KR970053924A - 정전기보호소자 - Google Patents

정전기보호소자 Download PDF

Info

Publication number
KR970053924A
KR970053924A KR1019950046231A KR19950046231A KR970053924A KR 970053924 A KR970053924 A KR 970053924A KR 1019950046231 A KR1019950046231 A KR 1019950046231A KR 19950046231 A KR19950046231 A KR 19950046231A KR 970053924 A KR970053924 A KR 970053924A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
contact portion
drain
gate
source
electrostatic protection
Prior art date
Application number
KR1019950046231A
Other languages
English (en)
Other versions
KR0164496B1 (ko
Inventor
함석헌
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자 주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019950046231A priority Critical patent/KR0164496B1/ko
Priority to JP32004996A priority patent/JP4091999B2/ja
Priority to US08/752,960 priority patent/US5731614A/en
Publication of KR970053924A publication Critical patent/KR970053924A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0164496B1 publication Critical patent/KR0164496B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/10Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0266Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체장치의 정전기보호소자에 관한 것으로서, 그 구성은 드레인에 가해지는 제1전원전압원(Vout)과 소오스에 가해지는 제2전원전압원(VSS)사이에 있는 내부회로의 입출력단에 접속된 사다리구조를 갖되, 상기 내부회로의 입출력단에 접속되어 있고, 그리고 웰콘택부(26)와 소오스콘택부(24)사이의 거리차가 가장 큰 위치에 있는 드레인콘택부(20)와 게이트(12)와의 간격(Awidth)이 다른 위치에 있는 드레인콘택부와 게이트와의 간격(Bwidth)보다 크게 한 구조를 갖는다. 상술한 본 발명의 정전기보호소자에 의하면, N채널 MOS소자에 있어서 웰콘택부와 소오스콘택부사이의 거리차가 가장 큰 위치에 있는 드레인콘택부와 게이트와의 간격을 다른 위치에 있는 드레인콘택부와 게이트와의 간격보다 크게 하여서, 트리거전압 또는 트리거전류에 하등의 변화를 주지않고 과전류에 기인하여서 발생되는 드레인전압만을 증가되게 한다. 그 결과, 웰콘택부와 소오스콘택부사이의 거리차가 가장 큰 위치에 있는 드레인접합부에 전류가 집중적으로 축적되지 않고 다른 드레인접합부에도 병렬로 흐르기 때문에, 상기 드레인접합부의 전류밀집현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

정전기보호소자
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 실시예에 따른 정전기보호소자의 입출력 레이아웃을 보여주는 평면도.
제3도는 본 발명의 정전기보호소자와 종래의 정전기보호소자의 특성으로서 출력전압과 스트레스전류의 관계를 보여주는 곡선도.

Claims (4)

  1. 드레인에 가해지는 제1전원전압원(Vout)과 소오스에 가해지는 제2전원전압원(Vss)사이에 있는 내부회로의 입출력단에 접속된 사다리구조를 갖는 정전기보호소자에 있어서, 상기 내부회로의 입출력단에 접속되어 있고, 그리고 웰콘택부(26)와 소오스콘택부(24)사이의 거리차가 가장 큰 위치에 있는 드레인콘택부(20)와 게이트(12)와의 간격(Awidth)이 다른 위치에 있는 드레인콘택부(20)와 게이트(12)와의 간격(Bwidth)보다 크게 한 구조를 갖는 MOS 소자를 구비한 것을 특징으로 하는 정전기 보호소자.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 MOS 소자는 N채널 MOS 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 정전기보호소자.
  3. 제1전원전압원(Vout)과 제2전원전압원(Vss)사이에 있는 내부회로의 입력단에 접속되어 있고, 게이트(22)핑거들이 병렬로 배치되어 있으며 그리고 게이트(22)핑거들사이에서 소오스콘택부(24)와 드레인콘택부(20)가 교호적으로 병렬로 배치되어 있는 사다리구조를 갖는 정전기보호소자에 있어서, 웰콘택부(26)와 소오스콘택부(24)사이의 거리차가 가장 큰 위치에 있는 드레인콘택부와 게이트(22)와의 간격(Awidth)이 다른 위치에 있는 드레인콘택부와 게이트와의 간격(Bwidth)보다 비교적 크게 형성한 것을 특징으로 하는 정전기보호소자.
  4. 제3항에 있어서, 상기 정전기보소호자는 N채널 MOS트랜지스터인 것을 특징으로 하는 정전기보호소자.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950046231A 1995-12-02 1995-12-02 정전기보호소자 KR0164496B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950046231A KR0164496B1 (ko) 1995-12-02 1995-12-02 정전기보호소자
JP32004996A JP4091999B2 (ja) 1995-12-02 1996-11-29 静電気保護素子
US08/752,960 US5731614A (en) 1995-12-02 1996-12-02 Electrostatic protective device having elongate gate electrodes in a ladder structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950046231A KR0164496B1 (ko) 1995-12-02 1995-12-02 정전기보호소자

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970053924A true KR970053924A (ko) 1997-07-31
KR0164496B1 KR0164496B1 (ko) 1998-12-15

Family

ID=19437471

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950046231A KR0164496B1 (ko) 1995-12-02 1995-12-02 정전기보호소자

