SE453403B - Alster overdraget med hoggradigt hart material, forfarande for dess framstellning samt anvendning av alstret - Google Patents
Alster overdraget med hoggradigt hart material, forfarande for dess framstellning samt anvendning av alstretInfo
- Publication number
- SE453403B SE453403B SE8102717A SE8102717A SE453403B SE 453403 B SE453403 B SE 453403B SE 8102717 A SE8102717 A SE 8102717A SE 8102717 A SE8102717 A SE 8102717A SE 453403 B SE453403 B SE 453403B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- coated
- substrate
- hard material
- diffraction
- peak
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/911—Penetration resistant layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/24983—Hardness
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
under SOOOC. Den s.k. fysikaliska ångutfällningsmetoden innefattar ångutfällningsmetoden, förstoftningsmetoden, metoden med aktiverad reaktiv ångutfällning (ARE-metoden), metoden med ångutfällning med ihålig katodurladdning (HCD-metoden), jonpläteringsmetoden och liknande, men framför allt föredrages jonpläteringsmetoden, där ett material, som skall ångutfällas, göres högenergetiädzsom positiv jon genom anbringande av en negativ accelererande spänning över ett sub- strat, för ökning av vidhäftningshållfastheten mellan beläggnings- filmen och substratet. Denna jonpläteringsmetod kan klassificieras i två slag bestående av högtryckstypen (lågvakuumtypen), där jonise- ringen utföres genom en glödurladdning i en*omgivande gas under ett tryck av 0,5-3 Pa, och lågtryckstypen (högvakuumtypen), där jonise- ringen utföres genom en intermediär elektrod, elektronbestrålning eller ett högfrekvent elektriskt fält under ett tryck av 0,1 Pa el- ler mindre. Emellertid medför jonpläteringsmetoden av högtrycksty- pen nackdelen att beläggningsfilmen av titankarbid eller titannit- rid på grund av dess höga omgivningstryck har benägenhet att vara svag och någon tillfredsställande vidhäftningshållfasthet erhålles icke, eftersom accelerationen av joner utföres huvudsakligen vid den mörka katoddelen kring basmaterialet. Vid fallet av lâgtrycks- typen kan å andra sidan en beläggningsfilm av god kvalitet lätt er- hållas och det är möjligt att accelerera tillräckligt mycket joner med en väsentligen homogen potentialgradient, vilket resulterar i en hög vidhäftningshållfasthet, men filmkvaliteten och vidhäftnings- hållfastheten påverkas i hög grad genom joniseringseffektiviteten och accelerationsspänningen. Den ordinära jonpläteringsmetoden är icke så effektiv för ökning av vidhäftningshållfastheten, eftersom joniseringseffektiviteten är generellt låg och energin, som tillfö- res till ett material som skall ångutfällas, icke kan ökas i så hög grad även om accelerationsspänningen ökas. Följaktligen har en HCD-metod och ARE-metod föreslagits, varigenom vidhäftningshåll- fastheten ökas genom upphettning av ett substrat utan anbringande av en accelererande spänning, varvid emellertid vidhäftningshållfast- heten icke är tillfredsställande vid låga temperaturer och förde- larna med den fysikaliska ångutfällningsmetoden, såsom beskrivits ovan, förloras vid höga temperaturer. Vid anbringande av en acce- lererande spänning med användning av den ordinära jonpläteringsan- ordningen med en låg joniseringseffektivitet, är t.ex. strömmen, som går genom en accelerationselektrod (vanligen substrat) mycket 3 liten, dvs ca 0,01-0,2 A, till och med då accelerationsspänningen är tämligen hög.
Vid tidigare försök inom ramen för denna uppfinning har en sådan jonpläteringsprocess hittills använts vid studium av beläggning av hârdmetallinsatser med ett skikt av TiN eller TiC för jämförelse med den kemiska ångutfällningsprocessen, såsom beskrives i "Thin Solid Films" 54 (1978) sid. 67-74. I enlighet med denna undersökning framgår att slitbeständigheten för karbider, anbringade genom jon- plätering, är liknande den för karbider anbringade genom kemisk ång- utfällning, men den genom jonplätering erhållna segheten är överläg- sen den för överdrag erhållna genom den kemiska ångutfällningsmeto- den. Dessutom har även föreslagits ett överdraget verktygsstål, in- nefattande ett verktygsstålsubstrat och en överdragen film därpå, bestående av minst en av titan-, zirkonium- och hafniumkarbider, -nitrider och -karbonitrider, som har en större halvvärdesbredd, såsom beskrives i amerikanska patentskriften 4 169 913. Emellertid är dessa överdragna alster icke tillfredsställande ifråga om vid- häftningshållfasthet mellan substratet och beläggningen.
Ett ändamål med föreliggande uppfinning är erhållande av ett alster överdraget med höggradigt hårt material, som uppvisar utmärkt slit- beständighet, värmebeständighet och korrosionsbeständighet.
Ett annat ändamål med föreliggande uppfinning är erhållande av skär- verktyg, slitbeständiga verktyg, Slitdetaljer och dekorationsartik- lar med en förbättrad slitbeständighet, värmebeständighet och kor- rosionsbeständighet.
Vidare är ett ändamål med uppfinningen erhållande av ett belagt als- ter med en förbättrad vidhäftningshållfasthet mellan substratet och beläggningen genom användning av jonpläteringsmetoden.
För uppnâende av detta ändamål hänför sig uppfinningen till ett als- ter överdraget med höggradigt hårt material, vilket innefattar ett substrat bestående av ett verktyg eller en detalj, som består av en kermet, hårdmetall, verktygsstål eller rostfritt stål, och åt- minstone ett höggradigt hårt maierial anbringat på ytan därav, valt från gruppen bestående av karbider, nitrider och karbonitrider av minst en av titan, zirkonium och hafnium samt fasta lösningar därav och sådana, vari syre är upplöst, vilket alster enligt uppfinningen , 43* 403 kännetecknas av att kristallerna i beläggningsfilmen är kraftigt orienterade så att förhållandet mellan diffraktionsintensiteten för den näst starkaste diffraktionstoppen och den för toppen från f2203- planet vid röntgendiffraktion med användning av Cu-Kßpstrålning är 15% eller mindre och att halvvärdesbredden för diffraktionstop- pen från {2201-planet för beläggningsfilmen är 0,80 eller mera på 2 6-skalan.
