KR970048930A - 더미 라인드 콘택 마스크(dcl) - Google Patents

더미 라인드 콘택 마스크(dcl) Download PDF

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KR970048930A
KR970048930A KR1019950057169A KR19950057169A KR970048930A KR 970048930 A KR970048930 A KR 970048930A KR 1019950057169 A KR1019950057169 A KR 1019950057169A KR 19950057169 A KR19950057169 A KR 19950057169A KR 970048930 A KR970048930 A KR 970048930A
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KR
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contact mask
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dcl
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KR1019950057169A
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Inventor
김형준
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

더미 라인트 콘택 마스크에 관하여 기재하고 있다. 본 발명은 따른 DLC 마스크는 주패턴 및 상기 주패턴의 양쪽에 날개모양으로 형성된 더미패턴을 구비하는 반도체 소자 콘택 마스크에 있어서, 더미패턴이 형성되지 않은 주패턴의 가장자리에 투과율 조절을 위한 투과율조절막이 하나 이상 형성된 것을 특징으로 한다. 따라서, 주패턴의 가장자리부 빛의 세기를 감소시켜 해상도를 향상시킬 수 있으며, 동시에 DLC의 효과를 유지할 수 있다.

Description

더미 라인드 콘택 마스크(DCL)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제7A도 내지 제7C도는 본 발명에 따른 DLC 마스크에 형성될 수 있는 주패턴 및 더미패턴의 모양의 실시예를 도시한 도면들.

Claims (2)

  1. 주패턴 및 상기 주패턴의 양쪽에 날개모양으로 형성된 더미패턴을 구비하는 반도체 소자 콘택 마스크에 있어서, 더미패턴이 형성되지 않은 주패턴의 가장자리에 투과율 조절을 위한 투과율조절막이 하나 이상 형성된 것을 특징으로 하는 더미 라인드 콘택 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 투과율 조절막은 그 투과율이 1~99%로 조절된 것을 특징으로 하는 더미 라인드 콘택 마스크.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950057169A 1995-12-26 1995-12-26 더미 라인드 콘택 마스크(dcl) KR970048930A (ko)

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