KR920003407A - 스컴(scum)방지용 라인을 형성한 레티클(Reticle) - Google Patents
스컴(scum)방지용 라인을 형성한 레티클(Reticle) Download PDFInfo
- Publication number
- KR920003407A KR920003407A KR1019900011094A KR900011094A KR920003407A KR 920003407 A KR920003407 A KR 920003407A KR 1019900011094 A KR1019900011094 A KR 1019900011094A KR 900011094 A KR900011094 A KR 900011094A KR 920003407 A KR920003407 A KR 920003407A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- reticle
- scum
- prevention line
- line
- scum prevention
- Prior art date
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도의 (가)는 본 발명 레티클을 도시한 도면, (나)는 본 발명 레티클로 회로를 웨이퍼상에 인쇄하는 과정을 설명하기 위한 도면, (다)는 제2도의 (나)도면에서 X부분만을 확대하여 도시한 확대도이다.
Claims (1)
- 레티클(1)에 테스트칩(4)과 메인칩(2)의 포맷(format)을 디자인하되, 테스트칩(4)의 상하좌우 주위에 스크라이브선(3)을 형성하고, 메인칩(2) 각각의 상하좌우 주위에 스크라이브선(3)을 다지인하되 가장 윗쪽횡에 있는 메인칩(2)들의 윗쪽에 존재하는 스크라이브선(3)이 스컴(scum)방지용 라인(6)의 기능을 하도록 스컴방지용 라인을 형성한 레티클.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900011094A KR920003407A (ko) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 스컴(scum)방지용 라인을 형성한 레티클(Reticle) |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900011094A KR920003407A (ko) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 스컴(scum)방지용 라인을 형성한 레티클(Reticle) |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR920003407A true KR920003407A (ko) | 1992-02-29 |
Family
ID=67538962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900011094A KR920003407A (ko) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 스컴(scum)방지용 라인을 형성한 레티클(Reticle) |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR920003407A (ko) |
-
1990
- 1990-07-20 KR KR1019900011094A patent/KR920003407A/ko not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR890007391A (ko) | 스텦퍼에 사용되는 x-레이 노광 마스크 | |
KR910011539A (ko) | 에어백장치의 커버 | |
KR840004589A (ko) | 포지티브형(positive type) 감광성 내식막 조성물 | |
KR910017604A (ko) | 반도체장치 | |
KR850001642A (ko) | 증폭기 회로 | |
KR840006871A (ko) | 표시장치 | |
KR880002375A (ko) | 고체촬상장치 | |
KR920003407A (ko) | 스컴(scum)방지용 라인을 형성한 레티클(Reticle) | |
KR890007121A (ko) | 현상장치 | |
KR920007509A (ko) | 박형 메모리 모듈 | |
KR930014937A (ko) | 반도체장치에 사용되는 리드 프레임 | |
KR880000353A (ko) | 반도체 소재(素材)의 제조방법 | |
KR900016857A (ko) | 클리어 블루회로 | |
KR970022514A (ko) | Psm의 구조 | |
KR960008985A (ko) | 반도체 소자 제조용 포토마스크 | |
KR890005834A (ko) | 반도체장치 | |
KR850002084A (ko) | 활자를 이용하지 않는 인쇄방법 | |
KR850000058A (ko) | 우툴두툴하고 오목하게 들어간 빨래판 | |
KR960002506A (ko) | 반도체 제조용 포토 마스크 | |
KR910013473A (ko) | 리프트-오프법을 이용한 투명도전막 패턴의 형성방법 | |
KR930003334A (ko) | 테이프의 서포트링의 구조 | |
KR970071120A (ko) | 노광 마스크 | |
KR920010808A (ko) | 반도체 제조공정 | |
KR920013698A (ko) | 집적회로 | |
KR970028813A (ko) | 반도체장치 제조용 레티클 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
SUBM | Submission of document of abandonment before or after decision of registration |