Då ett kristallplan bestrålas med röntgenstrålar, utsändes reflek- terade röntgenstrålar genom interferens med kristallplanet. Inten- siteten för de reflekterade röntgenstrålarna benämnes "diffraktions- intensitet". Ett sätt att mäta intensiteten är att avläsa höjden (i mm) för en diffraktionslinje, som registrerats av en registre- ringsapparat. Kristallplanen benämnes med Miller-index såsom t.ex. {22d}-planet och {11fš-planet. Se "Elements of X-ray Diffraction", utgiven av Addison-Wesley Publishing Co., Inc., Reading, Massachu-' setts, USA.
Vidare hänför sig uppfinningen till ett sätt för framställning av ett alster enligt uppfinningen, varvid substratet överdrages med åtminstone ett höggradigt hårt material till en tjocklek av 1-20 pm, varvid överdragningen enligt uppfinningen utföres genom en jonplä- teringsmetod innefattande anbringande av en negativ accelerations- spänning av 0,5-5 kV på substratet i början, följt av sänkning av den negativa accelerationsspänningen till 0,1-0,5 kV efter ca 5-10 minuter, i en reaktiv gas.
Slutligen hänför sig uppfinningen till en användning av ett alster enligt uppfinningen som en engångsinsats för fräsning, vilken be- står av en kermet eller hårdmetall, eller som kuggfräs.
Det har visat sig att ett alster överdraget med höggradigt hårt ma- terial med utmärkt vidhäftningshâllfasthet mellan substratet och beläggningen erhålles under de angivna betingelserna för jonpläte- ringsmetoden enligt uppfinningen.
Bifogade ritning är en schematisk vy av ett jonpläteringssystem, som användes vid föreliggande uppfinning.
I en jonpläteringsanordning, som användes vid föreliggande uppfin- ning, är joniseringseffektiviteten hög och den elektriska strömmen, som går genom en accelerationselektrod, är synnerligen hög, dvs minst 1-20 A, även om accelerationsspänningen är låg. På grund av den höga joniseringseffektiviteten kan energin för den individu- ella jonen av ett material, som skall ångutfällas, ökas genom ök- ning av accelerationsspäningen, vilket resulterar i en beläggnings- film med en hög vidhäftningshållfasthet. Kristallerna för belägg- ningsfilmen, som erhålles på detta sätt, är starkt orienterade i riktningen för (220) för ytan på substratet. I enlighet med resul- taten av de för uppfinningen grundläggande undersökningarna har det visat sig att vidhäftningshållfastheten är tillräckligt stor för praktisk användning då förhållandet mellan diffraktionsinten- siteten för den näst starkaste diffraktionstoppen och den för top- pen í;2Ö3 -planet är högst 15%. I detta område kan t.ex. det be- lagda verktyget användas för oavbruten svarvning. Då detta förhål- lande är mindre än 10%, uppvisar det belagda verktyget en hög vid- häftningshållfasthet och ger goda resultat vid användning vid fräs- ning, där verktyg överdragna enligt tidigare teknik icke med fram- gång kan användas.
Vid föreliggande uppfinning är emellertid den elektriska strömmen, som passerar genom ett substrat, hög, dvs 1-20 A, så att om acce- lerationsspänningen är t.ex. 1,5 kV, så är den elektriska energin, som tillföres till substratet, 1,5-30 kV och temperaturen för sub- stratet ökas markant. Sålunda föreligger en möjlighet till för- sämring av fördelen med den fysikaliska ångutfällningsmetoden att beläggningen kan åstadkommas vid låg temperatur.
Vidare har det även genom dessa undersökningar visat sig, att då överdragningen genomföres med användning av en jonpläteringsanord- ning med en hög joniseringseffektivitet, så ökar den kristallina oordningen för beläggningsfilmen med sänkning av temperaturen och halvvärdesbredden för diffraktionstoppen vid röntgendiffraktionen är stor. Här torde det sålunda noteras, att ju större halvvärdes- bredden är, desto mera förbättras slitbeständigheten för belägg- ningsfilmen. Då t.ex. halvvärdesbredden för diffraktionstoppen från í22Ö]-planet för beläggningsfilmen vid röntgendiffraktion med användning av Cu-Kßkstrålning är åtminstone 0,80 på 2 9-skalan, erhålles en utmärkt slitbeständighet och då den är minst 10 sa är slitbeständigheten ännu mera förbättrad.
Detta innebär att föreliggande överdragna alster har utmärkt vid- häftningshållfasthet för beläggningen, tillsammans med en hög ass ,ir4 u z ^- slitbeständighet.
För att sänka diffraktionsintensitetsförhållandet till 15% eller mindre är det emellertid nödvändigt att öka accelerationsspän- ningen, som anbringas över ett substrat, medan det för ökning av halvvärdesbredden är nödvändigt att sänka accelerationsspänningen.
Försök har gjorts att lösa detta motsatsförhållande och det har så- lunda visat sig att diffraktionsintensitetsförhållandet bestämmes av spänningen vid början för överdragningen och halvvärdesbredden beror på den elektriska energin. Baserat på detta faktum ökas acce- lerationsspänningen enligt uppfinningen vid början av påförandet av beläggningen och därefter sänkes accelerationsspänningen, varigenom man erhåller ett överdraget alster med ett diffraktionsintensitets- förhållande av 15% eller mindre och en halvvärdesbredd av 0,80 eller mera. Om tjockleken för en beläggningsfilm är mindre än 1 pm, är generellt effekten därav alltför liten, medan om tjockleken är mer än 20 pm, avflagning och försprödning av beläggningsfilmen ofta sker.
Då accelerationsspänningen ändras såsom beskrivits ovan, förändras diffraktionsintensitetsförhållandet och halvvärdesbredden på motsva- rande sätt, men kvantiteten eller graden av förändringar beror på slaget av, formen och dimensionen för substrat, den inre dimensio- nen eller mekanismen för jonpläteringsanordningen och joniserings- effektiviteten. Dessutom föreligger skillnader beroende på materia- let, som skall ångutfällas, t.ex. om detta består av titankarbid eller titannitrid, och det är sålunda svårt att generellt bestämma diffraktionsintensitetsförhållandet och halvvärdesbredden i motsva- righet till acceleratinnsspänningen. Vid överdragning av titannit- rid genom användning av titan som material, som skall ångutfällas, och kväve som reaktiv gas genomföres sättet enligt tidigare teknik genom anbringande av en accelerationsspänning av 0-2 kV över belägg- ningen och upphettning av substratet till en temperatur av 500-700OC för erhållande av ett diffraktionsintensitetsförhållande (I/Imax) av 25-80% och en halvvärdesbredd (2 9) av 0,1-0,50, medan vid före- liggande uppfinning accelerationsspänningen inställes på 0,5-5 kV i början och sänkes till OJ-0,5kV efter ca 5-10 minuter för erhål- lande av ett diffraktionsintensitetsförhållande av mindre än 15% och en halvvärdesbredd av mer än 0,80.
I ett exempel enligt föreliggande uppfinning belägges en ändfräs (10 mm diameter) av snabbstål (JIS SKH 55, motsvarande AISI M35) med TiN med en tjocklek av 2,3 Pm genom upprätthållande av en acce- lerationsspänning av 0,5 kV i början och Säflfiüflg till 012 kV ef' ter att 5 minuter förlöpt, så att beläggningen genomföres under 25 minuter. Resultaten av röntgendiffraktion visar att förhållandet mellan diffraktionsintensitet för den näst starkaste toppen från ïH13-planet och för toppen från {220}-planet är 13%.
I ett annat exempel belägges en engångsinsats (insatstyp: SNG 533) av kermet av TiCN-TaN-Mo2C-WC-Ni-Co-typ med TiN med en tjocklek av 9,m1genom upprätthållande av en accelerationsspänning av 5 kV i början och sänkning till 0,5 kV efter att 5 minuter förlöpt, så att beläggningen genomföres under 110 minuter. Resultaten av röntgen- diffraktion visar att förhållandet mellan diffraktionsintensiteten för den näst starkaste diffraktionstoppen från {20d3-planet och den för den högsta toppen från í220š-planet är 1,3%.
Beläggningsfilmen för alstret överdraget med höggradigt hårt mate- rial enligt föreliggande uppfinning kan bestå av en multifilm eller kan vara förenad med en film av aluminiumoxid eller kiselnitrid.
En utföringsform för beläggning med hjälp av en jonpläteringsanord- ning, som användes vid föreliggande uppfinning, beskrives med hän- visning till bifogade ritning.
Substrat 5 är fäst till substrathållare 6 och vakuumkammare 1 evaku- eras till ett tryck av 8 x 10-3 Pa eller mindre med hjälp av evaku- eringsanordning 2. Argongas införes i vakuumkammaren 1 till ett tryck av ca 3 Pa från gasinmatningssystem 3. En negativ spänning av ca 1,5 kV anbringas över substratet 5 genom energikälla 4 för bildning av glödurladdning och för uppvärmning av substratet 5 och därige- nom rengöres ytan på substratet 5. Inmatningen av argongas stoppas och vakuumkammaren 1 evakueras återigen.
Metall 13 av titan, zirkonium, hafnium eller en legering bestående av två eller flera av dessa metaller i vattenkyld koppardegel 12 bestrålas med elektronstråle 11, som emitterar från elektronkanon 9 genom påverkan av energikällan 10 för elektronkanonen 9, och smäl- tes och förångas. En positiv spänning av 20-100 V anbringas över joniseringselektrod 7 genom energikälla 8 och mellan joniserings- elektroden 7 och smält metall 13 bildas en urladdning genom sekun- dära elektroner emitterade genom bombardering med elektronstrålen 11 och smält metall 13 och den metalliska ångan, som förångas från ytan på den smälta metallen 13. Åtminstone en gas, vald från grup- pen bestående av kvävgas, acetylengas och syrgas samt blandningar därav, införes som en reaktiv gas i vakuumkammaren 1 från gasin- mâtningssystem 3 så att man uppnår ett tryck av 2,5 x 10-2 till 9,5 x 1052 Pa. Substratet 5 bringas att rotera genom mekanism 14, över vilken en negativ spänning av 0,5-5 kV anbringas genom energi- källan 4 för substratacceleration.
I detta fall kan en accelerationsspänning tillföras genom accelera- tionselektrod 15 genom energikälla 16 trots anbringande av en~spän- ning över substratet 5. Lucka 17 öppnas och beläggning av substra- tet 5 startar därefter. Efter att 5-10 minuter förlöpt, sänkes acce- lerationsspänningen till en negativ spänning av 0,1-0,5 kV. Om sub- stratet 5 är jordat eller uppvisar den lägre potentialen och acce- lereras genom accelerationselektrod 15, så överhettas icke substra- tet och det är sålunda icke nödvändigt att sänka accelerationsspän- ningen. På detta sätt erhålles ett alster överdratet med ett hög- gradigt hårt material enligt föreliggande uppfinning.
\ Följande exempel presenteras för att illustrera uppfinningen mera detaljerat utan begränsning av densamma.
