KR970003408A - 노광 마스크의 근접효과 억제방법 - Google Patents

노광 마스크의 근접효과 억제방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 노광 마스크의 근접효과 억제방법에 관한 것으로, 패턴의 조밀도에 따라 근접효과가 크게 나타나는 패턴의 레이아웃상에 노광 마스크 작업시 형상되지 않는 최소선폭 이하의 미세형상을 가진 더미(Dummy) 패턴들을 추가 삽입배열하고, 미세형상의 더미패턴들이 삽입된 레이아웃으로 레티컬을 제작한 후, 상기 레티컬로 실리콘 기판 상부의 패턴형성물질을 노광함으로써 포토 작업시 근접효과에 의한 패턴의 손실 차이를 최소화할 수 있으며, 반도체 장치의 특성을 미리 예측 가능하게 되어 제조공정의 수율증대 효과를 가져올 수 있다.

Description

노광 마스크의 근접효과 억제방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1A도 내지 제1D도는 종래의 일반적인 노광공정에서 마스크 패턴의 형상밀도 차이에 의해 근접효과가 나타나는 것을 도시한 도면, 제2A도와 제2B도는 본 발명에 따른 제1실시예를 도시한 도면, 제3A도와 제3B도는 본 발명에 따른 제2실시예를 도시한 도면, 제4A도와 제4B도는 본 발명에 따른 제3실시예를 도시한 도면, 제5A도 내지 제5C도는 상기 본 발명에 따른 제1, 2, 3실시예의 적용예를 도시한 도면.

Claims (6)

  1. 노광 마스크의 근접효과 억제방법에 있어서, 패턴 조밀도에 따라 근접효과가 크게 나타나는 패턴의 레이아웃상에 노광 마스크 작업시 형상되지 않는 최소선폭 이하의 미세형상을 가진 더미패턴들을 추가 삽입배열하는 공정과, 상기 미세형상의 더미패턴들이 삽입된 레이아웃으로 레티컬을 제작하는 공정과, 상기 레티컬로 실리콘 기판 상부의 패턴형성물질을 노광하는 공정을 구비하여, 포토 작업시 근접효과에 의한 패턴의 손실차이를 최소화하는 것을 특징으로 하는 노광 마스크의 근접효과 억제방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 근접효과가 크게 나타나는 레이아웃상에 미세형상들을 배열하되, 레이아웃의 근접부로부터 멀어질수록 밀도가 순차적으로 낮아지도록 배열하는 것을 특징으로 하는 노광 마스크의 근접효과 억제방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서 상기 미세형상의 더미패턴들은 노광 마스크 작업시 형상되지 않는 최소선폭이하의 점 형태로 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 마스크의 근접효과 억제방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서 상기 미세형상의 더미패턴들은 노광 마스크 작업시 형상되지 않는 최소선폭이하의 선 형태로 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 마스크의 근접효과 억제방법.
  5. 제1항에 있어서 상기 미세형상의 더미패턴을 추가하는 공정은 패턴의 형상밀도를 고려하여 레티컬 제작 프로그램에 의해 자동적으로 실행할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 노광 마스크의 근접효과 억제방법.
  6. 제1항에 있어서 상기 미세형상의 더미패턴을 추가하는 공정은 패턴의 형상밀도를 고려하여 패턴형성의 레이아웃 프로그램에 의해 자동적으로 실행할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 노광 마스크의 근접효과 억제방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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