、
軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシ
で擦りつけるブラシ研暦法などがあり、化学的方法とし
ては、特開昭54−31187号公報に記載されている
ような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方
法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸ま
たはこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解す
る方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特
開昭55−137993号公報に記載されているような
機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい
上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表
面の中心線表面粗さくHa)が0.3〜1.0μとなる
ような範囲で施されることが好ましい。
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に
応じて水洗および化学的にエツチングされる。
エツチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基
あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エツチン
グされた表面に、エツチング液成分から誘導されるアル
ミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければな
らない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム
、リン酸二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過硫酸
、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよ
りイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバル
ト、ニッケル、銅等の塩はエツチング表面に不必要な被
膜を形成するから好ましくない。
これ等のエツチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間1分あたり0.3グラムから40グラム/ m’
になる様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回
るあるいは下回るものであっても差支えない。
エツチングは上記エツチング液にアルミニウム板を浸漬
したり、該アルミニウム板にエツチング液を塗布するこ
と等により行われ、エツチング遣が0.5〜Log/m
’の範囲となるように処理されることが好ましい。
上記エツチング剤としては、そのエツチング速度が早い
という特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい
。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット
処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、
硫酸、りん酸、クロム酸、ぶつ酸、はうふつ化水素酸等
が用いられる。
エツチング処理されたアルミニウム板は、必要により水
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、
ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組
み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流ま
たは交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽
極酸化被膜を形成させることができる。
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変
化するので一般には決定され得ないが一般的には電解液
の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度0
.5〜60アンペア/dm” 、電圧1〜100■、電
解時間30秒〜50分の範囲が適当である。
これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1.
412.768号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で陽極酸化する方法および米国特許第3.511
.661号明細書に記載されている燐酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その
好ましい例としては米国特許第2、714.066号及
び同第3.181.461号に開示されているようなア
ルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液ま
たは特公昭36−22063号公報に開示されている弗
化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第4.153
.461号明細書に開示されているようなポリビニルホ
スホン酸で処理する方法がある。
支持体上に設けられる有機感光性物質は、露光の前後で
現像液に対する溶解性又は膨潤性が変化するものならば
使用できる。特に好ましいものはジアゾ化合物、例えば
、ジアゾ樹脂とシェラツクから成る感光性組成物(特開
昭47−24404号)、ポリ(ヒドロキシエチルメタ
クリレート)とジアゾ樹脂、ジアゾ樹脂と可溶性ポリア
マイド樹脂(米国特許第3.751.257号)、アジ
ド感光物とエポキシ樹脂(米国特許第2.852.37
9号)、アジド感光物、ジアゾ樹脂、ポリビニルシンナ
メートで代表されるような分子中に不飽和二重結合を有
し、活性光線の照射により二車化反応を起して不溶化す
る感光性樹脂、例えば英国特許第843.545号、同
第966、297号、米国特許第2.725.372号
の各明細書等に記載されているポルビニルシンナメート
の誘導体、カナダ国特許第696.997号明細書に記
載されているようなビスフェノールAとジバニラールシ
クロヘキサノン、P−7二二レンジエトキシアクリレー
トと1.4−ジ−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサ
ノンとの縮合で得られた感光性ポリエステル、米国特許
第3.462.26’7号に記載されているようなジア
リルフタレートのプレポリマー等及び分子中に少なくと
も2つの不飽和2重結合を有し、活性光線の照射により
重合反応を引起すようなエチレン系不飽和化合物、例え
ば特公昭35−8495号に記載されているようなポリ
オールの不飽和エステル例えばエチレンジ(メタ)アク
リレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、グリセロールジ(メタ)アクリレート、グリセロー
ルトリ(メタ)アクリレート、エチレンジ(メタ)アク
リレート、1.3−プロピレンジ(メタ)アクリレート
、1.4−シクロ−ヘキサンジオール(メタ)アクリレ
ート、13.4−ベンゼンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、1.3−プロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
−)、1.5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
分子量50〜500のポリエチレングリコールのビスア
クリレート及びメタクリレート、不飽和アミド特に、α
−メチレンカルボン酸のアミド及び特にα、ω−ジアミ
ン及び酸素が中間に介在するω−ジアミンのもの例えば
メチレンビス(メタ)アクリルアミド及びジエチレント
リアミントリス(メタ)アクリルアミド、ジビニルサク
シネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、
ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−1,3−
ジスルホネート等と適当なバインダー例えばポリビニル
アルコール又はセルロースの誘導体で側鎖にカルボキシ
基を含有するような化合物例えばポリビニル水素フタレ
ート、カルボキシメチルセルローズ、又はメチルメタク
リレートとメタクリル酸の共重合体から成る感光性組成
物等が、活性光線の作用により不溶性と成るネガティブ
ワーキング型の感光性組成物として有用である。米国特
許第3.635.709号、同第3、061.430号
、同第3.061.120号に記載されているようなO
−ジアゾオキサイド系の感光物、ジアゾ樹脂のリンタン
グステン酸塩(特公昭39−7663号)、ジアゾ樹脂
の黄血塩(米国特許第3.113、023号)及びジア
ゾ樹脂とポリビニル水素フタレート(特願昭40−18
812号)等から成る感光性組成物はポジティブワーキ
ング型の感光物として有用である。また米国特許第3.
