KR970017941A - 반도체소자 제조방법 - Google Patents

반도체소자 제조방법 Download PDF

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KR970017941A KR1019950030486A KR19950030486A KR970017941A KR 970017941 A KR970017941 A KR 970017941A KR 1019950030486 A KR1019950030486 A KR 1019950030486A KR 19950030486 A KR19950030486 A KR 19950030486A KR 970017941 A KR970017941 A KR 970017941A
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KR1019950030486A
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허익범
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김주용
현대전자산업 주식회사
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Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체소자 제조방법에 관한 것으로, 45도로 형성된 부분을 갖는 최초 디자인한 패턴이 마스크상에 패턴을 형성하는 묘사장비로 인식하는 패턴영역이 엑스축의 일측으로 임의로 이동하여 중첩마진을 감소시키는 것을 방지하기 위하여, 안박스가 바깥박스의 변과 45도의 각도를 갖는 박스 인 박스 형태의 중첩마크를 형성하고 이를 이용하여 엑스축 방향의 중첩도를 측정하고 기존의 박스 인 박스 형태의 중첩마크를 이용 와이축 방향의 중첩도를 측정함으로써 중첩마진을 화보하여 반도체소자의 수율 및 신뢰성을 향상시키고 그에 따른 반도체소자의 고집적화를 가능하게 하는 기술이다.

Description

반도체소자 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명의 실시예에 따라 형성된 박스 인 박스 형태의 중첩마크를 도시한 평면도.

Claims (2)

  1. 45도로 형성된 부분을 갖는 최초 디자인한 패턴이 마스크상에 패턴을 형성하는 묘사장비로 인식하는 패턴영역이 엑스축의 일측으로 임의로 이동하는 반도체소자 제조방법에 있어서, 박스 인 박스 형태의 제1중첩마크를 이용하여 와이축 중첩도를 측정하는 공정과, 박스 인 박스 형태의 제2중첩마크를 이용하여 엑스축 중첩도를 측정하되, 상기 제2중첩마크의 안박스는 바깥박스의 변과 45도의 각도를 갖는 마름모형으로 형성되는 공정이 포함되는 반도체소자 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제2중첩마크는 상기 최초 디자인한 패턴과 같은 방향으로 이동되는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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