Exempel 1 Med användning av den ovan beskrivna jonpläteringsanordningen över- drogs ett substrat (insats typ: SPG 422) bestående av hårdmetalle- gering P 30 under olika betingelser, såsom visas i följande tabell, och utsattes för bedömning (tabell 1 och tabell 2). c i ê r- mnmoona|Q>m _ xfizxw» wpmwfiøfip .ficw Nfi Q @.O Qfl Q 0.» Nz @.~ um wfl Qom m.m fl.@ ofi m.m H.Q Nz @.~ Wu mfl mmmoonm|n>m xfinxw» mnwwfiufip .dum zfl Q @.@ Ofi Q @.fi Nmwv n pN nfl Omfl @.m «.Q ofi 0.» «.o _~m~v M »N Nfi mmmoonn|Q>m xficxw» wnmwfiufiv .Ham Hfl om Q mflo m O o.~ ~o+~m~u+~z 1 _ fla OH gm w.fi fi.o m w.« HÅO ~o+~m~0+~z Q wa Q mwwoonQ|Q>m _ xficxwu mnmmfivfl» .flcm fw 9 om 0 mnø w O o.~ wz m.q _ fie _ ß Om @.~ fi.@ w o.~ fl.Q Nz m.= fis w mmwuonQ|o>o xficxmp wnmwfinwa .acw m mmmuonanQ>m xflcxmp mnmmfiwfiu .Ham = gm Q m.@ m O m.fl mmm lwz = we M Om _m.fi fi.@ m m.fi H.o ~m~u+Nz 3 wa N 1 1 1 | 1 | mmumfim »wmHmn|mxoH « ^=fisv_ ^>xV wfi ^>xv = Acfiev ^>x wfiv ^>xv = www Amm ~|ofl xv flmfipmpmzf .fiz mfiflmx wfifiwx mfifimx mfifimx |wm:fi=>«meo _ _. wcfi=»wc=ø>< www Ipwwpx |»@@pm wfia |»«@~x -pumum xuæpu uwwfiwwcwuwn mnmcowuwpm nmmflmwcfiuwn .hawnb |mw:fic>flwEo w Hflmßmß 10 ._0002 __ __ __ 00.0 0.2 __ A003 0.0. zë es 3.0 __ __ __ ofifi mi. Üå ._ 0.* zum se 2.0 __ 00 __ oïw i» A003 ïmå NJ Få næmmfim : m __ omflo m.wm : Ûowv n.= omm ___š 3.0 __ __ __ ømå 0,0 TSV __ 0.0 0.3 se 005 __ 00. __ 00.~ 0.” A003 A33 0A 0.5 _3002 _. 0 __ 00.0 0.00 A30» ^00~v NJ 8233.. se 00.0 __ __ __ ofiå mi. __ __ m; 202003. å. 3.0 __ 00. __ må Ûm 300V A003 m; 82003 äwæfiw __ 0 __ 00.0 0.00 __ ^00- m; 23 se 3.0 __ __ __ ofiå ä» __ __ 0:0 zä. es Sá __ 0m __ 00.0 10 __ __ 0.0 z? _8093 __ fi __ 00.0 ïä __ _ __ må 2602. ._0002 __ 3 __ 00.0 0.2 __ __ må 2,802. ______ E10 __ __ __ ONÅ 0.0 Giv __: 0.0 2003. se 00.0 __ ___ ___ 00.0 0.0 ^00- GNNV m; :S020 se 00.0 ie 00 ._0000 1 1 | .. | 1 - 3 NV 800 x S »m5 CQEH 000.2..
Awømunmocflcuwcxcmfiw» øø@nnwwøum> xmEH\Hv nfimcwucfiv :maa ncwucfiv cøfia Åslæ uu»fl~m>x ääpfim 13mm: 003 000030; åcoflxmnmufi. |mc00ßx9rrfimø xøñxoo? -EE wwwnucmm nmcofiuxmhmmwø Ifiæwmumu mummxhmum umwz wuwmähøum lëflfim Lowww ncmumfiflww _ :maa ^ømmv |«mcmu:H ^.wuhOuv H Hfimnmfi 11 Tabell 2 Betingelser för egenskapsbedömning_ Skärmetod Ytfräsning Arbetsstycke Material - SCM 3 (JIS) Hårdhet - Hs 32 Dimension - “breda 1oo mm: längd 300 mm Verktyg Fräs med en insats (fräsdiameter 160 mm) Fräsbetingelser Hastighet 180 m/min.
Urfräsning- 3 mm Q Inmatning _ 0,2 mm/varv.' Testresultaten av de erhållna proverna visar att de belagda alstren enligt föreliggande uppfinning har höggradigt mera utmärkta egenska- per eller ger bättre resultat än belagda alster enligt tidigare tek- nik, och i jämförelse med det icke-överdragna alstret är nötnings- beständigheten 1,8-3,2 gånger bättre. Då de överdragna alstren en- ligt föreliggande uppfinning jämföres med varandra, ger prover, vars röntgendiffraktionsintensitetsförhållande (I/Imax) x 100 är litet och vars halvvärdesbredd för i2203-planets diffraktionstopp är stor, mycket bättre resultat.
Exempel 2 Med användning av jonpläteringsanordningen enligt exempel 1 upphet- tades titan och förångades genom en elektronstråle, joniserades vid en joniseringspotential av +40V och utfälldes på en rundfräs med modul 1 och 200 i-tryckvinkel (JIS SKH 57) vid en substratpo- tential av -0,8 kV under 5 minuter och -0,5 kV under 25 minuter i en blandad gas under ett totalt tryck av 5'x 10f4 torr, där partial- trycket för acetylen var 2 x 10-4 torr och partialtrycket för kväve var 3 x 10-4 torr, så att en överdragen produkt med ett intensitets- förnaiianae (1200/izzo) av 9,7% och en nalvväraesbreaa av 1,o° på 2_9-skalan erhölls. Den sålunda behandlade rundfräsen utsattes för kuggfräsning på ett arbëtsstycke av JIS S50C med en fräshastighet av 106 m/min. och 1061 varv/min. i närvaro av skärolja. 230 stycken kunde framställas. Å andra sidan var livslängden för ett konventio- nellt fräsverktyg endast 100 arbetsstycken.
För skärverktyg, Slitbeständiga verktyg, slitdetaljer eller dekora- 12- tionsartiklar överdragna med höggradiskt hårda material enligt föreliggande uppfinning, väljes ett material för en detalj, var- vid erfordras åtminstone slitbeständignet, värmebeständighet och korrosionsbeständighet, bland kermeter, hårdmetaller, verktygsstål och rostfritt stål. Exempelvis uppvisar en engångsinsats av en ker- met eller hårdmetall överdragen med ett höggradigt hårt material enligt föreliggande uppfinning utmärkta resultat, isynnerhet för fräsning.
Claims (3)
1. Alster överdraget med höggradigt hårt materiak vilket inne- fattar ett substrat bestående av ett verktyg eller en detalj, som består av kermet, hårdmetall, verktygsstål eller rostfritt stål, och åtminstone ett höggradigt hårt material, överdraget därpå, valt från gruppen bestående av karbider, nitrider och karbonitrider av minst en av titan, zirkonium och hafnium och fasta lösningar därav samt sådana, i vilka syre är upplöst, k ä n n e t e c k n a t av att kristallerna i beläggnings- filmen är kraftigt orienterade så att förhållandet mellan diffraktionsintensiteten för den näst starkaste diffraktions- toppen och den för toppen från {220} -planet vid röntgendif- fraktion med användning av Cu-Ku-strålning är högst 15% och att halvvärdesbredden för diffraktionstoppen från {220} -pla- net för beläggningsfilmen är minst 0,80 på 2 9-skalan.
