KR970048915A - 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 - Google Patents
소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970048915A KR970048915A KR1019950049672A KR19950049672A KR970048915A KR 970048915 A KR970048915 A KR 970048915A KR 1019950049672 A KR1019950049672 A KR 1019950049672A KR 19950049672 A KR19950049672 A KR 19950049672A KR 970048915 A KR970048915 A KR 970048915A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- photomask
- scribe line
- device name
- name
- main chip
- Prior art date
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
스크라이브 라인 내에 반도체 소자의 이름이 형성된 포토마스크에 관하여 개시한다. 본 발명은 마스크 기판상에 마련된 주첩영역과 상기 주칩영역의 주변에 형성된 스크라이브 라인으로 구성되는 포토마스크에 있어서, 상기 스크라이브 라인에 소자 이름이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크를 제공한다. 본 발명의 포토마스크는 스크라이브 라인에 소자 이름이 표시되어 있어, 작업자가 제품별로 마스크를 구별하여 사용할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 포토마스크의 평면도.
Claims (1)
- 마스크 기판상에 마련된 주칩영역과 상기 주칩영역 주변에 형성된 스크라이브 라인으로 구성되는 포토마스크에 있어서, 상기 스크라이브 라인에 소자 이름이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950049672A KR970048915A (ko) | 1995-12-14 | 1995-12-14 | 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950049672A KR970048915A (ko) | 1995-12-14 | 1995-12-14 | 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970048915A true KR970048915A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66594751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950049672A KR970048915A (ko) | 1995-12-14 | 1995-12-14 | 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR970048915A (ko) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58144828A (ja) * | 1982-02-22 | 1983-08-29 | Yamagata Nippon Denki Kk | 半導体製造装置 |
JPS61247028A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-04 | Nec Corp | ネ−ムプリンタ− |
JPS61267052A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-26 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | ウエハ焼付用のマスク |
JPS61284910A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-15 | Toshiba Corp | 半導体装置製造用基板および半導体装置製造方法 |
JPH02119113A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-07 | Nec Corp | マスク管理システム |
JPH02125605A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | Nec Corp | マスク管理システム |
JPH03269535A (ja) * | 1990-03-20 | 1991-12-02 | Seiko Epson Corp | マスク収納容器 |
-
1995
- 1995-12-14 KR KR1019950049672A patent/KR970048915A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58144828A (ja) * | 1982-02-22 | 1983-08-29 | Yamagata Nippon Denki Kk | 半導体製造装置 |
JPS61247028A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-04 | Nec Corp | ネ−ムプリンタ− |
JPS61267052A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-26 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | ウエハ焼付用のマスク |
JPS61284910A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-15 | Toshiba Corp | 半導体装置製造用基板および半導体装置製造方法 |
JPH02119113A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-07 | Nec Corp | マスク管理システム |
JPH02125605A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | Nec Corp | マスク管理システム |
JPH03269535A (ja) * | 1990-03-20 | 1991-12-02 | Seiko Epson Corp | マスク収納容器 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR880013250A (ko) | 반도체 장치 | |
KR950007051A (ko) | 얼라이먼트 마크 배치방법 | |
KR910020879A (ko) | 레이저 용단 퓨즈 | |
KR970048915A (ko) | 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 | |
KR930017125A (ko) | 더미 패턴(dymmy pattern)을 갖는 반도체칩 | |
KR870004502A (ko) | 반도체 장치 | |
ATE306427T1 (de) | Behälterzuschnitt | |
KR950012613A (ko) | 반도체 장치 및 그 제조 방법 | |
KR960035761A (ko) | 중첩마크가 구비된 반도체 장치 | |
KR940010302A (ko) | 반도체 접속장치 | |
KR940016571A (ko) | 반도체 소자의 마스크 패턴 제조 방법 | |
KR970028813A (ko) | 반도체장치 제조용 레티클 | |
KR960008985A (ko) | 반도체 소자 제조용 포토마스크 | |
KR960008978A (ko) | 반도체 소자의 정렬 마크 보호방법 | |
KR970048967A (ko) | 복수의 오버레이 키를 갖는 포토마스크 | |
KR970048925A (ko) | 반도체 장치의 제조에 사용되는 마스크 | |
KR940016651A (ko) | 중첩오차 측정마크 제조방법 | |
KR950025480A (ko) | 노광마스크 형성방법 | |
KR970030390A (ko) | 반도체 장치의 웨이퍼 구조(a wafer structure for a semiconductor device) | |
KR940016578A (ko) | 노광기의 성능을 조사할 수 있는 포토마스크 | |
KR920003407A (ko) | 스컴(scum)방지용 라인을 형성한 레티클(Reticle) | |
KR960002506A (ko) | 반도체 제조용 포토 마스크 | |
KR950015692A (ko) | 반도체 웨이퍼 결함 검사시의 원점 통일 패턴 | |
KR970008561A (ko) | 반도체장치의 입력보호 회로의 트랜지스터 | |
KR970071120A (ko) | 노광 마스크 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |