KR960002503A - 위상반전마스크 제조 방법 - Google Patents

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KR960002503A
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Abstract

본 발명은 위상반전마스크를 투과한 후의 빛 강도가 다른 부위에 비해 상대적으로 떨어지는 부위의 빛의 강도를 보상해 주는 위상반전마스크 제조 방법에 관한 것으로, 위상반전마스크 사용시 패턴의 선폭을 균일하게 하여 소자의 신뢰도 및 수율을 향상시키는 효과가 있다.

Description

위상반전마스크 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 위상반전마스크 단면도.

Claims (2)

  1. 마스크를 투과한 후의 빛 강도가 다른 부위에 비해 상대적으로 떨어지는 부위의 빛의 강도를 보상해주는 위상반전마스크 제조 방법에 있어서; 마스크를 투과한 후의 빛 강도가 상대적으로 떨어지는 부위의 크롬막(3) 패턴 소정 부위에 피턴의 건사하지 않을 정도의 크기를 갖는 미세한 공간(a)을 형성하는 것을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 위상반전마스크 제조 방법.
  2. 마스크를 투과한 후의 빛 강도가 다른 부위에 비해 상대적으로 떨어지는 부위의 빛의 강도를 보상해주는 위상반전마스크 제조 방법에 있어서; 마스크를 투과한 후의 빛 강도가 상대적으로 떨어지는 부위의 인접 크롬막(3) 패턴을 다른 부위의 크롬막 보다 두껍게 형성하는 것을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 위상반전마스크 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940014494A 1994-06-23 1994-06-23 마스크 가장자리에서 투과되는 광의 강도를 보상하기 위한 위상반전 마스크 KR0143707B1 (ko)

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