KR960005752A - 얼라인먼트 측정마크 형성방법 - Google Patents

얼라인먼트 측정마크 형성방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 스크라이브 라인(scribe line)에 내부박스와 외부박스를 형성하여 이들박스 사이의 거리를 측정함으로써 패턴간의 중첩 정확도를 측정하기 위한 얼라인먼트 측정마크 형성방법에 있어서, 하나의 패턴을 이루는 층으로 일측 방향으로만 일정간격을 갖도록 형성하되 일정간격을 갖고 서로 분리되는 두개의 제1측정패턴(16)을 형성하는 단계와; 상기 일측 방향의 제1측정패턴(16)과 다른 방향으로 형성되되 상기 두개의 제1측정패턴(16)이 갖는 거리와 동일한 거리로 서로 분리되어 상기 두 제1측정패턴(16)과 함께 외부박스를 형성하도록 하는 두개의 제2측정패턴(18)을 형성하는 단계; 및 상기 제1측정패턴(16)과 제2측정패턴(18)이 이루는 외부박스를 덮도록 형성되되 상기 외부박스의 중앙에는 형성되지 않도록 감광막패턴을 형성하여 내부박스를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 측정마크 형성방법에 관한 것이다.

Description

얼라인먼트 측정마크 형성방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 DRAM의 일반적인 셀 평면도이다.
제2A도 및 제2B도는 종래의 얼라인먼트 정확도를 측정하기 위한 측정마크의 평면도이다.
제3A도 및 제3C도는 본 발명에 따른 얼라인먼트 측정마크의 외부박스 형성 공정도이다.
제4도는 본 발명에 따른 얼라인먼트 측정마크의 내부박스를 형성하기 위한 마스크 평면도이다.

Claims (2)

  1. 스크라이브 라인(scribe line)에 내부박스와 외부박스를 형성하여 이들박스 사이의 거리를 측정함으로써 패턴간의 중첩 정확도를 측정하기 위한 얼라인먼트 측정마크 형성방법에 있어서, 하나의 패턴을 이루는 층으로 일측 방향으로만 일정간격을 갖도록 형성하되 일정간격을 갖고 서로 분리되는 두개의 제1측정패턴(16)을 형성하는 단계와; 상기 일측 방향의 제1측정패턴(16)과 다른 방향으로 형성되되 상기 두개의 제1측정패턴(16)이 갖는 거리와 동일한 거리로 서로 분리되어 상기 두 제1측정패턴(16)과 함께 외부박스를 형성하도록 하는 두개의 제2측정패턴(18)을 형성하는 단계; 및 상기 제1측정패턴(16)과 제2측정패턴(18)이 이루는 외부박스를 덮도록 형성되되 상기 외부박스의 중앙에는 형성되지 않도록 감광막패턴을 형성하여 내부박스를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 측정마크 형성방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1측정패턴(16)과 제2측정패턴(18)은 직각인 것을 특징으로 하는 측정마크 형성방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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