2. Sätt för framställning av ett alster överdraget med ett höggradigt hårt material, varvid ett substrat bestående av ett verktyg eller en detalj, bestående av kermet, hårdmetall, verktygsstål eller rostfritt stål, överdrages med åtminstone ett höggradigt hårt material valt från gruppenàbestående av karbider, nitrider och karbonitrider av åtminstone en av titan, zirkonium och hafnium och fasta lösningar därav samt sådana, i vilka syre är upplöst, med en tjocklek av 1-20/um, k ä n - n e t e c k n a t av att överdragningen utföres genom en jon- pläteringsmetod innefattande anbringande av en negativ accele- rationsspänning av 0,5-5 kV på substratet i början, följt av sänkning av den negativa accelerationsspänningen till 0,1- 0,5 kV efter ca 5-10 minuter, i en reaktiv gas.
3. Användning av ett alster överdraget med höggradigt hårt material, vilket innefattar ett substrat bestående av ett verktyg eller en detalj, som består av kermet, hårdmetall, verktyggstål eller rostfritt stål, och åtminstone ett höggra- digt hårt material, överdraget därpå, valt från gruppen bestå- ende av karbider, nitrider och karbonitrider av minst en av titan, zirkonium och hafnium och fasta lösningar därav samt sådana, i vilka syre är upplöst, varvid kristallerna i belägg- 453 403 M ningsfilmen är kraftigt orienterade så att förhållandet mellan diffraktionsintensiteten för den“näst starkaste diffraktions- toppen och den för toppen från {220§ -planet vid röntgendif- fraktion med användning av Cu-Ka-strålning är högst 15% och att halvvärdesbredden för diffraktionstoppen från {220} -pla- net för beläggningsfilmen är minst 0,80 på 2 6-skalan som en engångsinsats för fräsning, vilken består av en kermet eller hårdmetall, eller som kuggfräs.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5777080A JPS56156767A (en) | 1980-05-02 | 1980-05-02 | Highly hard substance covering material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE8102717L SE8102717L (sv) | 1981-11-03 |
SE453403B true SE453403B (sv) | 1988-02-01 |
Family
ID=13065105
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE8102717A SE453403B (sv) | 1980-05-02 | 1981-04-29 | Alster overdraget med hoggradigt hart material, forfarande for dess framstellning samt anvendning av alstret |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4401719A (sv) |
JP (1) | JPS56156767A (sv) |
DE (1) | DE3117299C3 (sv) |
FR (1) | FR2481632A1 (sv) |
GB (1) | GB2075068B (sv) |
MX (1) | MX155241A (sv) |
SE (1) | SE453403B (sv) |
Families Citing this family (121)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT385058B (de) * | 1946-07-17 | 1988-02-10 | Vni Instrument Inst | Verfahren zur verfestigung von schneidwerkzeugen |
JPS58141249A (ja) * | 1982-02-15 | 1983-08-22 | Nippon Paint Co Ltd | 水性塗料組成物 |
DE3216456A1 (de) * | 1982-05-03 | 1983-11-03 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zum einbetten von hartstoffen in die oberflaeche von spanabhebenden werkzeugen |
SE453265B (sv) * | 1983-02-14 | 1988-01-25 | Vni Instrument Inst | Skerverktyg med slitbestendig beleggning samt forfarande for framstellning av detta |
US4468309A (en) * | 1983-04-22 | 1984-08-28 | White Engineering Corporation | Method for resisting galling |
WO1985000999A1 (en) * | 1983-08-25 | 1985-03-14 | Vsesojuzny Nauchno-Issledovatelsky Instrumentalny | Cutting tool and method of manufacture thereof |
US4716083A (en) * | 1983-09-23 | 1987-12-29 | Ovonic Synthetic Materials Company | Disordered coating |
JPS60129483A (ja) * | 1983-12-14 | 1985-07-10 | Diesel Kiki Co Ltd | 電磁弁 |
US4554208A (en) * | 1983-12-27 | 1985-11-19 | General Motors Corporation | Metal bearing surface having an adherent score-resistant coating |
GB8405170D0 (en) * | 1984-02-28 | 1984-04-04 | Atomic Energy Authority Uk | Titanium alloy hip prosthesis |
JPS6126769A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-06 | Katsuhiro Okubo | 有色硬質被膜の形成方法 |
JPS61111981A (ja) * | 1984-11-05 | 1986-05-30 | 株式会社豊田中央研究所 | セラミツク部品と金属部品との結合方法 |
JPS61170559A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-08-01 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 被覆超硬合金 |
JPS61183458A (ja) * | 1985-02-08 | 1986-08-16 | Citizen Watch Co Ltd | 黒色イオンプレ−テイング膜 |
DE3506726A1 (de) * | 1985-02-26 | 1986-08-28 | Reifenhäuser GmbH & Co Maschinenfabrik, 5210 Troisdorf | Verschleisswiderstandserhoehende beschichtung am zylinder und an der schnecke einer kunststoff-schneckenpresse |
DE3506668A1 (de) * | 1985-02-26 | 1986-08-28 | Reifenhäuser GmbH & Co Maschinenfabrik, 5210 Troisdorf | Verschleisswiderstandserhoehende beschichtung am zylinder und an der schnecke einer kunststoff-schneckenpresse |
JPS61266844A (ja) * | 1985-05-18 | 1986-11-26 | Honda Motor Co Ltd | トルク伝導装置用積層金属ベルト |
US4990233A (en) * | 1985-06-14 | 1991-02-05 | Permian Research Corporation | Method for retarding mineral buildup in downhole pumps |
CH665428A5 (de) * | 1985-07-26 | 1988-05-13 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur beschichtung von mikrovertiefungen. |
JPS6256564A (ja) * | 1985-09-06 | 1987-03-12 | Mitsubishi Metal Corp | 耐摩耗性のすぐれた表面被覆硬質部材 |
