KR970051884A - 균일 광량 조정용 포토 레티클 - Google Patents

균일 광량 조정용 포토 레티클 Download PDF

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KR970051884A
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이정수
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김광호
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/42—Alignment or registration features, e.g. alignment marks on the mask substrates

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 투사형 정렬노광기의 균일광량을 조정함에 있어서, 십자선과 정사각형의 패턴을 구비하여 중앙위치의 확인이 용이한 균일 광량 조정용 포토 레티클에 관한 것으로, 패턴 설계시 500㎛의 선폭을 갖도록 제작되며, 상기 십자선의 교차점에서 균일 광량을 조정한다.

Description

균일 광량 조정용 포토 레티클
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 균일 광량 조정용 포토 레티클의 구조를 나타내는 도면.

Claims (3)

  1. 반도체 투사형 정렬노광기의 균일광량을 조정함에 있어서, 십자선과 정사각형의 패턴을 갖는 균일 광량 조정용 포토 레티클.
  2. 제1항에 있어서, 패턴 설계시 500㎛의 선폭을 갖는 것을 특징으로 하는 균일 광량 조정용 포토 레티클.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 십자선의 교차점에서 균일광량을 조정하는 것을 특징으로 하는 균일 광량 조정용 포토 레티클.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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