KR950027967A - 포토마스크(photomask) 제작방법 - Google Patents

포토마스크(photomask) 제작방법 Download PDF

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KR950027967A
KR950027967A KR1019940004713A KR19940004713A KR950027967A KR 950027967 A KR950027967 A KR 950027967A KR 1019940004713 A KR1019940004713 A KR 1019940004713A KR 19940004713 A KR19940004713 A KR 19940004713A KR 950027967 A KR950027967 A KR 950027967A
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KR1019940004713A
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황준
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
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Abstract

본 발명은 포토마스크(photomask) 제작방법에 관한 것으로, 특히 스크라이브 레인과 동일한 재료로 가장자리에 엑스트라패턴을 형성하여 노광기에 의한 스텝핑시 잔류패턴이 형성하는 것을 방지하는 포토마스크 제작방법에 관한 것이며, 포토마스크 패턴의 가장자리에 스크라이브 레인(2)과 동일한 재료로 엑스트라패턴(4)을 형성하여 프러덕트 다이 패턴(6)과 상기 스크라이브 레인(2)을 포함한 포토마스크 패턴을 노광기의 스텝핑에 의하여 노광을 실시할 경우 웨이퍼상에 정규패턴(8) 가장자리에 잔류패턴이 남는 것을 방지하는 것을 특징으로 한다.

Description

포토마스크(photomask) 제작방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 의한 가장자리에 엑스트라 패턴을 형성한 포토마스크의 평면도,
제4도는 본 발명에 의한 포토마스크에 의하여 반도체 기판상에 형성된 패턴을 나타내는 평면도.

Claims (1)

  1. 포토마스크 제작방법에 있어서, 포토마스크 패턴의 가장자리에 스크라이브 레인(2)과 동일한 재료로 엑스트라패턴(4)을 형성하여 프러덕트 다이 패턴(6)과 상기 스크라이브 레인(2)을 포함한 포토마스크 패턴을 노광기의 스텝핑에 의하여 노광을 실시할 경우 웨이퍼상에 정규패턴(8) 가장자리에 잔류패턴이 남는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 제작방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940004713A 1994-03-10 1994-03-10 포토마스크(photomask) 제작방법 KR950027967A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101462074B1 (ko) * 2008-01-11 2014-11-17 상에이 기켄 가부시키가이샤 노광에 이용되는 포토마스크

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