US4895765A (en) * | 1985-09-30 | 1990-01-23 | Union Carbide Corporation | Titanium nitride and zirconium nitride coating compositions, coated articles and methods of manufacture |
JPS62116762A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | Citizen Watch Co Ltd | 外装部品の製造方法 |
CH664377A5 (de) * | 1986-01-16 | 1988-02-29 | Balzers Hochvakuum | Dekorative schwarze verschleissschutzschicht. |
FR2595572B1 (fr) * | 1986-03-12 | 1989-06-16 | France Implant | Procede de fabrication d'implants chirurgicaux au moins partiellement revetus d'une couche en un compose metallique, et implants realises conformement audit procede |
JPS6365064A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-23 | Mitsutoyo Corp | マイクロメ−タ |
KR920002168B1 (ko) * | 1986-09-25 | 1992-03-19 | 유니온 카바이드 코포레이션 | 질화지르코늄 피복제품과 그 제조방법 |
JPS63109151A (ja) * | 1986-10-27 | 1988-05-13 | Hitachi Ltd | 高硬度複合材およびその製造方法 |
JPH0745707B2 (ja) * | 1986-11-25 | 1995-05-17 | 三菱マテリアル株式会社 | 高速切削用表面被覆炭窒化チタン基サ−メツト |
JP2535866B2 (ja) * | 1987-02-10 | 1996-09-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆硬質合金製切削工具 |
JPH0774426B2 (ja) * | 1987-08-10 | 1995-08-09 | 株式会社神戸製鋼所 | 耐摩耗性被覆膜の製造方法 |
US4863810A (en) * | 1987-09-21 | 1989-09-05 | Universal Energy Systems, Inc. | Corrosion resistant amorphous metallic coatings |
US4936959A (en) * | 1987-12-16 | 1990-06-26 | Ford Motor Company | Method of making cutting tool for aluminum work pieces having enhanced crater wear resistance |
GB8801366D0 (en) * | 1988-01-21 | 1988-02-17 | Secr Defence | Infra red transparent materials |
JPH01255657A (ja) * | 1988-04-02 | 1989-10-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 被覆硬質合金およびその製造方法 |
US5079089A (en) * | 1988-07-28 | 1992-01-07 | Nippon Steel Corporation | Multi ceramic layer-coated metal plate and process for manufacturing same |
US5192410A (en) * | 1988-07-28 | 1993-03-09 | Nippon Steel Corporation | Process for manufacturing multi ceramic layer-coated metal plate |
JPH0735565B2 (ja) * | 1988-11-07 | 1995-04-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 耐食耐摩耗性被覆鋼材及びその製造方法 |
US5066553A (en) * | 1989-04-12 | 1991-11-19 | Mitsubishi Metal Corporation | Surface-coated tool member of tungsten carbide based cemented carbide |
US5075181A (en) * | 1989-05-05 | 1991-12-24 | Kennametal Inc. | High hardness/high compressive stress multilayer coated tool |
US5304417A (en) * | 1989-06-02 | 1994-04-19 | Air Products And Chemicals, Inc. | Graphite/carbon articles for elevated temperature service and method of manufacture |
JP2876132B2 (ja) * | 1989-06-19 | 1999-03-31 | 京セラ株式会社 | 被覆切削工具 |
JP2619838B2 (ja) * | 1989-09-08 | 1997-06-11 | 新日本製鐵株式会社 | セラミックスコーティング金属板 |
US5264297A (en) * | 1990-03-09 | 1993-11-23 | Kennametal Inc. | Physical vapor deposition of titanium nitride on a nonconductive substrate |
EP0518879A4 (en) * | 1990-03-09 | 1993-09-01 | Kennametal Inc. | Physical vapor deposition of titanium nitride on a nonconductive substrate |
US5123972A (en) * | 1990-04-30 | 1992-06-23 | Dana Corporation | Hardened insert and brake shoe for backstopping clutch |
US5232318A (en) * | 1990-09-17 | 1993-08-03 | Kennametal Inc. | Coated cutting tools |
US5250367A (en) * | 1990-09-17 | 1993-10-05 | Kennametal Inc. | Binder enriched CVD and PVD coated cutting tool |
US5325747A (en) * | 1990-09-17 | 1994-07-05 | Kennametal Inc. | Method of machining using coated cutting tools |
US5266388A (en) * | 1990-09-17 | 1993-11-30 | Kennametal Inc. | Binder enriched coated cutting tool |
WO1992005296A1 (en) * | 1990-09-17 | 1992-04-02 | Kennametal Inc. | Cvd and pvd coated cutting tools |
JPH04189401A (ja) * | 1990-11-20 | 1992-07-07 | Mitsubishi Materials Corp | 硬質層被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具 |
US5356661A (en) * | 1990-11-21 | 1994-10-18 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Heat transfer insulated parts and manufacturing method thereof |
DE4210910C1 (de) * | 1992-04-02 | 1993-11-11 | Verschleis Technik Dr Ing Hans | Verschleißgefährdetes Formteil, insbesondere Maschinenteil |
JP2909361B2 (ja) * | 1993-09-21 | 1999-06-23 | 大阪府 | チタン金属の表面処理方法 |
US5920760A (en) * | 1994-05-31 | 1999-07-06 | Mitsubishi Materials Corporation | Coated hard alloy blade member |
US6802457B1 (en) * | 1998-09-21 | 2004-10-12 | Caterpillar Inc | Coatings for use in fuel system components |
US6983718B1 (en) * | 1999-08-04 | 2006-01-10 | General Electric Company | Electron beam physical vapor deposition apparatus |
RU2161661C1 (ru) * | 1999-08-16 | 2001-01-10 | Падеров Анатолий Николаевич | Способ нанесения износостойких покрытий и повышения долговечности деталей |
US6715693B1 (en) * | 2000-02-15 | 2004-04-06 | Caterpillar Inc | Thin film coating for fuel injector components |
US6602800B2 (en) | 2001-05-09 | 2003-08-05 | Asm Japan K.K. | Apparatus for forming thin film on semiconductor substrate by plasma reaction |
DE102004019061B4 (de) * | 2004-04-20 | 2008-11-27 | Peter Lazarov | Selektiver Absorber zur Umwandlung von Sonnenlicht in Wärme, ein Verfahren und eine Vorrichtung zu dessen Herstellung |
US20090078893A1 (en) * | 2005-04-27 | 2009-03-26 | Masahiro Umemura | Image reading apparatus |
