KR970077109A - 콘택 얼라인어에 사용되는 정렬키 패턴 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 제조의 포토리소그라피(Photo Lithography) 공정에서 콘택 얼라인을 위해 사용하는 정렬키 패턴에 관한 것으로서, 중심선이 마주보는 꼭지점을 기준으로 설정되도록 한 정사각형의 마스크키 패턴과; 상기 마스크키 패턴의 한 변과 길이가 같은 두변과 길이가 긴 두변으로 이루어진 제1, 2의 직사각형을 대각으로 교차시켜 놓은 형태의 웨이퍼키 패턴; 으로 이루어지며, 키 정렬키 마스크키의 꼭지점이 웨이퍼키의 제1, 2사각형 각변의 교차점에 각각 대응하도록 형성하여 수동 및 자동 정렬식 고정렬을 성취할 수 있게 함으로써 반도체 제조 수율을 향상시킬 수 있는 장점이 있는 것이다.

Description

콘택 얼라인어에 사용되는 정렬키 패턴
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명에 따른 정렬키의 패턴으로, (A)도는 마스크키, (B)도는 웨이퍼키의 개략도, 제6도는 본 발명 정렬키의 정렬 완료된 후 개략도.

Claims (1)

  1. 중심선이 마주보는 꼭지점을 기준으로 설정되도록 한 정사각형의 마스크키 패턴과, 상기 마스크키 패턴의 한 변과 길이가 같은 두변의 길이가 긴 두변으로 이루어진 제1, 2의 직사각형을 대각으로 교차시켜 놓은 형태의 웨이퍼키 패턴; 으로 이루어지며, 키 정렬키 마스크키의 꼭지점이 웨이퍼키의 제1, 2삭각형 각 변의 교차점에 각각 대응하도록 형성된 것을 특징으로 하는 콘택 얼라인어에 사용되는 정렬키 패턴.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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