KR970049010A - 셀 내 패턴크기의 균일도를 향상시킬 수 있는 패턴 형성방법 - Google Patents

셀 내 패턴크기의 균일도를 향상시킬 수 있는 패턴 형성방법 Download PDF

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KR970049010A
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improve uniformity
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KR1019950066983A
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손창진
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

셀 내 패턴의 균일도를 향상시킬 수 있는 패턴 형성방법에 대해 기재되어 있다.
셀 영역내에서 중심부와 가장자리 부위의 패턴의 크기를 다르게 설계하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 부위별 PR의 두께 차이로 인한 패턴의 불균일성을 개선할 수 있다.

Description

셀 내 패턴크기의 균일도를 향상시킬 수 이는 패턴 형성방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 셀 중심부와 가장자리를 비교한 보정된 마스크의 모양 및 그에 따른 패턴의 모양을 도시한 도면이다.

Claims (2)

  1. 셀 영역내에서 중심부와 가장자리 부위의 패턴의 크기를 다르게 설계하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 셀 중심부의 패턴의 크기를 셀 가장자리 부위의 패턴의 크기보다 작게 설계하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950066983A 1995-12-29 1995-12-29 셀 내 패턴크기의 균일도를 향상시킬 수 있는 패턴 형성방법 KR970049010A (ko)

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