US20080166561A1 (en) * | 2005-08-16 | 2008-07-10 | Honeywell International, Inc. | Multilayered erosion resistant coating for gas turbines |
DE102005057299A1 (de) * | 2005-12-01 | 2007-06-06 | Schaeffler Kg | Hülsenfreilauf |
DE102006026774A1 (de) | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Ringspann Gmbh | Reibschlüssige Freilaufkupplung |
JP2008240079A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Tungaloy Corp | 被覆部材 |
EP2231351A4 (en) * | 2007-12-06 | 2012-03-21 | Arcam Ab | APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING THREE-DIMENSIONAL OBJECT |
US8992816B2 (en) * | 2008-01-03 | 2015-03-31 | Arcam Ab | Method and apparatus for producing three-dimensional objects |
CN102099138B (zh) * | 2008-07-14 | 2013-06-05 | 株式会社图格莱 | 覆盖构件及其制造方法、包括该覆盖构件的覆盖切削工具 |
US8308466B2 (en) | 2009-02-18 | 2012-11-13 | Arcam Ab | Apparatus for producing a three-dimensional object |
CN102470439B (zh) | 2009-07-15 | 2016-03-02 | 阿卡姆股份公司 | 制造三维物体的方法和设备 |
KR20130041325A (ko) * | 2010-09-07 | 2013-04-24 | 스미또모 덴꼬오 하드메탈 가부시끼가이샤 | 표면 피복 절삭 공구 |
RU2553796C2 (ru) | 2011-01-28 | 2015-06-20 | Аркам Аб | Способ изготовления трехмерного тела |
US8741428B2 (en) * | 2011-04-21 | 2014-06-03 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Surface-coated cutting tool and manufacturing method thereof |
JP5865014B2 (ja) * | 2011-06-24 | 2016-02-17 | 株式会社リケン | ピストンリング |
JP5348223B2 (ja) * | 2011-11-08 | 2013-11-20 | 株式会社タンガロイ | 被覆部材 |
EP2797730B2 (en) | 2011-12-28 | 2020-03-04 | Arcam Ab | Method and apparatus for detecting defects in freeform fabrication |
JP6101707B2 (ja) | 2011-12-28 | 2017-03-22 | ア−カム アーベー | 積層造形法による三次元物品の解像度を向上させるための方法および装置 |
CN104066536B (zh) | 2011-12-28 | 2016-12-14 | 阿卡姆股份公司 | 用于制造多孔三维物品的方法 |
WO2013167194A1 (en) | 2012-05-11 | 2013-11-14 | Arcam Ab | Powder distribution in additive manufacturing |
US9561542B2 (en) | 2012-11-06 | 2017-02-07 | Arcam Ab | Powder pre-processing for additive manufacturing |
US9718129B2 (en) | 2012-12-17 | 2017-08-01 | Arcam Ab | Additive manufacturing method and apparatus |
DE112013006029T5 (de) | 2012-12-17 | 2015-09-17 | Arcam Ab | Verfahren und Vorrichtung für additive Fertigung |
US9550207B2 (en) | 2013-04-18 | 2017-01-24 | Arcam Ab | Method and apparatus for additive manufacturing |
US9676031B2 (en) | 2013-04-23 | 2017-06-13 | Arcam Ab | Method and apparatus for forming a three-dimensional article |
US9415443B2 (en) | 2013-05-23 | 2016-08-16 | Arcam Ab | Method and apparatus for additive manufacturing |
US9468973B2 (en) | 2013-06-28 | 2016-10-18 | Arcam Ab | Method and apparatus for additive manufacturing |
US9505057B2 (en) | 2013-09-06 | 2016-11-29 | Arcam Ab | Powder distribution in additive manufacturing of three-dimensional articles |
US9676033B2 (en) | 2013-09-20 | 2017-06-13 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
US10434572B2 (en) | 2013-12-19 | 2019-10-08 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
US9802253B2 (en) | 2013-12-16 | 2017-10-31 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
US10130993B2 (en) | 2013-12-18 | 2018-11-20 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
US9789563B2 (en) | 2013-12-20 | 2017-10-17 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
US9789541B2 (en) | 2014-03-07 | 2017-10-17 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing of three-dimensional articles |
US20150283613A1 (en) | 2014-04-02 | 2015-10-08 | Arcam Ab | Method for fusing a workpiece |
TWI519681B (zh) * | 2014-08-14 | 2016-02-01 | 國立交通大學 | 具有優選排列方向之奈米雙晶金膜、其製備方法、及包含其之接合結構 |
US9341467B2 (en) | 2014-08-20 | 2016-05-17 | Arcam Ab | Energy beam position verification |
US10786865B2 (en) | 2014-12-15 | 2020-09-29 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
US9406483B1 (en) | 2015-01-21 | 2016-08-02 | Arcam Ab | Method and device for characterizing an electron beam using an X-ray detector with a patterned aperture resolver and patterned aperture modulator |
US11014161B2 (en) | 2015-04-21 | 2021-05-25 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
US10807187B2 (en) | 2015-09-24 | 2020-10-20 | Arcam Ab | X-ray calibration standard object |
US11571748B2 (en) | 2015-10-15 | 2023-02-07 | Arcam Ab | Method and apparatus for producing a three-dimensional article |
US10525531B2 (en) | 2015-11-17 | 2020-01-07 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
US10610930B2 (en) | 2015-11-18 | 2020-04-07 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
CN105234439B (zh) * | 2015-11-23 | 2017-11-10 | 江苏切剀刀具有限公司 | 一种刀具刀片及其制备方法 |
US11247274B2 (en) | 2016-03-11 | 2022-02-15 | Arcam Ab | Method and apparatus for forming a three-dimensional article |
US11325191B2 (en) | 2016-05-24 | 2022-05-10 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
US10549348B2 (en) | 2016-05-24 | 2020-02-04 | Arcam Ab | Method for additive manufacturing |
US10525547B2 (en) | 2016-06-01 | 2020-01-07 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
US10792757B2 (en) | 2016-10-25 | 2020-10-06 | Arcam Ab | Method and apparatus for additive manufacturing |
US10987752B2 (en) | 2016-12-21 | 2021-04-27 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
US11059123B2 (en) | 2017-04-28 | 2021-07-13 | Arcam Ab | Additive manufacturing of three-dimensional articles |
US11292062B2 (en) | 2017-05-30 | 2022-04-05 | Arcam Ab | Method and device for producing three-dimensional objects |
US20190099809A1 (en) | 2017-09-29 | 2019-04-04 | Arcam Ab | Method and apparatus for additive manufacturing |
US10529070B2 (en) | 2017-11-10 | 2020-01-07 | Arcam Ab | Method and apparatus for detecting electron beam source filament wear |
US11072117B2 (en) | 2017-11-27 | 2021-07-27 | Arcam Ab | Platform device |
US10821721B2 (en) | 2017-11-27 | 2020-11-03 | Arcam Ab | Method for analysing a build layer |
US11517975B2 (en) | 2017-12-22 | 2022-12-06 | Arcam Ab | Enhanced electron beam generation |
US11458682B2 (en) | 2018-02-27 | 2022-10-04 | Arcam Ab | Compact build tank for an additive manufacturing apparatus |
US11267051B2 (en) | 2018-02-27 | 2022-03-08 | Arcam Ab | Build tank for an additive manufacturing apparatus |
US11400519B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-08-02 | Arcam Ab | Method and device for distributing powder material |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3371649A (en) * | 1960-09-23 | 1968-03-05 | Technical Ind Inc | Means for controlled deposition and growth of polycrystalline films in a vacuum |
US3962988A (en) * | 1973-03-05 | 1976-06-15 | Yoichi Murayama, Nippon Electric Varian Ltd. | Ion-plating apparatus having an h.f. electrode for providing an h.f. glow discharge region |
JPS5757553B2 (sv) * | 1975-02-05 | 1982-12-04 | Shinko Seiki | |
JPS51119686A (en) * | 1975-04-14 | 1976-10-20 | Nachi Fujikoshi Corp | A method for forming a film on the metal surface |
JPS51120985A (en) * | 1975-04-15 | 1976-10-22 | Nachi Fujikoshi Corp | Method of ion plating a metal surface |
JPS51136584A (en) * | 1975-05-21 | 1976-11-26 | Shinko Seiki Kk | Apparatus for forming high-hardness film on metal surfaces |
DE2705225C2 (de) * | 1976-06-07 | 1983-03-24 | Nobuo Tokyo Nishida | Ornamentteil für Uhren usw. |
US4169913A (en) * | 1978-03-01 | 1979-10-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Coated tool steel and machining tool formed therefrom |
-
1980
- 1980-05-02 JP JP5777080A patent/JPS56156767A/ja active Granted
-
1981
- 1981-04-27 GB GB8112891A patent/GB2075068B/en not_active Expired
- 1981-04-29 SE SE8102717A patent/SE453403B/sv not_active IP Right Cessation
- 1981-04-29 US US06/258,550 patent/US4401719A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-04-30 MX MX187091A patent/MX155241A/es unknown
- 1981-04-30 FR FR8108740A patent/FR2481632A1/fr active Granted
- 1981-04-30 DE DE3117299A patent/DE3117299C3/de not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-08-24 US US06/410,919 patent/US4402994A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56156767A (en) | 1981-12-03 |
DE3117299C2 (sv) | 1994-10-20 |
US4402994A (en) | 1983-09-06 |
GB2075068B (en) | 1984-02-15 |
SE8102717L (sv) | 1981-11-03 |
FR2481632A1 (fr) | 1981-11-06 |
JPS6319590B2 (sv) | 1988-04-23 |
DE3117299A1 (de) | 1982-04-15 |
DE3117299C3 (de) | 1994-10-20 |
MX155241A (es) | 1988-02-09 |
GB2075068A (en) | 1981-11-11 |
FR2481632B1 (sv) | 1984-02-10 |
US4401719A (en) | 1983-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE453403B (sv) | Alster overdraget med hoggradigt hart material, forfarande for dess framstellning samt anvendning av alstret | |
KR100236995B1 (ko) | 하드코팅, 하드코팅에 의해 피복되는 공작물 및 하드코팅에 의해 공작물을 피복하는 코팅방법 | |
Nakamura et al. | Applications of wear-resistant thick films formed by physical vapor deposition processes | |
US6824601B2 (en) | Hard film for cutting tools, cutting tool coated with hard film, process for forming hard film, and target used to form hard film | |
Randhawa | Cathodic arc plasma deposition technology | |
US4507189A (en) | Process of physical vapor deposition | |
US5318840A (en) | Wear resistant coating films and their coated articles | |
US20090252973A1 (en) | Coated body | |
JPH0567705B2 (sv) | ||
EP3662093B1 (en) | Coated cutting tool and a process for its manufacture | |
KR20010053390A (ko) | Pvd 코팅된 절삭공구 및 이의 제조방법 | |
JP2001524391A (ja) | 切削工具上に微細結晶粒アルミナを堆積する方法 | |
CN111279011B (zh) | 沉积Al2O3的PVD工艺和具有至少一层Al2O3的被涂覆过的切削工具 | |
WO2022172954A1 (ja) | 被覆工具 | |
Vereschaka et al. | Investigation of the structure and phase composition of the microdroplets formed during the deposition of PVD coatings | |
JP2002544379A (ja) | Pvd酸化アルミニウムで被覆された切削工具の製造方法 | |
JPH0911004A (ja) | 硬質層被覆切削工具 | |
JPH0356675A (ja) | 超硬合金基体の被覆法および該被覆法によって作製される超硬工具 | |
JP2008284637A (ja) | 被覆切削工具 | |
Bohlmark et al. | Evaluation of arc evaporated coatings on rounded surfaces and sharp edges | |
JPH0250983B2 (sv) | ||
KR860000016B1 (ko) | 고경도 물질 피복품 | |
JPS5918475B2 (ja) | 被覆高速度鋼 | |
Diechle et al. | PVD process for the deposition of Al 2 O 3 and a coated cutting tool with at least one layer of Al 2 O 3 | |
JPH0250948A (ja) | 複合超硬材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NAL | Patent in force |
Ref document number: 8102717-9 Format of ref document f/p: F |
|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 8102717-9 Format of ref document f/p: F |