081.167号、同第3.486.903号、同第3
.512.971号、同第3,615゜629 号など
の各明細書に記されているような線状ポリアミド及び付
加重合性不飽和結合を有する単量体を含む感光性組成物
も有用である。
特に有用な感光性組成物としては、特開昭47−244
04号に示されているジアゾ樹脂とシェラツクからなる
感光性組成物、特開昭50−118802号に示されて
いるジアゾ樹脂とヒドロキシエチルメタクリレート共重
合体からなる組成物、米国特許第3.635.709号
に示されているナフトキノンジアジドスルホン酸とピロ
ガロール−アセトン樹脂のエステル化物及びノボラブク
樹脂よりなる組成物等が挙げられる。
本発明に使用される感光性組成物には、画像識別のため
の染料、たとえばクリスタルバイオレット、メチルバイ
オレット、マラカイトグリーン、ツクシン、パラツクシ
ン、ビクトリア・ブルーBHC保土谷化学工業@製〕、
ピクトIJア・ピュアー・ブルー・BOH[保土谷化学
工業側製〕、オイルブルー#603[オリエント化学工
業@製〕オイルピンク#312[オリエント化学工業■
製〕オイルレッド5B[オリエント化学工業■製〕、オ
イルグリーン#502[オリエント化学工業■製〕、な
どを全感光性組成物に対して0.3〜15重量%程度添
加しても良い。さらにこれらの染料と相互作用をして色
調を変えさせる光分解物を発生させる化合物、たとえば
特開昭50−36209号公報に記載の0−ナフトキノ
ンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53−
3’ 6223号公報に記載のトリハロメチル−2−ピ
ロンやトリハロメチルトリアジン、特13f!昭55−
62444号公報に記載の種々の0−ナフトキノンジア
ジド化合物、特開昭55−77742号公報に記載の2
−トリハロメチル−5−アリール−1,3,4−オキサ
ジアゾール化合物などを添加することが出来る。これら
の化合物は単独又は混合して使用することが出来、添加
量は0.3〜15重量%が好ましい。さらに、充てん剤
を添加することができる。充てん剤を加えることによっ
て塗膜の物理的、性質をより一層向上させることができ
るばかりで、なく、感光層表面のマット化が可能となり
、画像焼付は時の真空密着性がよくなり、いわゆる焼ボ
ケを防止することができる。このような充てん剤として
は、タルク粉末、ガラス粉末、粘土、デンプン、小麦粉
、とうもろこし粉、テフロン粉末等がある。さらにその
他種々の目的に応じて各種添加剤を加えることができる
本発明の特徴はこれ等の感光性組成物に更に特定のフッ
素系界面活性剤を含有させることにある。
本発明に使用されるフッ素系界面活性剤は(I)3〜2
0の炭素原子を有しかつ40重量%以上のフッ素を含有
し、末端部分が少くとも3つの十分にフッ素化された炭
素原子を有するフルオロ脂肪族基(以下Rf基という)
を含有するアクリレートまたはRf基を含有するメタク
リレートと、fiilポリ(オキシアルキレン)アクリ
レートまたはポリ(オキシアルキレン)メタクリレート
との共重合体であって、Rf基含有アクリレートまたは
Rf基含有メタクリレートモノマー単位が、該共重合体
の重量に基づいて7〜25重量%であり、該共重合体の
分子量が6.000〜100.000であることを特徴
とするものである。
フルオロ脂肪族基R[は飽和されかつ一般に1価の脂肪
族基である。これは直鎖、分枝鎖及び十分に大きい場合
には環式又はこれらの組み合せ(例えばアルキルシクロ
詣肪族基)である。フルオロ脂肪族骨格鎖は炭素原子に
のみ結合した連鎖の酸素及び/または3価の窒素へテロ
原子を含むことができ、このヘテロ原子はフルオロ炭素
基間の間に安定な結合を与えかつRf基の不活性特性を
妨害しない。Rf基は、十分な効果を発揮するためには
、3〜20、好ましくは6〜12の炭素原子を有し、か
つ40重滑車以上好ましくは50重量%以上の、炭素原
子に結合したフッ素を有するものである。Rf基の末端
の少なくとも3つの炭素原子は十分にフッ素化されてい
る。Rf基の末端は例えば、CF、CF2CF2−であ
り、好適なRf基は、CnF2n++(nは3以上の整
数)のように実質上完全に、または十分にフッ素化され
たアルキル基である。
Rf基フッ素含有量が40重量%未満では本発明の目的
が十分に達成されない。フッ素原子はR[基の末端に局
在化している方が効果が大きい。Rf基の炭素原子数が
2以下でも、フッ素含有率を高くすることはできるが、
フッ素原子の総量が不十分となり、効果が弱い。炭素原
子数が2以下の十分にフッ素化されたRE基含有モノマ
ーの、共重合体に対する比率を高くすることによって共
重合体中のフッ素含有率を高くしても、フッ素原子が局
在化していないため、十分な効果が得られない。
一方、Rf基の炭素原子数が21以上では、フッ素含有
量が高いと得られた共重合体の溶剤に対する溶解性が低
くなり、またフッ素含有量が低いと、フッ素原子の局在
化が十分でなくなり、十分な効果が得られない。
共重合体中の可溶化部分はポリ(オキシ了ルキレン)基
(OR’ )、であって、R′は2〜4の炭素原子を有
するアルキレン基、例えば−CH2Cl(2−1−CH
=CH2C1(2−1−C1l(CH13)、ClI2
−1または−C1l(CL)CH(C1,)−であるこ
とが好ましい。前記のポリ(オキシアルキレン)基中の
オキシアルキレン単位はポリ(オキシプロピレン)にお
けるように同一であってもよく、または互いに異なる2
種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたもので
あってもよく、直鎖または分枝鎖のオキシプロピレンお
よびオキシエチレン単位であったり、または、直鎖また
は分枝鎖のオキシプロピレン単位のブロックおよびオキ
シエチレン単位のブロックのように存在するものであっ
てもよい。このポリ(オキシアルキレン)鎖は1つまた
はそれ以上の連鎖結合(例えば 介され、または含むことができる。連鎖の結合が3つま
たはそれ以上の原子価を有する場合には、これは分枝鎖
のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。ま
たこの共重合体を感光性組成物に添加する場合に、所望
の溶解度を得るためには、ポリ(オキシアルキレン)基
の分子量は250〜2.500が適当である、本発明の
目的を十分に達成するためには、ポリ(オキシアルキレ
ン)基の分子量は600〜2.500が好ましい。ポリ
(オキシアルキレン)基の分子量が250〜600では
共重合体の溶解は得られるけれど、ポリ(オキシアルキ
レン)基含有モノマ一単位数が多くなり、共重合体中で
Rf基が局在化していないため効果が不十分となる。逆
にポリ(オキシアルキレン基)の分子量が大きい程ポリ
(オキシアルキレン)基含有モノマ一単位数が少なくな
り、共重合体中でRf基が局在化するため効果が十分に
発揮される。しかし分子量が2.500以上では溶解度
が低下してしまう。
本発明に使用される上記共重合体は、例えば、フルオロ
脂肪族基含有アクリレートまたはフルオロ脂肪族基含有
メタクリレートと、ポリ(オキシアルキレン)アクリレ
ートまたはポリ(オキシアルキレン)メタクリレート、
例えばモノアクリレートまたはジアクリレートまたはそ
の混合物との遊離基開始共重合によって製造できる。ポ
リアクリレートオリゴマーの分子量は、開始剤の濃度と
活性度、単量体の濃度および重合反応温度を調節するこ
とによって、および連鎖移動剤、例えばチオール、例え
ばn−オクチルメルカプタンを添加することによって調
整できる。−例として、フルオロ脂肪族基含有アクリレ
ート、Rf−R’−0□C−CH=CH2(ここでR′
は、例えばスルホンアミドアルキレン、カルボンアミド
アルキレン、またはアルキレンである)、例えば C,F、、5O7N ((’、)l、) C)12[’
)1.D□C[”H=C11をポリ(オキシアルキレン
)モノアクリレート CH,=Cl1C(0) (OR’ )、QC)1.と
共重合させると下記の経返し単位を有する共重合体が得
られる。
’C113Rf 上記フルオロ脂肪族基含有アクリレートは米国特許第2
.803.615号、同第2.642.416号、同第
2.826.564号、同第3.102.103号、同
第3.282.905号および同第3.304.278
号に記載されている。上記共重合体の製造に使用される
ポリ(オキシアルキレン)アクリレートおよびこの目的
のために有用な他のアクリレートは、市販のヒドロキシ
ポリ(オキシアルキレン)材料、例えば商品名“プルロ
ニック”[PIuronic)  (旭電化工業0@製
)〕、アデカポリエーテル(旭電化工業■製)、“カル
ボワックス” [Carbowax (グリコ・ブロダ
クス)(Glyc。
Products ) Co、  製)〕、“トリトン
” (Toriton(ローム・アンド、 ハース(t
lohm and )lass)Co。
rM)〕およびP、8.G、 (第一工業製薬■製)と
して販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メ
タクリル酸、アクリルクロリドまたは無水アクリル酸と
反応させることによって製造できる。別に、公知の方法
で製造したポリ(オキシアルキレン)ジアクリレート、 CH,=ClIC0□(it ’O)、 C0CII=
CI+、 、例えばClI2 = CH,:02 (C
211,0) I O(C31160) 22 (C2
)1.0) 、 QCOCII = ClI2を前記の
フルオロ脂肪族基含有アクリレートと共重合させると、
下記の繰返し単位を有するポリアクリレート共重合体が
得られる。
一七しfL−C1l+ 本発明に使用される共重合体を製造するのに適する他の
フルオロ脂肪族基含有末端エチレン系不飽和単量体は、
米国特許第2.592.069号、同第2,995、5
42号、同第3.078.245号、同第3.081.
274号、同第3.291.843号および同第3.3
25.163号に記載されており、上記フルオロ脂肪族
基含有末端エチレン系不飽和単量体を製造するのに適し
たエチレン系不飽和材料は米国特許第3,574,79
1号に記載されている。
本発明に使用される共重合体はフルオロ脂肪族基含有ア
クリレートまたはフルオロ脂肪族基含有メタクリレート
とポリ(オキシアルキレン)アクリレートまたはポリ(
オキシアルキレン)メタクリレートとの共重合体であっ
て、フルオロ脂肪族基含有モノマ一単位をオリゴマーの
重量に基づいて7〜25重量%含有し、分子量は6.0
00〜100.000が好ましく 、10.QOO〜1
00. QOOが特に好ましい。
フルオロ脂肪族基含有モノマ一単位が7重量%より少な
いと塗膜の均一性に対する効果が十分でなく、逆に25
重量%より多いと塗膜の均一性に対して効果が十分にあ
るけれど、インキ受容性を劣化させてしまう。
さらに共重合体分子量が、6.000より小さいと塗膜
の均一性に対する効果が十分でなく、100.000よ
り大きいと溶剤に対する溶解性が低下するので好ましく
ない。
我々は従来フルオロ脂肪族基含有モノマー量が少なり、
塗膜の均一性に対する効果が十分でないと考えていた領
域においても、ポリ(オキシアルキレン)基の分子量を
大きくし、そして共重合体の分子量を大きくすれば、十
分な効果が得られることを見出したのである。
本発明に使用される共重合体は、フルオロ脂肪族基含有
モノマーとして、フルオロ脂肪族基含有アクリレートを
フルオロ脂肪族基含有モノマ一単位に対して50〜10
0重塁%使用し、かつポリ(オキシアルキレン)アクリ
レートモノマー単位をフルオロ脂肪族基含有モノマ一単
位の全重量に対して25重量%以上使用して得られたも
のが好ましく、フルオロ脂肪族基含有アクリレートとポ
リ(オキシアルキレン)アクリレートとの共重合体が特
に好ましい。フルオロ脂肪族基含有メタクリレートがフ
ルオロ脂肪族基含有モノマ一単位に対して50重1%以
上になると溶剤溶解性が低下する。また、ポリ(オキシ
アルキレン)アクリレートモノマーがフルオロ脂肪族基
含有モノマ一単位の全重量に対して25重量%未満の場
合、塗膜にピンホールが発生しやすくなる。
