KR970012001A - 마스크 제조방법 - Google Patents

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KR970012001A
KR970012001A KR1019950026925A KR19950026925A KR970012001A KR 970012001 A KR970012001 A KR 970012001A KR 1019950026925 A KR1019950026925 A KR 1019950026925A KR 19950026925 A KR19950026925 A KR 19950026925A KR 970012001 A KR970012001 A KR 970012001A
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KR
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mask
forming
mask manufacturing
mask substrate
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KR1019950026925A
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Inventor
윤희선
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

마스크 제조방법이 개시되어 있다. 본 발명은 마스크 제조방법에 있어서, 마스크 기판의 한 쪽 표면에 크롬패턴을 형성하는 단계; 및 상기 크롬패턴이 형성된 마스크 기판의 일정 부분 표면에 표면손상층을 형성하는 단계를 구비하여, 상기 표면 손상층을 통과하는 빛의 투과율을 저하시키는 것을 특징으로 하는 마스크 제조방법을 제공한다.
본 발명에 의하면, 표면이 낮은 부위와 표면이 높은 부위에 사진공정에 의한 감광막패턴 형성시 그 폭을 일정하게 형성 할 수 있다.

Description

마스크 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 3A도 내지 제 3C도는 볼 발명의 일 실시예에 의한 마스크의 제조방법 및 이를 사용하여 반도체기판에 감광막 패턴을 형성한 결과를 보여주는 단면도들이다.

Claims (2)

  1. 마스크 제조방법에 있어서, 마스크기판의 한 쪽 표면에 크롬패턴을 형성하는 단계; 및 상기 크롬패턴이 형성된 마스크기판의 일정 부분 표면에 표면손상층을 형성하는 단계를 구비하여, 상기 표면손상층을 통과하는 빛의 투과율을 저하시키는 것을 특징으로 하는 마스크 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 표면손상층은 전자 빔 또는 RIE공정으로 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 제조방법.
    ※ 참고 사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임
KR1019950026925A 1995-08-28 1995-08-28 마스크 제조방법 KR970012001A (ko)

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