KR970076040A - 액티브 매트릭스 액정표시장치의 제조방법 및 액티브 매트릭스 액정표시장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 투명글래스기판에 제1금속막을 증착하는 공정과 상기 제1금속막을 소정의 패턴이 되도록 에칭하여 게이트버스배선 및 게이트전극으로 형성하는 공정과 게이트절연막과 반도체층과 오믹접촉층과 제2금속막을 연속 증착하는 공정과 상기 제2금속막을 소정의 패턴이 되도록 에칭하여 소스버스배선과 소스전극과 드레인전극 및 보조용량전극으로 형성하는 공정과 상기 소스버스배선과 소스전극과 드레인전극과 보조용량전극을 에칭마스크로하고 오믹접촉층을 에칭하여 형성하는 공정과 보호막을 증착하는 공정과 소정의 패턴이 되도록 상기 보호막, 반도체층 및 게이트절연막을 동시에 드라이에칭하는 공정을 포함하도록하여 마스크공정 수를 줄이도록 하였다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명의 액티브 매트릭스 액정표시장치의 일부 평면도, 제5도는 본 발명에 따른 액티브 매트릭스 액정표시장치의 실시예 1의 제조공정 단면도.
Claims (11)
- 액티브 매트릭스 액정표시장치의 제조방법에 있어서; 기판에 제1금속막을 증착하는 단계와; 상기 제1금속막을 에칭하여 게이트버스배선 및 게이트전극으로 형성하는 단계와; 게이트절연막, 반도체층, 오믹접촉층 및 제2금속막을 연속 증착하는 단계와; 상기 제2금속막을 에칭하여 소스버스배선, 소스전극 및 드레인전극으로 형성하는 단계와; 상기 소스버스배선, 소스전극 및 드레인전극을 에칭마스크로하여 상기 오믹접촉층을 에칭하는 단계와; 보호막을 증착하는 단계와; 상기 보호막, 반도체층 및 게이트절연막을 동시에 에칭하는 단계와; 투명도전막을 증착하는 단계와; 상기 투명도전막을 에칭하여 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액티브 매트릭스 액정표시장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서; 상기 보호막, 반도체층 및 게이트절연막을 동시에 에칭하는 단계에서 상기 보호막에 콘택홀을 추가하여 형성하는 액티브 매트릭스 액정표시장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서; 상기 제2금속막이 소스버스배선, 소스전극, 드레인전극 및 보조용량전극이 되도록 패턴하는 단계와; 상기 소브버스배선, 소스전극, 드레인전극 및 보조용량전극을 에칭마스크로하여 상기 오믹접촉층을 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액티브 매트릭스 액정표시장치의 제조방법.
- 제3항에 있어서; 상기 보호막, 반도체층 및 게이트절연막을 동시에 에칭하는 단계에서 상기 보호막에 콘택홀을 추가하여 형성하는 액티브 매트릭스 액정표시장치의 제조방법.
- 액티브 매트릭스 액정표시장치의 제조방법에 있어서; 기판에 제1금속막을 증착하는 단계와; 상기 제1금속막을 에칭하여 게이트버스배선 및 게이트전극으로 형성하는 단계와; 게이트절연막, 반도체층, 오믹접촉층 및 제2금속막을 연속 증착하는 단계와; 상기 제2금속막을 에칭하여 소스버스배선, 소스전극 및 드레인전극으로 형성하는 단계와; 상기 소스버스배선, 소스전극 및 드레인전극을 에칭마스크로하여 상기 오믹접촉층을 에칭하는 단계와; 제1보호막을 증착하는 단계와; 상기 제1보호막, 반도체층 및 게이트절연막을 동시에 에칭하는 단계와; 제2보호막을 증착하는 단계와; 상기 제1보호막과 제2보호막이 통하는 콘택홀을 형성하는 단계와; 투명도전막을 층착하는 단계와; 상기 투명도전막을 에칭하여 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액티브 매트릭스 액정표시장치의 제조방법.
- 제5항에 있어서; 상기 제2금속막이 소스버스배선, 소스전극, 드레인전극 및 보조용량전극이 되도록 패턴하는 단계와; 상기 소스버스배선, 소스전극, 드레인전극 및 보조용량전극을 에칭마스크로하여 상기 오믹접촉층을 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액티브 매트릭스 액정 표시장치의 제조방법.
- 제5항 또는 제6항에 있어서; 상기 제1보호막은 무기절연막이고 제2보호막은 유기절연막인 것을 특징으로 하는 액티브 매트릭스 액정표시장치의 제조방법.
- 액티브 매트릭스 액정표시장치에 있어서; 기판과; 상기 기판 위에 형성된 게이트버스배선 및 게이트전극과; 상기 게이트버스배선 및 게이트전극이 형성된 기판 위에 형성된 게이트절연막과; 상기 게이트절연막 위에 상기 게이트절연막과 같은 패턴으로 동시에 형성된 반도체층과; 상기 반도체층위에 형성된 오믹접촉층과; 상기 오믹접촉층 위에 형성된 소스버스배선, 소스전극, 드레인전극 및 보조용량전극과; 상기 보조용량전극 일부, 드레인적극 일부, 반도체층 일부, 소스버스배선 및 소스전극을 덮도록 형성하는 보호막과; 상기 보조용량전극 일부와 드레인전극 일부에 접촉되어 형성된 화소전극을 포함하는 액정표시장치.
- 제8항에 있어서; 상기 보호막에 콘택홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 액티브 매트릭스 액정표시장치.
- 액티브 매트릭스 액정표시장치에 있어서; 기판과; 상기 기판 위에 형성된 게이트버스배선 및 게이트전극과; 상기 게이트버스배선 및 게이트전극이 형성된 기판 위에 형성된 게이트절연막과; 상기 게이트절연막 위에 상기 게이트절연막과 같은 패턴으로 동시에 형성된 반도체층과; 상기 반도체층 위에 형성된 오믹접촉층과; 상기 오믹접촉층 위에 형성된 소스버스배선, 소스전극, 드레인전극 및 보조용량전극과; 상기 보조용량전극 일부, 드레인전극 일부, 반도체층 일부, 소스버스배선 및 소스전극을 덮도록 형성하는 제1보호막과; 상기 제1보호막이 형성된 기판에 보조용량전극 일부와 드레인전극 일부를 제외하고 전체면에 증착된 제2보호막과; 제1보호막과 제2보호막을 통하여 형성된 드레인전극부의 콘택홀 및 보조용량전극부와; 상기 제2보호막 위에 보조용량전극부의 콘택홀 및 드레인전극부와 접촉되어 형성된 화소전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 액티브 매트릭스 액정표시장치.
- 제10항에 있어서; 상기 제1보호막은 무기절연막이고 제2보호막은 유기절연막인 것을 특징으로 하는 액티브 매트릭스 액정표시장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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