KR950027967A - 포토마스크(photomask) 제작방법 - Google Patents
포토마스크(photomask) 제작방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 포토마스크(photomask) 제작방법에 관한 것으로, 특히 스크라이브 레인과 동일한 재료로 가장자리에 엑스트라패턴을 형성하여 노광기에 의한 스텝핑시 잔류패턴이 형성하는 것을 방지하는 포토마스크 제작방법에 관한 것이며, 포토마스크 패턴의 가장자리에 스크라이브 레인(2)과 동일한 재료로 엑스트라패턴(4)을 형성하여 프러덕트 다이 패턴(6)과 상기 스크라이브 레인(2)을 포함한 포토마스크 패턴을 노광기의 스텝핑에 의하여 노광을 실시할 경우 웨이퍼상에 정규패턴(8) 가장자리에 잔류패턴이 남는 것을 방지하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 의한 가장자리에 엑스트라 패턴을 형성한 포토마스크의 평면도,
제4도는 본 발명에 의한 포토마스크에 의하여 반도체 기판상에 형성된 패턴을 나타내는 평면도.
Claims (1)
- 포토마스크 제작방법에 있어서, 포토마스크 패턴의 가장자리에 스크라이브 레인(2)과 동일한 재료로 엑스트라패턴(4)을 형성하여 프러덕트 다이 패턴(6)과 상기 스크라이브 레인(2)을 포함한 포토마스크 패턴을 노광기의 스텝핑에 의하여 노광을 실시할 경우 웨이퍼상에 정규패턴(8) 가장자리에 잔류패턴이 남는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 제작방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940004713A KR950027967A (ko) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 포토마스크(photomask) 제작방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940004713A KR950027967A (ko) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 포토마스크(photomask) 제작방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR950027967A true KR950027967A (ko) | 1995-10-18 |
Family
ID=66690017
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019940004713A KR950027967A (ko) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 포토마스크(photomask) 제작방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR950027967A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101462074B1 (ko) * | 2008-01-11 | 2014-11-17 | 상에이 기켄 가부시키가이샤 | 노광에 이용되는 포토마스크 |
-
1994
- 1994-03-10 KR KR1019940004713A patent/KR950027967A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101462074B1 (ko) * | 2008-01-11 | 2014-11-17 | 상에이 기켄 가부시키가이샤 | 노광에 이용되는 포토마스크 |
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WITN | Withdrawal due to no request for examination |