本発明に使用されるフッ素系界面活性剤の好ましい使用
範囲は、感光性組成物(溶媒を除いた塗布成分)に対し
て0.01〜5重里%の範囲であり、更に好ましい使用
範囲は0.05〜3重量%の範囲である。フッ素系界面
活性剤の使用遣が0.01重量%未満では効果が不十分
であり、また5重量%より多くなると、塗膜の乾燥が十
分に行われなくなったり、感光材料としての性能(たと
えば現像性)に悪影晋をおよぼす。
これ等のフッ素系界面活性剤を含んだ感光性組成物は下
記の有機溶剤の単独あるいは混合したものに溶解又は分
(ikされ、上記のごとき支持体に塗布され乾燥される
使用される有機溶剤は沸点40℃〜200℃、特に60
℃〜160℃の範囲のものが乾燥の際における有利さか
ら選択される。
例エバメチルアルコール、エチルアルコール、n−又は
イソ−プロピルアルコール、n−又はイソ−ブチルアル
コール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メ
チルブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルへキシ
ルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセチルアセ
トン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、シ
クロヘキサン、メトキシベンゼン等の炭化水素類、エチ
ルアセテート、n−又はイソ−プロピルアセテート、n
−又はイソ−ブチルアセテート、エチルブチルアセテー
ト、ヘキシルアセテート等の酢酸エステル類、メチレン
ジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベン
ゼン等のハロゲン化物、イソプロピルエーテル、n−ブ
チルエーテル、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テト
ラヒドロ7ラン等のエーテル類、エチレングリコール、
メチルセロメルブ、メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブ、ジエチルセロソルブ、セロソルブアセテ
ート、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート
、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレング
リコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、3−メチル−3−メト
キシブタノール等の多価アルコールとその誘導体、ジメ
チルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド等の
特殊溶剤などが単独あるいは混合して好適に使用される
。そして、塗布液中の固形分の濃度は、2〜50重蛍%
が適当である。
塗布方法としてはロールコーティング、ディップコーテ
ィング、エアナイフコーティング、グラビアコーティン
グ、グラビアオフセットコーティング、ホッパーコーテ
ィング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーテ
ィング、スプレーコーティング等の方法が用いられ、特
に10mf/m’〜100mj!/m’の塗布液量の範
囲が好適である。
乾燥は加熱された空気によって行なわれる。加熱は30
℃〜200℃特に、40℃〜140℃の範囲が好適であ
る。乾燥の温度は乾煙中一定に保たれる方法だけでなく
段階的に上昇させる方法も実施し得る。
又、乾燥風は除湿することによって好結果が得られる場
合もある。加熱された空気は塗布面に対し0.1 m 
/秒〜30m/秒とくに0.5 m /秒〜20m/秒
の割合で供給するのが好適である。
〔発明の効果〕
本発明により、乾燥工程において従来発生していた感光
層の膜厚の不均一がなくなり印刷版としての性能が均一
化されるとともに、極めて広い範囲の乾燥条件下におい
て均一な膜厚の感光層を塗布し得ることが可能となり、
乾燥設備の簡略化をはかることができる。
更に本発明は、インキ受容性を低下させることなく、均
一な膜厚の感光層を塗布し得ることが可能となり帯状の
支持体を搬送し、有機溶剤に溶解あるいは分散した感光
性組成物を連続的に塗布し、乾燥して得られた感光性平
版印刷版において特にその効果が顕著に認められる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例に基づいて、更に詳細に説明する
。ただし、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。なお、実施例中の%は、重量%を示すも
のである。
実施例1〜9および比較例a −e 厚さ0.3 nun、巾1. OOOmmの帯状アルミ
ニウムを車送し、まず80℃に保った第三リン酸す) 
IJウムの10%水溶液中を1分間通過させて脱脂を行
なった。次にナイロンブラシと400メッシュのパミス
ー水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、よく水で洗滌
した。この板を、45℃の25%水酸化ナトリウム水溶
液に9秒間浸漬してエツチングを行ない、水洗後、更に
20%硝酸に20秒間浸漬して水洗した。この時の砂目
立て表面のエツチング量は約8 g / m’であった
。次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度を15
 A /dm2 で3 g / m’の直流陽極酸化皮
膜を設けた後、水洗乾燥し塗布工程に導いた。
塗布工程においては、次の塗布液が2@備された。
感光液 注■ 米国特許第3.635.709号明細書中、実施
例1に記載されているもの 注■ 米国特許第4.123.279号明細書に記載さ
れているもの 上記塗布液を砂目立てされた帯状アルミニウム上に連続
的に30g/m’の割合で塗布した後、100℃の熱風
