KR970023624A - 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 4매 마스크를 이용하므로써 수율을 높이고 제조 원가를 낮출 수 있는 액정표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의제조 방법에 관한 것이다.
기판 위에 도전막을 적층하고 제1 마스크를 이용하여 사진 식각하여 게이트 전극을 형성하는 제1 단계, 상기 게이트 전극 위에 절연막과 반도체막 그리고 소스/드레인 도전막을 차례로 적층한 후 제2 마스크를 이용하여 상기 반도체막, 소스/드레인 도전막을 사진 식각하는 제2 단계, 상기 소스/드레인 전극 위에 보호막을 적층하고, 제3 마스크를 이용하여 사진 식각하여 컨택 구멍을 형성하는 제3 단계, 상기 보호막 위에 투명 도전막을 적층한 후 제4 마스크를 이용하여 사진 식각하여 화소 전극을 형성하는 제4 단계, 상기 화소 전극을 마스크로 하여 상기 보호막과 상기 소스/드레인 도전막을 사진 식각하여 소스/드레인 전극을 형성하는 제5 단계로 이루어져 있는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도의 (다)-(마)는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 제조 공정 순서를 나타낸 단면도이다.
Claims (8)
- 기판 위에 도전막을 적층하고 제1 마스크를 이용하여 사진 식각하여 게이트 전극을 형성하는 제1 단계, 절연막과 반도체막 그리고 소스/드레인 도전막을 차례로 적층한 후 제2 마스크를 이용하여 상기 반도체막, 소스/드레인 도전막을 사진 식각하는 제2 단계, 보호막을 적층하고, 제3 마스크를 이용하여 사진 식각하여 상기 소스/드레인 전극 위에 컨택 구멍을 형성하는 제3 단계, 상기 보호막 위에 투명 도전막을 적층한 후 제4 마스크를 이용하여 사진 식각하여 화소 전극을 형성하는 제4 단계, 상기 화소 전극을 마스크로 하여 상기 보호막과 상기 소스/드레인 도전막을 사진 식각하여 소스/드레인 전극을 형성하여 제5 단계로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 박막트랜지스터 기판의 제조 방법.
- 제1항에서, 상기 제2단계에서 상기 반도체막과 상기 소스 / 드레인 도전막 사이에 외인성 반도체막을 형성하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법.
- 제2항에서, 상기 외인성 반도체막은 n+ 비정질 실리콘으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용박막 트랜지스터 기판의 제조 방법.
- 제3항에서, 상기 반도체막은 비정질 실리콘으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법.
- 제1항에서, 상기 게이트 전극은 Aℓ 또는 Ta 또는 Mo-Ta 중에 하나로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법.
- 제1항에서, 상기 소스/드레인 전극은 크롬으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법.
- 제1항에서, 상기 화소 전극은 IT0로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터기판의 제조 방법.
- 기판 위에 도전막을 적층하고 제1 마스크를 이용하여 사진 식각하여 게이트 전극, 저장 캐패시터 전극, 패드 금속층을 형성하는 제1 단계, 절연막과 반도체막 그리고 소스/드레인 도전막을 차례로 적층한 후 제2 마스크를 이용하여 상기 반도체막, 소스/드레인 도전막을 사진 식각하는 제2 단계, 보호막을 적층한 후, 제3 마스크를 이용하여 상기 절연막과 함께 사진 식각하여 상기 소스/드레인 전극 및 상기 패드 금속층 위에 컨택 구멍을 형성하는 제3단계, 상기 보호막 위에 투명 도전막을 적층한 후 제4 마스크를 이용하여 사진 식각하여 화소 전극을 형성하는 제4단계, 상기 화소 전극으 마스크로 하여 상기 보호막과 상기 소스/드레인 도전막을 사진 식각하여 소스/드레인 전극을 형성하는 제5 단계로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100348995B1 (ko) * | 1999-09-08 | 2002-08-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 4 마스크를 이용한 액정표시소자의 제조방법 및 그에 따른 액정표시소자 |
KR100463410B1 (ko) * | 1999-12-28 | 2004-12-23 | 엔이씨 엘씨디 테크놀로지스, 엘티디. | 액티브매트릭스기판 및 그 제조방법 |
KR100586245B1 (ko) * | 1998-09-11 | 2006-10-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시 장치 제조 방법 |
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- 1995-10-30 KR KR1019950038054A patent/KR100188107B1/ko not_active IP Right Cessation
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KR100348995B1 (ko) * | 1999-09-08 | 2002-08-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 4 마스크를 이용한 액정표시소자의 제조방법 및 그에 따른 액정표시소자 |
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