KR970022502A - 포토 마스크 패턴 설계방법 - Google Patents

포토 마스크 패턴 설계방법 Download PDF

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KR970022502A
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KR
South Korea
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pattern
photomask
edge portion
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pattern design
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Application number
KR1019950034928A
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English (en)
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문성용
권우석
이중현
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

원하는 모양의 패턴을 포토마스크 상에 충실히 구현할 수 있는 포토마스크 패턴 설계방법에 대해 개시한다.
이는, 전자빔을 이용하여 제조되는 포토마스크의 패턴 설계방법에 있어서, 패턴의 볼록한 모서리 부분에 여분의 패턴을 만들어 주거나 오목한 모서리 부분에 노광되지 않는 영역을 삽입한다.
따라서, 포토마스크 상에 형성하고자 하는 본 패턴의 볼록한 모서리부분에 여분의 패턴을 만들어 주거나, 오목한 모서리부분에 노광되지 않는 영역을 삽입하여 줌으로써, 생산성을 저하시키지 않으면서 포토마스크 상에 원하는 패턴을 충실히 구현할 수 있다.

Description

포토 마스크 패턴 설계방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명에 의한 포토마스크 상에서의 패턴 설계방법을 설명하기 위하여 도시한 평면도.

Claims (1)

  1. 전자빔을 이용하여 제조되는 포토마스크의 패턴 설계방법에 있어서, 패턴의 볼록한 모서리 부분에 여분의 패턴을 만들어 주거나 오목한 모서리 부분에 노광되지 않는 영역을 삽입하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 패턴 설계방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950034928A 1995-10-11 1995-10-11 포토 마스크 패턴 설계방법 KR970022502A (ko)

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