の乾燥ゾーンを1分間通過させることによって乾燥し、
感光層を形成した。
表1から、本発明によるフッ素系界面活性剤を用いた実
施例1〜9は、感光層の膜厚の均一性が、添加をしなか
った比較例eとくらべて格段に向上していることがわか
る。さらに実施例1〜9において、特に実施例1〜8で
は、塗膜にピンホールの発生がなく、良好なものである
ことがわかる。
また本発明以外のフッ素系界面活性剤を用いた比較例a
、C−8は、塗膜の均一性が悪いことがわかる。さらに
画像フィルムを通して露光後、富士写真フィルム■製自
動現像機800 U、同社製自動現像液DP−4(1:
 8)25℃40秒現像処理を行ない、同社製ガム(’
G’P)を塗布して1週間後印刷を行ない、インキが完
全に付着するまでの印刷枚数でインキ受容性を調べたと
ころ、フルオロ脂肪族基含有モノマ一単位が25重量%
より多い比較例すはインキ受容性が劣ることがわかる。
実施例1〜9により得られた感光性平版印刷版をオリジ
ナルフィルムと密着露光後、ポジ用現像液で現像したと
ころ、感度、オリジナルパターンの再現性の均一なすぐ
れたものであることがわかった。これを用いて印刷した
ところ、耐刷力、画像強度の均一なすぐれたものである
ことがわかった。
実施例10〜17および比較例g、h 実施例1において陽極酸化皮膜を設けた帯状アルミニウ
ム支持体を70℃の珪酸す)IJウム2.5%水溶液中
を30秒間通過させた後、水洗乾燥し、塗布工程に導い
た。
塗布工程においては次の塗布液が準備された。
感光液 注■ 実施例1〜8に使用したフッ素系界面活性剤をそ
れぞれ実施例10〜17に使用した。
比較例gは比較例すに使用したフッ素系界面活性剤を使
用した。比較例りは添加しなかった。
上記塗布液を前記帯状アルミニウムに連続的に40 g
 / m’の割合に塗布した後、80℃の熱風が供給さ
れている乾燥ゾーンを1分間、100℃の熱風が供給さ
れている乾燥ゾーンを1分間で通過させることによって
乾固し感光層を形成した。
フッ素系界面活性剤を添加しなかった比較例りでは強い
もやもやとしたムラが発生したが、実施例10〜17で
は、均一な膜厚の感光層を得ることができ、しかもピン
ホールも発生しなかった。
乾燥後シート状に切断された感光性平版印刷版はネガ型
の印刷版として、感度、再現性にすぐれ、これから得ら
れた印刷版は耐刷性、画像強度等の均一な、すぐれたも
のであった。
露光・現像機富士写真フィルム■製ガム(GO−2)を
塗布して1週間後印刷を行なったところ、比較例gはイ
ンキが完全に付着するまでに48枚を要したのに対して
、比較例りおよび実施例10〜17は28〜30枚であ
って、インキ受容性が良好であった。
以下実施例1においてフッ素系界面活性剤としてそれぞ
れ以下の化合物を使用したほかは同様にして感光性平版
印刷版および刷版を作成し、同様に評価したところ、実
施例1と同様に良好な結果が得られた。
実施例18 C,F、、302N(C,+19)CH2CII□0C
OCH=C’H2(20%)CIIJ(C2H−)ao
COCH=CL       (80%)分子量30.
000 実施例19 C,F、tS02N(C2)1s)C112C1120
COCH=CH2(15%)+10 (C211,0)
 、 O(CJsO) 22 (C,lI40) 、 
+Ic0cII = CH2(85%) 分子150.000 実施例20 CsF+tCLCLOCOCH=CH2(12,5%)
C1130(C2H,0) 2.[l’0CII =C
H2(87,5%)分子量60.000 手続補正書 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿       11酪
1、事件の表示   昭和61年特許願第68949号
2、発明の名称   感光性組成物 3、補正をする者 事件との関係  出願人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社同   
  大日本インキ化学工業株式会社4、代理人 5、補正命令の日付  自  発 6゜ 7、補正の内容               、11
乍\N −1 明細書の記載を下表のように補正する。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)フッ素系界面活性剤を含有する感光性組成物にお
    いて、該フッ素系界面活性剤が(i)3〜20の炭素原
    子を有しかつ40重量%以上のフッ素を含有し、末端の
    少くとも3つの炭素原子が十分にフッ素化されているフ
    ルオロ脂肪族基(Rf基)を含有するアクリレートまた
    はRf基を含有するメタクリレートと、(ii)ポリ(
    オキシアルキレン)アクリレートまたはポリ(オキシア
    ルキレン)メタクリレートとの共重合体であって、Rf
    基含有アクリレートまたはRf基含有メタクリレートモ
    ノマー単位が、該共重合体の重量に基づいて7〜25重
    量%であり該共重合体の分子量が6,000〜100,
    000であることを特徴とする感光性組成物。
  2. (2)該ポリ(オキシアルキレン)基の分子量が600
    〜2,500である特許請求の範囲第(1)項記載の感
    光性組成物。
  3. (3)該共重合体がRf基含有アクリレートおよびポリ
    (オキシアルキレン)アクリレートモノマー単位を含ん
    でいる特許請求の範囲第(2)項記載の感光性組成物。
JP61068949A 1986-03-27 1986-03-27 感光性組成物 Expired - Lifetime JPH06105351B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61068949A JPH06105351B2 (ja) 1986-03-27 1986-03-27 感光性組成物
DE19873751555 DE3751555T2 (de) 1986-03-27 1987-03-24 Photoempfindliche Zusammensetzung.
