KR960018755A - 포토 마스크(Photo Mask) 제작 방법 - Google Patents
포토 마스크(Photo Mask) 제작 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 에정된 콘택홀 형상을 형성하기 위한 포토 마스크 제작 방법으로서 포토 마스크상에 콘택홀 패턴을 형성하고 패턴의 각 모서리에 택(4)을 부착하면 콘택홀 패턴내의 빛의 강도 등고선에 의한 최저 강도가 보상되어 웨이퍼상에 예정된 형태의 콘택홀을 형성시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도 내지 제7도는 본 발명에 따른 포토 마스크 제작 공정도.
Claims (1)
- 포토 마스크(Photo Mask)상에 콘택홀 패턴을 형성함에 있어서, 콘택홀 패턴의 각 모서리에 예정된 크기의 택(tag)(4)을 형성시켜 콘택홀 패턴에 발생되는 모서리 효과(Conering Effect)를 방지하여 예정된 콘택홀 형상을 예정된 부위에 형성시키는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 제작 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940029736A KR960018755A (ko) | 1994-11-12 | 1994-11-12 | 포토 마스크(Photo Mask) 제작 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940029736A KR960018755A (ko) | 1994-11-12 | 1994-11-12 | 포토 마스크(Photo Mask) 제작 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960018755A true KR960018755A (ko) | 1996-06-17 |
Family
ID=66687240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019940029736A KR960018755A (ko) | 1994-11-12 | 1994-11-12 | 포토 마스크(Photo Mask) 제작 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR960018755A (ko) |
-
1994
- 1994-11-12 KR KR1019940029736A patent/KR960018755A/ko not_active Application Discontinuation
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Legal Events
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WITN | Withdrawal due to no request for examination |