KR950027935A - 중첩마진 향상을 위한 포토마스크 제조방법 - Google Patents

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KR950027935A
KR950027935A KR1019940005707A KR19940005707A KR950027935A KR 950027935 A KR950027935 A KR 950027935A KR 1019940005707 A KR1019940005707 A KR 1019940005707A KR 19940005707 A KR19940005707 A KR 19940005707A KR 950027935 A KR950027935 A KR 950027935A
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KR
South Korea
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vernier
scribe line
photomask
photomask manufacturing
edge
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Application number
KR1019940005707A
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English (en)
Inventor
김광철
길명군
구영모
김세정
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
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Abstract

본 발명은 고집적 반도체 소자 제조시 포토마스크 공정에 사용되는 포토마스크 제조방법에 관한 것으로, 마스크 중앙부분의 스크라이브 라인(Scribe Line)상과 마스크 가장자리 부분의 스크라이브 라인상에 버니어(Vernier)를 삽입하여, 중앙부분의 버니어에 의한 오우버레이(Overiay)측정 뿐만 아니라 가장자리 부분에 다수개 삽입된 버니어에 의한 디스토션(Distortion), 오소거날리티(Otrhogonality) 및 로테이션(Rotation)을 동시에 측정하고 제어함으로써 소자의 중첩마진(Overlap Margin)을 향상시킬 수 있는 포토마스크 제조방법에 관해 기술된다.

Description

중첩마진 향상을 위한 포토마스크 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2A, 2B 및 2C도는 상기 제1도의 포토마스크를 사용했을 때 미스얼라인 에러 발생 경우를 도시한 중첩 패턴 평면도,
제3도는 본 발명의 포토마스크를 도시한 평면도.

Claims (2)

  1. 반도체 소자의 중첩마진을 향상시키기 위한 포토마스크 제조방법에 있어서, 마스크 기판(11)에 스크라이브 라인(12)으로 분리되는 2개의 프로덕트 다이(13)를 단위필드로 하여 형성하고, 단위필드 중심부위의 스크라이브 라인(12)상에 오우버레이 버니어(14)를 삽입형성하며, 단위필드 가장자리부위의 스크라이브 라인(12)상의 소정부위에 다수의 버니어(14A)를 삽입형성하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 단위필드 가장자리의 소정부위에 형성된 버니어(14A)는 스크라이브 라인(12)의 모서리쪽에 각각 형성하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940005707A 1994-03-22 1994-03-22 중첩마진 향상을 위한 포토마스크 제조방법 KR950027935A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100248793B1 (ko) * 1996-06-25 2000-03-15 김영환 반도체장치 제조시의 패턴 모니터링을 위한 버어니어

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KR100248793B1 (ko) * 1996-06-25 2000-03-15 김영환 반도체장치 제조시의 패턴 모니터링을 위한 버어니어

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