EP19870104351 EP0239082B1 (en) 1986-03-27 1987-03-24 Light-sensitive composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61068949A JPH06105351B2 (ja) 1986-03-27 1986-03-27 感光性組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62226143A true JPS62226143A (ja) 1987-10-05
JPH06105351B2 JPH06105351B2 (ja) 1994-12-21

Family

ID=13388422

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61068949A Expired - Lifetime JPH06105351B2 (ja) 1986-03-27 1986-03-27 感光性組成物

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0239082B1 (ja)
JP (1) JPH06105351B2 (ja)
DE (1) DE3751555T2 (ja)

Cited By (87)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63218957A (ja) * 1987-03-09 1988-09-12 Nippon Kayaku Co Ltd 可染性樹脂膜のパタ−ン形成法
JPS6418142A (en) * 1987-07-13 1989-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPH021856A (ja) * 1988-06-13 1990-01-08 Konica Corp 感光性平版印刷版
US6514657B1 (en) 2000-07-19 2003-02-04 Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. Photosensitive composition for lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate
EP1314552A2 (en) 1998-04-06 2003-05-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive resin composition
US6808857B2 (en) 2001-05-21 2004-10-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Negative-working photosensitive composition and negative-working photosensitive lithographic printing plate
EP1506855A2 (en) 2003-08-15 2005-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1602982A2 (en) 2004-05-31 2005-12-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. method of producing a lithographic printing plate and planographic printing method
JPWO2004018535A1 (ja) * 2002-08-22 2005-12-08 セイミケミカル株式会社 フッ素系界面活性剤
EP1614537A1 (en) 2004-07-07 2006-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1619023A2 (en) 2004-07-20 2006-01-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1621341A2 (en) 2004-07-30 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1621338A1 (en) 2004-07-27 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1630602A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor
EP1630618A2 (en) 2004-08-24 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1637324A2 (en) 2004-08-26 2006-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Color image-forming material and lithographic printing plate precursor
EP1669195A1 (en) 2004-12-13 2006-06-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing method
EP1685957A2 (en) 2005-01-26 2006-08-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors
EP1707352A1 (en) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing a planographic printing plate
EP1755002A2 (en) 2005-08-18 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate
EP1754597A2 (en) 2005-08-19 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process
WO2007052470A1 (ja) 2005-11-01 2007-05-10 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 平版印刷版材料、平版印刷版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版の印刷方法
EP1939692A2 (en) 2006-12-28 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
EP1939687A2 (en) 2006-12-26 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1947514A2 (en) 2007-01-17 2008-07-23 FUJIFILM Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
EP1956428A2 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes
EP1970196A2 (en) 2007-03-13 2008-09-17 FUJIFILM Corporation Hydrophilic member and process for producing the same
EP1972440A2 (en) 2007-03-23 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP1975706A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1974914A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP1975194A2 (en) 2007-03-28 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Hydrophilic member and undercoating composition
EP1975710A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1992989A1 (en) 2004-12-27 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1992482A2 (en) 2007-05-18 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2006738A2 (en) 2007-06-21 2008-12-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP2006091A2 (en) 2007-06-22 2008-12-24 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
EP2011643A2 (en) 2007-07-02 2009-01-07 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
JP2009031351A (ja) * 2007-07-24 2009-02-12 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法
EP2042923A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Image-forming method and lithographic printing plate precursor
EP2042924A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate
EP2042311A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2042312A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Processing method of lithographic printing plate precursor
WO2009041511A1 (ja) 2007-09-26 2009-04-02 Fujifilm Corporation 親水性膜形成用組成物および親水性部材
EP2045662A2 (en) 2007-09-28 2009-04-08 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2048000A2 (en) 2007-09-18 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Plate making method of lithographic printing plate precursor
EP2055476A2 (en) 2007-10-29 2009-05-06 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2070696A1 (en) 2007-12-10 2009-06-17 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2078984A1 (en) 2008-01-11 2009-07-15 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2082875A1 (en) 2008-01-22 2009-07-29 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
WO2009093688A1 (ja) 2008-01-25 2009-07-30 Fujifilm Corporation 防かび作用を有する親水性組成物及び親水性部材
WO2009096531A1 (ja) 2008-02-01 2009-08-06 Fujifilm Corporation 親水性部材
EP2088468A1 (en) 2008-02-06 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2090933A1 (en) 2008-02-05 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method
EP2093055A1 (en) 2003-03-26 2009-08-26 Fujifilm Corporation Lithographic printing method and presensitized plate
EP2100731A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing
EP2101218A1 (en) 2008-03-10 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2105297A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and plate making method using the same
EP2105800A2 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor
EP2105797A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2105298A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
WO2009119689A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 親水性部材、フィン材、アルミニウム製フィン材、熱交換器およびエアコン
EP2107422A1 (en) 2008-03-31 2009-10-07 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP2108999A1 (en) 2005-07-25 2009-10-14 Fujifilm Corporation Method for preparation of lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2110261A2 (en) 2008-04-18 2009-10-21 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
EP2145772A2 (en) 2008-07-16 2010-01-20 FUJIFILM Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate
EP2166411A2 (en) 2008-09-18 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, process for producing lithographic printing plate, and lithographic printing plate
EP2165829A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2165830A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2168767A1 (en) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
WO2010038795A1 (ja) 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
EP2177357A2 (en) 2008-08-29 2010-04-21 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
WO2010110339A1 (ja) 2009-03-25 2010-09-30 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリマーから成る界面活性剤
WO2010119924A1 (ja) 2009-04-16 2010-10-21 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子
