KR960018755A - 포토 마스크(Photo Mask) 제작 방법 - Google Patents

포토 마스크(Photo Mask) 제작 방법 Download PDF

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KR960018755A
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pattern
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KR1019940029736A
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임재은
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

본 발명은 에정된 콘택홀 형상을 형성하기 위한 포토 마스크 제작 방법으로서 포토 마스크상에 콘택홀 패턴을 형성하고 패턴의 각 모서리에 택(4)을 부착하면 콘택홀 패턴내의 빛의 강도 등고선에 의한 최저 강도가 보상되어 웨이퍼상에 예정된 형태의 콘택홀을 형성시킬 수 있다.

Description

포토 마스크(Photo Mask) 제작 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도 내지 제7도는 본 발명에 따른 포토 마스크 제작 공정도.

Claims (1)

  1. 포토 마스크(Photo Mask)상에 콘택홀 패턴을 형성함에 있어서, 콘택홀 패턴의 각 모서리에 예정된 크기의 택(tag)(4)을 형성시켜 콘택홀 패턴에 발생되는 모서리 효과(Conering Effect)를 방지하여 예정된 콘택홀 형상을 예정된 부위에 형성시키는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 제작 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940029736A 1994-11-12 1994-11-12 포토 마스크(Photo Mask) 제작 방법 KR960018755A (ko)

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