KR970022514A - Psm의 구조 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체장치를 제조하는데 사용되는 PSM(phase shift mask)의 구조에 관한 것으로서, 투명한 석영기판(1)과, 상기 석영기판(1)상에 형성된 소정패턴의 차광막(2) 및, 상기 투광영역의 패턴의 중앙부에 형성된 위상시프트용 더미패턴 (3)을 포함한다. 본 발명의 PSM을 사용하게 되면, 거의 이상적인 패턴이 형성될 뿐만아니라 작은 크기의 콘택부가 형성될 수 있어서, 미세패턴의 콘택부를 형성할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 PSM의 구조와 이 PSM을 사용하여 노광된 빔프로파일을 보여주는 도면.
Claims (1)
- 반도체장치의 미세패턴을 형성하는 데 사용되는 PSM(phase shift mask)에 있어서, 투명한 석영기판(1)과, 상기 석영기판(1)상에 형성된 소정패턴의 차광막(2) 및; 투광영역 (2)의 패턴의 중앙부에 형성된 위상시프트용 더미패턴(3)을 포함하는 것을 특징으로 하는 PSM의 구조.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950034199A KR970022514A (ko) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | Psm의 구조 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950034199A KR970022514A (ko) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | Psm의 구조 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970022514A true KR970022514A (ko) | 1997-05-28 |
Family
ID=66583532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950034199A KR970022514A (ko) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | Psm의 구조 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970022514A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100744680B1 (ko) * | 2000-10-31 | 2007-08-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | 오버레이 버니어 및 그 제조 방법 |
-
1995
- 1995-10-06 KR KR1019950034199A patent/KR970022514A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100744680B1 (ko) * | 2000-10-31 | 2007-08-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | 오버레이 버니어 및 그 제조 방법 |
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