KR970052360A - 림형 위상반전마스크를 이용한 반도체 장치의 스몰콘택홀 형성방법 - Google Patents

림형 위상반전마스크를 이용한 반도체 장치의 스몰콘택홀 형성방법 Download PDF

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KR970052360A
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contact hole
semiconductor device
small contact
mask
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KR1019950057031A
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손창진
한우성
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

직사각형 형태의 림형 위상반전마스크를 이용한 반도체 장치의 스몰콘택홀 형성방법에 관하여 개시한다. 본 발명은 마스크 기판에 마스크 패턴이 형성된 마스크를 이용하여 콘택홀을 형성하는 반도체 장치의 스몰 콘택홀 형성방법에 있어서, 상기 마스크 패턴은 직사각형으로 형성되어 있고, 그 주변에 림영역이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 스몰 콘택홀 형성방법을 제공한다. 본 발명은 직사각형 형태의 림형 위상반전마스크를 이용하여 콘택홀의 해상도 및 초점심도의 향상을 꾀할 수 있다.

Description

림형 위성반전마스크를 이용한 반도체 장치의 스몰콘택홀 형성방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 의한 직가각형 형태의 림형 위상반전마스크를 도시한 레이아웃도이다.

Claims (1)

  1. 마스크 기판에 마스크 패턴이 형성된 마스크를 이용하여 콘택홀을 형성하는 반도체 장치의 스몰 콘택홀 형성방법에 있어서, 상기 마스크 패턴은 직사각형으로 형성되고 있고, 그 주변에 림영역이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 스몰 콘택홀 형성방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950057031A 1995-12-26 1995-12-26 림형 위상반전마스크를 이용한 반도체 장치의 스몰콘택홀 형성방법 KR970052360A (ko)

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