KR970048915A - 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 - Google Patents

소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 Download PDF

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KR970048915A
KR970048915A KR1019950049672A KR19950049672A KR970048915A KR 970048915 A KR970048915 A KR 970048915A KR 1019950049672 A KR1019950049672 A KR 1019950049672A KR 19950049672 A KR19950049672 A KR 19950049672A KR 970048915 A KR970048915 A KR 970048915A
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name
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KR1019950049672A
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하헌환
이경철
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

스크라이브 라인 내에 반도체 소자의 이름이 형성된 포토마스크에 관하여 개시한다. 본 발명은 마스크 기판상에 마련된 주첩영역과 상기 주칩영역의 주변에 형성된 스크라이브 라인으로 구성되는 포토마스크에 있어서, 상기 스크라이브 라인에 소자 이름이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크를 제공한다. 본 발명의 포토마스크는 스크라이브 라인에 소자 이름이 표시되어 있어, 작업자가 제품별로 마스크를 구별하여 사용할 수 있다.

Description

소자이름이 형성되어 있는 포토마스크
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 포토마스크의 평면도.

Claims (1)

  1. 마스크 기판상에 마련된 주칩영역과 상기 주칩영역 주변에 형성된 스크라이브 라인으로 구성되는 포토마스크에 있어서, 상기 스크라이브 라인에 소자 이름이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950049672A 1995-12-14 1995-12-14 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 KR970048915A (ko)

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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58144828A (ja) * 1982-02-22 1983-08-29 Yamagata Nippon Denki Kk 半導体製造装置
JPS61247028A (ja) * 1985-04-24 1986-11-04 Nec Corp ネ−ムプリンタ−
JPS61267052A (ja) * 1985-05-22 1986-11-26 Hitachi Electronics Eng Co Ltd ウエハ焼付用のマスク
JPS61284910A (ja) * 1985-06-10 1986-12-15 Toshiba Corp 半導体装置製造用基板および半導体装置製造方法
JPH02119113A (ja) * 1988-10-27 1990-05-07 Nec Corp マスク管理システム
JPH02125605A (ja) * 1988-11-04 1990-05-14 Nec Corp マスク管理システム
JPH03269535A (ja) * 1990-03-20 1991-12-02 Seiko Epson Corp マスク収納容器

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58144828A (ja) * 1982-02-22 1983-08-29 Yamagata Nippon Denki Kk 半導体製造装置
JPS61247028A (ja) * 1985-04-24 1986-11-04 Nec Corp ネ−ムプリンタ−
JPS61267052A (ja) * 1985-05-22 1986-11-26 Hitachi Electronics Eng Co Ltd ウエハ焼付用のマスク
JPS61284910A (ja) * 1985-06-10 1986-12-15 Toshiba Corp 半導体装置製造用基板および半導体装置製造方法
JPH02119113A (ja) * 1988-10-27 1990-05-07 Nec Corp マスク管理システム
JPH02125605A (ja) * 1988-11-04 1990-05-14 Nec Corp マスク管理システム
JPH03269535A (ja) * 1990-03-20 1991-12-02 Seiko Epson Corp マスク収納容器

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