EP2246741A1 (en) 2004-05-19 2010-11-03 Fujifilm Corporation Image recording method
WO2012115124A1 (ja) 2011-02-24 2012-08-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2012133382A1 (ja) 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2012147964A1 (ja) 2011-04-28 2012-11-01 富士フイルム株式会社 金属ナノワイヤを含有する分散液および導電膜
WO2013047229A1 (ja) 2011-09-26 2013-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2013047228A1 (ja) 2011-09-26 2013-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP2013205801A (ja) * 2012-03-29 2013-10-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性樹脂組成物及びその硬化膜、保護膜、絶縁膜並びに半導体装置及び表示体装置
WO2015115598A1 (ja) 2014-01-31 2015-08-06 富士フイルム株式会社 赤外線感光性発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、赤外線感光性発色剤
EP3086176A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation A lithographic printing method
WO2017149918A1 (ja) 2016-02-29 2017-09-08 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
EP3284599A1 (en) 2004-01-09 2018-02-21 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
WO2018147469A1 (ja) 2017-02-13 2018-08-16 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、画像記録方法、及び記録物
WO2018147468A1 (ja) 2017-02-13 2018-08-16 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、記録物、及び画像記録方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03170931A (ja) * 1989-08-07 1991-07-24 Konica Corp 感光性塗布液
US5279922A (en) * 1989-08-07 1994-01-18 Konica Corporation Light-sensitive coating liquid
US5279917A (en) * 1991-05-09 1994-01-18 Konica Corporation Light-sensitive composition comprising a fluorine copolymer surfactant
GB9122576D0 (en) * 1991-10-24 1991-12-04 Hercules Inc Photopolymer resins with reduced plugging characteristics
GB9225724D0 (en) 1992-12-09 1993-02-03 Minnesota Mining & Mfg Transfer imaging elements
US5403437A (en) * 1993-11-05 1995-04-04 Texas Instruments Incorporated Fluorosurfactant in photoresist for amorphous "Teflon" patterning
US6461787B2 (en) 1993-12-02 2002-10-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Transfer imaging elements
JP4458389B2 (ja) 2000-05-01 2010-04-28 コダック株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP2002296774A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP4759483B2 (ja) * 2006-09-25 2011-08-31 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の塗布方法およびレジストパターンの形成方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54135004A (en) * 1978-04-10 1979-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive flat printing plate
JPS5740249A (en) * 1980-06-14 1982-03-05 Hoechst Ag Photographic copying material and method of coating photosensitive copying layer on support
JPS57178242A (en) * 1981-04-27 1982-11-02 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive lithographic plate
JPS58105143A (ja) * 1981-12-17 1983-06-22 Kanto Kagaku Kk ポジ型フオトレジスト組成物
JPS59137943A (ja) * 1983-01-28 1984-08-08 W R Gureesu:Kk 感光性樹脂組成物
JPS59222843A (ja) * 1983-06-01 1984-12-14 Toray Ind Inc ネガ型湿し水不要平版印刷版の製法
JPS6236657A (ja) * 1985-08-10 1987-02-17 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 半導体微細加工用レジスト組成物
JPS62170950A (ja) * 1986-01-23 1987-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1207099A (en) * 1981-12-19 1986-07-02 Tsuneo Fujii Resist material and process for forming fine resist pattern
DE3421526A1 (de) * 1984-06-08 1985-12-12 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Perfluoralkylgruppen aufweisende copolymere, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54135004A (en) * 1978-04-10 1979-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive flat printing plate
JPS5740249A (en) * 1980-06-14 1982-03-05 Hoechst Ag Photographic copying material and method of coating photosensitive copying layer on support
JPS57178242A (en) * 1981-04-27 1982-11-02 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive lithographic plate
JPS58105143A (ja) * 1981-12-17 1983-06-22 Kanto Kagaku Kk ポジ型フオトレジスト組成物
JPS59137943A (ja) * 1983-01-28 1984-08-08 W R Gureesu:Kk 感光性樹脂組成物
JPS59222843A (ja) * 1983-06-01 1984-12-14 Toray Ind Inc ネガ型湿し水不要平版印刷版の製法
JPS6236657A (ja) * 1985-08-10 1987-02-17 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 半導体微細加工用レジスト組成物
JPS62170950A (ja) * 1986-01-23 1987-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物

Cited By (100)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63218957A (ja) * 1987-03-09 1988-09-12 Nippon Kayaku Co Ltd 可染性樹脂膜のパタ−ン形成法
JPS6418142A (en) * 1987-07-13 1989-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPH021856A (ja) * 1988-06-13 1990-01-08 Konica Corp 感光性平版印刷版
EP1314552A2 (en) 1998-04-06 2003-05-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive resin composition
US6514657B1 (en) 2000-07-19 2003-02-04 Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. Photosensitive composition for lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate
US6808857B2 (en) 2001-05-21 2004-10-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Negative-working photosensitive composition and negative-working photosensitive lithographic printing plate
JPWO2004018535A1 (ja) * 2002-08-22 2005-12-08 セイミケミカル株式会社 フッ素系界面活性剤
JP4544996B2 (ja) * 2002-08-22 2010-09-15 Agcセイミケミカル株式会社 フッ素系界面活性剤
EP2093055A1 (en) 2003-03-26 2009-08-26 Fujifilm Corporation Lithographic printing method and presensitized plate
EP1506855A2 (en) 2003-08-15 2005-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP3284599A1 (en) 2004-01-09 2018-02-21 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP2246741A1 (en) 2004-05-19 2010-11-03 Fujifilm Corporation Image recording method
EP1602982A2 (en) 2004-05-31 2005-12-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. method of producing a lithographic printing plate and planographic printing method
EP2618215A1 (en) 2004-05-31 2013-07-24 Fujifilm Corporation Method for producing a lithographic printing plate
EP1614537A1 (en) 2004-07-07 2006-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1619023A2 (en) 2004-07-20 2006-01-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1621338A1 (en) 2004-07-27 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1621341A2 (en) 2004-07-30 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1630618A2 (en) 2004-08-24 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1637324A2 (en) 2004-08-26 2006-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Color image-forming material and lithographic printing plate precursor
EP1630602A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor
EP3182204A1 (en) 2004-09-10 2017-06-21 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP1669195A1 (en) 2004-12-13 2006-06-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing method
EP1992989A1 (en) 2004-12-27 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1685957A2 (en) 2005-01-26 2006-08-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors
EP3086177A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation Method for preparing a lithographic printing place precursor
EP3086176A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation A lithographic printing method
EP1707352A1 (en) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing a planographic printing plate
EP2108999A1 (en) 2005-07-25 2009-10-14 Fujifilm Corporation Method for preparation of lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP1755002A2 (en) 2005-08-18 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate
EP2306246A1 (en) 2005-08-18 2011-04-06 Fujifilm Corporation Manufacturing method of lithographic printing plate