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5731614A (ko)
JP (1) JP4091999B2 (ko)
KR (1) KR0164496B1 (ko)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3129223B2 (ja) * 1997-02-28 2001-01-29 日本電気株式会社 半導体装置
EP0922302A2 (en) * 1997-05-23 1999-06-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Lateral mos transistor device
US6066971A (en) * 1997-10-02 2000-05-23 Motorola, Inc. Integrated circuit having buffering circuitry with slew rate control
US6455898B1 (en) * 1999-03-15 2002-09-24 Macronix International Co., Ltd. Electrostatic discharge input protection for reducing input resistance
TW431042B (en) * 1999-05-18 2001-04-21 Sunplus Technology Co Ltd Electrostatic discharge protection apparatus of polydiode
US5990504A (en) * 1999-05-18 1999-11-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Finger structured MOSFET
JP2001015526A (ja) * 1999-06-28 2001-01-19 Nec Kansai Ltd 電界効果トランジスタ
US20010043449A1 (en) * 2000-05-15 2001-11-22 Nec Corporation ESD protection apparatus and method for fabricating the same
JP4942278B2 (ja) * 2000-06-15 2012-05-30 ソフィックス ビーヴィービーエー Esd−センシティブ回路のためマルチ・フィンガ電流バラスティングesd保護回路及びインタリーブ配置されたバラスティング
US6815775B2 (en) 2001-02-02 2004-11-09 Industrial Technology Research Institute ESD protection design with turn-on restraining method and structures
JP4620282B2 (ja) * 2001-04-24 2011-01-26 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US6781170B2 (en) * 2001-05-01 2004-08-24 Lattice Semiconductor Corporation Integrated circuit base transistor structure and associated programmable cell library
DE10206375A1 (de) * 2002-02-15 2003-06-26 Infineon Technologies Ag Integrierte, abstimmbare Kapazität
JP3808026B2 (ja) 2002-10-23 2006-08-09 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
US7244992B2 (en) * 2003-07-17 2007-07-17 Ming-Dou Ker Turn-on-efficient bipolar structures with deep N-well for on-chip ESD protection
KR100861304B1 (ko) * 2007-06-21 2008-10-01 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치 및 그의 레이아웃 방법
JP5165967B2 (ja) * 2007-08-22 2013-03-21 セイコーインスツル株式会社 半導体装置
KR101159426B1 (ko) * 2010-03-15 2012-06-28 숭실대학교산학협력단 정전기 방지 구조를 가진 금속 산화막 반도체 전계효과 트랜지스터
JP5529607B2 (ja) * 2010-03-29 2014-06-25 セイコーインスツル株式会社 半導体装置
JP2013008715A (ja) * 2011-06-22 2013-01-10 Semiconductor Components Industries Llc 半導体装置
JP6338832B2 (ja) 2013-07-31 2018-06-06 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP6193771B2 (ja) * 2014-01-28 2017-09-06 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01286354A (ja) * 1988-05-12 1989-11-17 Mitsubishi Electric Corp 入力保護手段を有する半導体装置
JP2754072B2 (ja) * 1990-02-07 1998-05-20 三菱電機株式会社 半導体装置の入力回路
US5477414A (en) * 1993-05-03 1995-12-19 Xilinx, Inc. ESD protection circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09181196A (ja) 1997-07-11
US5731614A (en) 1998-03-24
JP4091999B2 (ja) 2008-05-28
KR0164496B1 (ko) 1998-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970053924A (ko) 정전기보호소자
KR970055319A (ko) 정전기보호소자
KR950004452A (ko) 반도체 집적회로장치
KR950007093A (ko) 게이트 밀도를 증가시키기 위한 일련의 기판 탭 및 확장부를 갖는 대칭형 다층금속 로직 어래이
KR920022285A (ko) 출력 버퍼 회로
KR960005986A (ko) 반도체 집적회로장치
KR970031339A (ko) 반도체 장치(semiconductor device)
KR880012008A (ko) 전원절환회로
KR970053789A (ko) 반도체 장치의 보호 소자
KR950012707A (ko) 반도체 장치
KR970018596A (ko) 반도체 집적회로 장치
KR960035626A (ko) 파워 온 리셋 회로
KR910005448A (ko) 반도체 집적회로
KR930003544A (ko) 과전압 보호 반도체 스위치
KR880004589A (ko) 기판바이어스 전압발생기를 구비한 상보형 집적회로 배열
KR970030783A (ko) 반도체 집적 회로를 보호하기 위한 정전 보호 디바이스
KR910010707A (ko) 기준전압 발생장치
KR970072377A (ko) 보호 회로
KR950012714A (ko) 상보형 금속 산화물 반도체(cmos) 기술의 집적 전자 회로용 극성 반전 보호장치
KR940025175A (ko) 반도체 집적회로의 중간전위 발생회로
KR980006260A (ko) 반도체 장치의 보호 소자
KR970024162A (ko) 풀업 또는 풀다운 저항을 갖는 반도체 장치(a semiconductor device having pull-up or pull-down resistance)
KR940020669A (ko) 바이어스 회로(bias circuit)
KR950020965A (ko) 반도체 장치
KR970053922A (ko) 정전기 보호장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110830

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120831

Year of fee payment: 15

LAPS Lapse due to unpaid annual fee