KR900700924A - 레티클 마스크 제조 방법 - Google Patents

레티클 마스크 제조 방법

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씨. 챕먼 데이빗
알. 어크 웨즐리
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더블유. 러셀 웨이먼
브이 엘 에스 아이 테크놀러지 인코포레이티드
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Abstract

내용없음

Description

레티클 마스크 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 각각의 프러덕트 다이를 다른 프러덕트 다이로부터 분리시키는 스크라이브 라인을 갖는 다수의 장방형 프러덕트 다이를 갖는 반도체 웨이퍼의 평면 개략도.
제2도는 풀-필드 마스크의 평면 개략도.
제3도는 프러덕트 다이를 분리시키는 스크라이브 라인을 갖고, 2×2배열로 배치된 네 개의 프러덕트 다이를 갖는 레티클 마스크의 한 예의 평면 개략도.

Claims (16)

  1. 집적회로장치의 제조에 각각 사용되는 다수의 이격된 프러덕트 영역과, 상기 각각의 프러덕트 영역을 둘러싸고 내부에 다수의 정렬 마크를 가진 다수의 경계 영역을 가지며, 또한, 한 형태의 노출 영역과 그에 반대되는 다른 형태의 노출 영역을 가지는 레티클 마스크 제조 방법에 있어서, (가) 다수의 한 형태의 노출이격 프러덕트 영역을 형성하고, 또한 상기 경계 영역과 일치 및 대응되고 상기 다른 형태의 노출 영역을 가진 다수의 제1영역과, 상기 각각의 프러덕트 영역과 한정된 관계로 각각 위치되는 다수의 상기 한 형태의 노출 표시를 형성하기 위해, 비노출 마스크를 노출시키는 노출 단계와, (나) ㉠ 상기 프러덕트 프레임의 상기 프러덕트 영역을 마스크의 상기 프러덕트 영역중의 하나 위에 위치시키고, 상기 제1정렬 마크를 상기 마스크의 다수의 표시위에 위치시키는 단계와, ㉡ 상기 프러덕트 프레임과 함께 상기 마스크를 노출시키는 단계와, ㉢ 상기 프러덕트 영역과 표시가 모두 노출될 때 까지, 다른 프러덕트 프레임을 다른 프러덕트 영역 위에 위치 시키므로써 상기 ㉠ 및 ㉡의 단계를 반복시키는 단계를 포함하며, 프러덕트 영역과, 상기 프러덕트 영역의 외부에 상기 프러덕트 영역과 상기 한정된 관계로 위치된 다수의 제1정렬 마크와, 상기 프러덕트 영역을 둘러싸고 상기 프러덕트 프레임의 나머지 부분을 덮는 상기 한 형태의 노출 링을 갖는 프러덕트 프레임에 상기 마스크를 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 프러덕트 영역은 대체로 장방형인 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 각각의 제1정렬 마크는 대체로 사각형인 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 비노출 마스크를 노출시키는 공정동안에 상기 제1영역내의 다수의 제2정렬 마크가 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 다수의 제2정렬 마크는 대체로 정방형인 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제1정렬 마크는 상기 각각의 프러덕트 영역에 관해 대칭 위치된 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 한 형태의 노출은 불투명하고, 상기 다른 형태의 노출은 투명한 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 프러덕트 영역은 상호 일치되고, 상기 (나) ㉢의 위치설정 단계는 상기 프러덕트 프레임을 다른 프러덕트 영역위에 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 집적회로장치의 제조에 각각 사용되는 다수의 이격된 프러덕트 영역과, 상기 각각의 프러덕트 영역을 둘러싸고 내부에 다수의 정렬 마크를 가진 다수의 경계 영역을 가지며, 또한, 한 형태의 노출 영역과 그에 반대되는 다른 형태의 노출 영역을 가지는 레티클 마스크 제조 방법에 있어서, (가) 다수의 한 형태의 노출의 이격 프러덕트 영역을 형성하고, 또한, 상기 경계 영역과 일치 및 대응되고 상기 다른 형태의 노출 영역을 가진 다수의 제1영역과, 상기 각각의 프러덕트 영역과 한정된 관계로 각각 위치되는 다수의 상기 한 형태의 노출의 표시와, 상기 각각의 퍼러덕트 영역을 둘러싸는 한 형태의 노출의 링을 형성하기 위해 비노출 마스크를 노출시키는 단계와, (나) ㉠ 상기 프러덕트 프레임의 상기 프러덕트 영역을 마스크의 상기 프러덕트 영역중의 하나 위에 위치시키고, 상기 제1정렬 마크를 상기 마크스의 다수의 표시 위에 위치시키는 단계와, ㉡ 상기 프러덕트 프레임과 함께 상기 마스크를 노출시키는 단계와, ㉢ 상기 프러덕트 영역과 표시가 모두 노출될때까지, 다른 프러덕트 프레임을 다른 프러덕트 영역에 위치시키므로써 상기 ㉠ 및 ㉡의 단계를 반복시키는 단계를 포함하며, 프러덕트 영역과, 상기 프러덕트 영역의 외부에 상기 프러덕트 영역과 상기의 한정된 관계로위치된 다수의 제1정렬 마크를 갖는 프러덕트 프레임에 상기 마스크를 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 프러덕트 영역은 대체로 장방형인 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 각각의 제1정렬 마크는 대체로 장방형인 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제9항에 있어서, 비노출 마스크를 노출시키는 공정동안에 상기 제1영역 내에 다수의 제2정렬 마크가 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제11항에 있어서, 상기 다수의 제2정렬 마크는 대체로 장방형인 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제9항에 있어서, 상기 제1정렬 마크는 상기 각각의 프러덕트 영역에 관해 대칭 위치된 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제9항에 있어서, 상기 한 형태의 노출은 불투명하고, 상기 다른 형태의 노출은 투명한 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제9항에 있어서, 상기 프러덕트 영역은 상호 일치되고, 상기 (나) ㉢의 위치설정 단계는 상기 프러덕트 프레임을 다른 프러덕트 영역 위에 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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