EP1754597A2 (en) 2005-08-19 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process
WO2007052470A1 (ja) 2005-11-01 2007-05-10 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 平版印刷版材料、平版印刷版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版の印刷方法
EP1939687A2 (en) 2006-12-26 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP2503393A1 (en) 2006-12-28 2012-09-26 Fujifilm Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
EP2662729A1 (en) 2006-12-28 2013-11-13 Fujifilm Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
EP1939692A2 (en) 2006-12-28 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
EP2447779A1 (en) 2007-01-17 2012-05-02 Fujifilm Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
EP2447780A1 (en) 2007-01-17 2012-05-02 Fujifilm Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
EP1947514A2 (en) 2007-01-17 2008-07-23 FUJIFILM Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
EP1956428A2 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes
EP2592475A1 (en) 2007-02-06 2013-05-15 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and novel cyanine dyes
EP1970196A2 (en) 2007-03-13 2008-09-17 FUJIFILM Corporation Hydrophilic member and process for producing the same
EP1972440A2 (en) 2007-03-23 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP1975194A2 (en) 2007-03-28 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Hydrophilic member and undercoating composition
EP1974914A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP1975706A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1975710A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1992482A2 (en) 2007-05-18 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2006738A2 (en) 2007-06-21 2008-12-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP2006091A2 (en) 2007-06-22 2008-12-24 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
EP2011643A2 (en) 2007-07-02 2009-01-07 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
JP2009031351A (ja) * 2007-07-24 2009-02-12 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法
EP2048000A2 (en) 2007-09-18 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Plate making method of lithographic printing plate precursor
WO2009041511A1 (ja) 2007-09-26 2009-04-02 Fujifilm Corporation 親水性膜形成用組成物および親水性部材
EP2042923A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Image-forming method and lithographic printing plate precursor
EP3021167A1 (en) 2007-09-28 2016-05-18 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2042312A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Processing method of lithographic printing plate precursor
EP2045662A2 (en) 2007-09-28 2009-04-08 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2042924A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate
EP2042311A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2380737A1 (en) 2007-10-29 2011-10-26 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2055476A2 (en) 2007-10-29 2009-05-06 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2070696A1 (en) 2007-12-10 2009-06-17 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2078984A1 (en) 2008-01-11 2009-07-15 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2082875A1 (en) 2008-01-22 2009-07-29 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
WO2009093688A1 (ja) 2008-01-25 2009-07-30 Fujifilm Corporation 防かび作用を有する親水性組成物及び親水性部材
WO2009096531A1 (ja) 2008-02-01 2009-08-06 Fujifilm Corporation 親水性部材
EP2090933A1 (en) 2008-02-05 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method
EP2088468A1 (en) 2008-02-06 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2101218A1 (en) 2008-03-10 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2100731A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing
EP2105297A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and plate making method using the same
EP2105797A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2105800A2 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor
WO2009119689A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 親水性部材、フィン材、アルミニウム製フィン材、熱交換器およびエアコン
EP2105298A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2107422A1 (en) 2008-03-31 2009-10-07 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate
EP2110261A2 (en) 2008-04-18 2009-10-21 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
EP2145772A2 (en) 2008-07-16 2010-01-20 FUJIFILM Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate
EP2177357A2 (en) 2008-08-29 2010-04-21 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2166411A2 (en) 2008-09-18 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, process for producing lithographic printing plate, and lithographic printing plate
EP2165830A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2165829A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2168767A1 (en) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
WO2010038795A1 (ja) 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
WO2010110339A1 (ja) 2009-03-25 2010-09-30 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリマーから成る界面活性剤
WO2010119924A1 (ja) 2009-04-16 2010-10-21 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子
EP2990873A1 (en) 2011-02-24 2016-03-02 Fujifilm Corporation Process for making lithographic printing plate
WO2012115124A1 (ja) 2011-02-24 2012-08-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2012133382A1 (ja) 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2012147964A1 (ja) 2011-04-28 2012-11-01 富士フイルム株式会社 金属ナノワイヤを含有する分散液および導電膜
WO2013047228A1 (ja) 2011-09-26 2013-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2013047229A1 (ja) 2011-09-26 2013-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP2013205801A (ja) * 2012-03-29 2013-10-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd 感光性樹脂組成物及びその硬化膜、保護膜、絶縁膜並びに半導体装置及び表示体装置
WO2015115598A1 (ja) 2014-01-31 2015-08-06 富士フイルム株式会社 赤外線感光性発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、赤外線感光性発色剤
WO2017149918A1 (ja) 2016-02-29 2017-09-08 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
WO2018147469A1 (ja) 2017-02-13 2018-08-16 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、画像記録方法、及び記録物
WO2018147468A1 (ja) 2017-02-13 2018-08-16 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、記録物、及び画像記録方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE3751555T2 (de) 1996-04-04
EP0239082A3 (en) 1990-11-07
DE3751555D1 (de) 1995-11-16
JPH06105351B2 (ja) 1994-12-21
EP0239082A2 (en) 1987-09-30
EP0239082B1 (en) 1995-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS62226143A (ja) 感光性組成物
JPS62170950A (ja) 感光性組成物
US4229266A (en) Process for anodically oxidizing aluminum and use of the material so prepared as a printing plate support
US4885230A (en) Burn-in gumming composition for offset printing plates
JPS6325079B2 (ja)
JP3023570B2 (ja) 感光性平版印刷版支持体
JPS62251739A (ja) 感光性組成物
JPH03261592A (ja) 感光性平版印刷版
JPS63165183A (ja) 平版印刷版用支持体
US4608131A (en) Process for the anodic oxidation of aluminum and use thereof as support material for offset printing plates
JPH03172849A (ja) 感光性組成物
JPS62194249A (ja) ポジ型感光性組成物
JP2648981B2 (ja) 感光性平版印刷版
JPS63158552A (ja) 平版印刷版の製造方法
JPS6233692A (ja) 平版印刷版用支持体
JPS63145092A (ja) 平版印刷版用支持体
JPS6297892A (ja) 平版印刷版用支持体
JPS63130391A (ja) 平版印刷版用支持体
JPH0570813B2 (ja)
JPH01237197A (ja) 平版印刷版支持体の製造方法
JPH06297875A (ja) 感光性平版印刷版
JPH0225399A (ja) 平版印刷版用支持体の製造方法
JPS62125357A (ja) 感光性平版印刷版用現像液組成物及び現像方法
JPH03215098A (ja) 平版印刷版用支持体の製造法
JPH0214188A (ja) 平版印刷版用支持体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term