KR960002506A - 반도체 제조용 포토 마스크 - Google Patents

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KR960002506A
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김광철
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김주용
현대전자산업 주식회사
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/44—Testing or measuring features, e.g. grid patterns, focus monitors, sawtooth scales or notched scales

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 제조용 포토 마스크에 관한 것으로, 마스크 제작상의 에러를 측정하기 위해 필드 또는 스크라이브 라인내에 측정 포인트로서 레지스트레이션 마크를 다수개 삽입한 포토 마스크에 관한 것이다.

Description

반도체 제조용 포토 마스크
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 반도체 제조용 포토 마스크 평면도,
제2A 및 제2B도는 제1도의 레지스트레이션 마크 평면도.

Claims (3)

  1. 스크라이브 라인(1)을 구분되어지는 다수의 단위 셀 영역(2)을 갖는 포토마스크에서 상기 스크라이브 라인(1) 또는 필드내에 다수의 레지스트레이션 마크(30가 삽입된 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 레지스트레이션 마크(3)는 바아 배턴(4) 또는 스페이스 패턴(5)으로 된 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토 마스크.
  3. 제2항에 있어서, 상기 바아 패턴(4)은 상기 스페이스 패턴(5)보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토 마스크.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940014825A 1994-06-27 1994-06-27 반도체 제조용 포토 마스크 KR0149221B1 (ko)

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JP4693451B2 (ja) * 2005-03-22 2011-06-01 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの製造方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法

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