KR980003799A - 반도체 소자 제조용 마스크 - Google Patents
반도체 소자 제조용 마스크 Download PDFInfo
- Publication number
- KR980003799A KR980003799A KR1019960025558A KR19960025558A KR980003799A KR 980003799 A KR980003799 A KR 980003799A KR 1019960025558 A KR1019960025558 A KR 1019960025558A KR 19960025558 A KR19960025558 A KR 19960025558A KR 980003799 A KR980003799 A KR 980003799A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- vernier mark
- mask
- vernier
- pattern
- size
- Prior art date
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
본 발명의 마스크는 일 측의 스크라이브 라인 영역에 사각 모양의 제1크로 패턴으로 된 제1버니어 마크를 삽입하고, 다른 측의 스크라이브 라인 영역에 사각띠 모양의 제2크롬 패턴과 제2크롬 패턴의 중심 부분에 사각 모양의 빛 투과 지역으로 된 제2버니어 마크를 삽입하여 이루어진다. 제1크롬 패턴의 크기는 제2크롬 패턴의 크기보다는 작고, 빛 투과 지역의 크기보다는 크다. 제1버니어 마크와 제2버니어 마크는 동일 선상에 위치되도록 삽입된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도 본 발명에 따른 마스크의 평면도이다.
제2도는 제1도의 제1버니어 마크를 확대한 평면도.
제3도는 제1도의 제2버니어 마크를 확대한 평면도.
Claims (10)
- 석영 기판상에 형성된 단위 필드 영역; 상기 단위 필드 영역의 외곽 선을 따라 존재하는 스크라이브 라인영역; 일 측의 상기 스크라이브 라인 영역에 삽입된 제1버니어 마크; 및 상기 제1버니어 마크에 대응되도록 다른 측의 상기 스크라이브 라인 영역에 삽입된 제2버니어 마크로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 제1버니어 마크와 상기 제2버니어 마크는 동일 선상에 위치되도록 상기 스크라이브 라인 영역에 삽입되는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 버니어 마크는 사각 모양인 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 제1버니어 마크는 상기 제2버니어 마크의 크기보다 작은 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 제1버니어 마크는 사각 모양의 제1크롬 패턴으로 이루어지고, 상기 제2버니어 마크는 사각띠 모양의 제2크롬 패턴과 상기 제2크롬 패턴의 중심 부분에 사각 모양의 빛 투과 지역으로 이루어진 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제5항에 있어서, 상기 제1크롬 패턴의 크기는 상기 제2크롬 패턴의 크기보다 작고, 상기 빛 투과 지역의 크기보다 큰 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제5항에 있어서, 상기 제1크롬 패턴의 가로 및 세로 길이 각각은 20 내지 40um인 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제5항에 있어서, 상기 제2크롬 패턴의 가로 및 세로 길이 각각은 25 내지 45um인 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제5항에 있어서, 상기 빛 투과 지역의 가로 및 세로 길이 각각은 10 내지 30um인 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제5항에 있어서, 상기 빛 투과 지역의 가로 및 세로 길이 각각은 10um이고, 상기 제1크롬 패턴의 가로 및 세로 길이 각각은 20um이며, 상기 제2크롬 패턴의 가로 및 세로 길이 각각은 25um인 것을 특징으로 하는 마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960025558A KR980003799A (ko) | 1996-06-29 | 1996-06-29 | 반도체 소자 제조용 마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960025558A KR980003799A (ko) | 1996-06-29 | 1996-06-29 | 반도체 소자 제조용 마스크 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR980003799A true KR980003799A (ko) | 1998-03-30 |
Family
ID=66241068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960025558A KR980003799A (ko) | 1996-06-29 | 1996-06-29 | 반도체 소자 제조용 마스크 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR980003799A (ko) |
-
1996
- 1996-06-29 KR KR1019960025558A patent/KR980003799A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960026072A (ko) | 콘택마스크 | |
KR970077704A (ko) | 마이크로 렌즈 패턴용 마스크 | |
KR950025855A (ko) | 중첩 패턴 형성용 마스크 제조방법 | |
KR980003823A (ko) | 콘택홀용 위상 반전 마스크 | |
KR980003799A (ko) | 반도체 소자 제조용 마스크 | |
KR960002506A (ko) | 반도체 제조용 포토 마스크 | |
KR970076066A (ko) | 반도체 장치 제조용 근접효과 개선마스크 | |
KR950012613A (ko) | 반도체 장치 및 그 제조 방법 | |
KR970018313A (ko) | 정렬도 측정용 오버레이 패턴구조 | |
KR950027940A (ko) | 버니어 | |
KR940010247A (ko) | 얼라인 먼트 마크 형성방법 | |
ATE260155T1 (de) | Presse zur herstellung variabler bearbeitungsmuster | |
KR970071120A (ko) | 노광 마스크 | |
KR940016578A (ko) | 노광기의 성능을 조사할 수 있는 포토마스크 | |
KR970048915A (ko) | 소자이름이 형성되어 있는 포토마스크 | |
KR970076093A (ko) | 포토 마스크의 정합 마크 배치 및 이를 이용한 노광 방법 | |
KR970017941A (ko) | 반도체소자 제조방법 | |
KR970063414A (ko) | 웨이퍼 | |
KR970077109A (ko) | 콘택 얼라인어에 사용되는 정렬키 패턴 | |
KR980005965A (ko) | 반도체장치 제조시의 패턴 모니터링을 위한 버어니어 및 이의 형성방법 | |
KR980003793A (ko) | 감광막 패턴을 형성하기 위한 마스크 | |
KR970012002A (ko) | 반도체 소자 제조용 포토마스크 | |
TW324794B (en) | The manufacturing method for the zero level mask of IC | |
KR950025480A (ko) | 노광마스크 형성방법 | |
KR970067550A (ko) | 웨이퍼 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |