KR970016754A - 반도체 장치용 마스크 제조방법 - Google Patents
반도체 장치용 마스크 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970016754A KR970016754A KR1019950029315A KR19950029315A KR970016754A KR 970016754 A KR970016754 A KR 970016754A KR 1019950029315 A KR1019950029315 A KR 1019950029315A KR 19950029315 A KR19950029315 A KR 19950029315A KR 970016754 A KR970016754 A KR 970016754A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mask
- light shielding
- shielding layer
- pattern
- forming
- Prior art date
Links
Abstract
마스크 패턴의 균일도가 향상된 마스크의 제조 방법에 관하여 개시한다. 본 발명의 마스크 제조 방법은 마스크 기판 상에 차광층을 형성하는 단계와, 상기 차광층 상에 포토레지스트막을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트막을 노광, 현상하여 후 공정에서 요구되는 폭(CD)보다 작게 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 상기 차광층을 습식 식각하여 차광층 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명에 의하면, 후에 원하는 차광층 패턴의 CD보다 작게 포토레지스트 패턴을 형성한 후 식각하여 차광층 패턴의 균일도 및 수직 프로파일 특성을 얻을 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 3도 및 제 4도는 본 발명에 의한 마스크 제조 방법을 설명하기 위하여 도시한 도면이다.
Claims (2)
- 마스크 기판 상에 차광층을 형성하는 단계 ; 상기 차광층 상에 포토레지스트막을 형성하는 단계 ; 상기 포토레지스트막을 노광, 현상하여 후 공정에서 요구되는 폭(CD)보다 작게 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계 ; 및 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 상기 차광층을 습식 식각하여 차광층 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 차광층은 크롬막을 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950029315A KR970016754A (ko) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 반도체 장치용 마스크 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950029315A KR970016754A (ko) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 반도체 장치용 마스크 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970016754A true KR970016754A (ko) | 1997-04-28 |
Family
ID=66596470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950029315A KR970016754A (ko) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 반도체 장치용 마스크 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970016754A (ko) |
-
1995
- 1995-09-07 KR KR1019950029315A patent/KR970016754A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR960005864A (ko) | 미세패턴 형성방법 | |
| KR950021058A (ko) | 위상반전마스크 제조방법 | |
| KR970018110A (ko) | 반도체장치의 패턴 형성방법 | |
| KR930018661A (ko) | 콘택트홀의 형성방법 | |
| KR970063431A (ko) | 하프톤 위상 시프트 마스크를 사용한 반도체 디바이스의 제조 방법 | |
| KR970016754A (ko) | 반도체 장치용 마스크 제조방법 | |
| KR970008372A (ko) | 반도체장치의 미세 패턴 형성방법 | |
| KR950015617A (ko) | 반도체소자의 미세패턴 제조방법 | |
| KR970016753A (ko) | 반도체 장치용 마스크의 제조방법 | |
| KR980010603A (ko) | 포토마스크 제조방법 | |
| KR960002597A (ko) | 미세패턴 형성방법 | |
| KR970022517A (ko) | 포토마스크 및 그 제조방법 | |
| KR970051898A (ko) | 반도체 장치의 패턴 형성 방법 | |
| KR960002592A (ko) | 반도체 소자의 제조방법 | |
| KR950014974A (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 | |
| KR970018041A (ko) | 반도체 소자의 미세 콘택홀 형성 방법 | |
| KR970013064A (ko) | 반도체소자의 미세패턴 형성방법 | |
| KR970003523A (ko) | 반도체 소자의 콘택홀 형성방법 | |
| KR970016793A (ko) | 스페이서를 이용한 마스크 제조방법 | |
| KR950021047A (ko) | 포토레지스트의 미세패턴 형성방법 | |
| KR960002507A (ko) | 마스크 및 그 제조방법 | |
| KR950021040A (ko) | 반도체 장치의 제조방법 | |
| KR970049069A (ko) | 반도체 소자의 미세 패턴 노광 방법 | |
| KR19980052471A (ko) | 반도체 소자의 제조 방법 | |
| KR970054201A (ko) | 마스크 롬의 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |