KR980003799A - 반도체 소자 제조용 마스크 - Google Patents

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KR980003799A
KR980003799A KR1019960025558A KR19960025558A KR980003799A KR 980003799 A KR980003799 A KR 980003799A KR 1019960025558 A KR1019960025558 A KR 1019960025558A KR 19960025558 A KR19960025558 A KR 19960025558A KR 980003799 A KR980003799 A KR 980003799A
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KR
South Korea
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vernier
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Application number
KR1019960025558A
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English (en)
Inventor
이진희
원화연
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
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Publication date
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

본 발명의 마스크는 일 측의 스크라이브 라인 영역에 사각 모양의 제1크로 패턴으로 된 제1버니어 마크를 삽입하고, 다른 측의 스크라이브 라인 영역에 사각띠 모양의 제2크롬 패턴과 제2크롬 패턴의 중심 부분에 사각 모양의 빛 투과 지역으로 된 제2버니어 마크를 삽입하여 이루어진다. 제1크롬 패턴의 크기는 제2크롬 패턴의 크기보다는 작고, 빛 투과 지역의 크기보다는 크다. 제1버니어 마크와 제2버니어 마크는 동일 선상에 위치되도록 삽입된다.

Description

반도체 소자 제조용 마스크
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도 본 발명에 따른 마스크의 평면도이다.
제2도는 제1도의 제1버니어 마크를 확대한 평면도.
제3도는 제1도의 제2버니어 마크를 확대한 평면도.

Claims (10)

  1. 석영 기판상에 형성된 단위 필드 영역; 상기 단위 필드 영역의 외곽 선을 따라 존재하는 스크라이브 라인영역; 일 측의 상기 스크라이브 라인 영역에 삽입된 제1버니어 마크; 및 상기 제1버니어 마크에 대응되도록 다른 측의 상기 스크라이브 라인 영역에 삽입된 제2버니어 마크로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1버니어 마크와 상기 제2버니어 마크는 동일 선상에 위치되도록 상기 스크라이브 라인 영역에 삽입되는 것을 특징으로 하는 마스크.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 버니어 마크는 사각 모양인 것을 특징으로 하는 마스크.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1버니어 마크는 상기 제2버니어 마크의 크기보다 작은 것을 특징으로 하는 마스크.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1버니어 마크는 사각 모양의 제1크롬 패턴으로 이루어지고, 상기 제2버니어 마크는 사각띠 모양의 제2크롬 패턴과 상기 제2크롬 패턴의 중심 부분에 사각 모양의 빛 투과 지역으로 이루어진 것을 특징으로 하는 마스크.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1크롬 패턴의 크기는 상기 제2크롬 패턴의 크기보다 작고, 상기 빛 투과 지역의 크기보다 큰 것을 특징으로 하는 마스크.
  7. 제5항에 있어서, 상기 제1크롬 패턴의 가로 및 세로 길이 각각은 20 내지 40um인 것을 특징으로 하는 마스크.
  8. 제5항에 있어서, 상기 제2크롬 패턴의 가로 및 세로 길이 각각은 25 내지 45um인 것을 특징으로 하는 마스크.
  9. 제5항에 있어서, 상기 빛 투과 지역의 가로 및 세로 길이 각각은 10 내지 30um인 것을 특징으로 하는 마스크.
  10. 제5항에 있어서, 상기 빛 투과 지역의 가로 및 세로 길이 각각은 10um이고, 상기 제1크롬 패턴의 가로 및 세로 길이 각각은 20um이며, 상기 제2크롬 패턴의 가로 및 세로 길이 각각은 25um인 것을 특징으로 하는 마스크.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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