KR970016777A - 도트 패턴을 갖는 마스크 - Google Patents
도트 패턴을 갖는 마스크 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970016777A KR970016777A KR1019950031785A KR19950031785A KR970016777A KR 970016777 A KR970016777 A KR 970016777A KR 1019950031785 A KR1019950031785 A KR 1019950031785A KR 19950031785 A KR19950031785 A KR 19950031785A KR 970016777 A KR970016777 A KR 970016777A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mask
- dot pattern
- center
- light
- dot
- Prior art date
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
포토 마스크 제작시 마스크의 중앙에 도트 형태의 크롬 패턴을 삽입하여 마스킹 작업을 수행하게 되면, 마스크 중앙의 인텐서티를 낮추어 주게 되어서, 이 마스크로써 포토 리소그라피 공정을 수행하게 되면 웨이퍼의 임계면적을 개선하여 보다 작은 콘택을 제작할 수 있으며, 한계에 도달한 대구경비(Numerical Aperture)를 극복한 고해상도의 미세 패턴을 제적할 수 있게 된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 2a도 내지 제 2c도는 본 발명에 의한 포토 마스크 제조 방법.
Claims (2)
- 투광 영역과 차광 영역을 갖는 마스크에 있어서, 투광 영역 중앙에 도트 형태의 차광 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 도트 패턴을 갖는 마스크.
- 제 1항에 있어서, 차광 수단은 크롬으로 된 것을 특징으로 하는 도트 패턴을 갖는 마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950031785A KR970016777A (ko) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | 도트 패턴을 갖는 마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950031785A KR970016777A (ko) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | 도트 패턴을 갖는 마스크 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970016777A true KR970016777A (ko) | 1997-04-28 |
Family
ID=66616374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950031785A KR970016777A (ko) | 1995-09-26 | 1995-09-26 | 도트 패턴을 갖는 마스크 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970016777A (ko) |
-
1995
- 1995-09-26 KR KR1019950031785A patent/KR970016777A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR940002934A (ko) | 리소그라픽 공정을 포함하여 장치를 제조하는방법 | |
| KR900007062A (ko) | 하전입자 비임 노광법(charged particle beam exposure method) | |
| KR930006840A (ko) | 포토마스크 및 그것을 사용한 레지스터패턴 형성방법 | |
| KR960009236A (ko) | T-게이트전극을 형성하기 위한 포토마스크 | |
| KR960000179B1 (ko) | 에너지 절약형 포토마스크 | |
| KR950027933A (ko) | 위상반전 마스크 | |
| KR950001919A (ko) | 회절빛 제어 마스크 | |
| KR970076061A (ko) | 위상반전 마스크 및 그 제조방법 | |
| KR970016777A (ko) | 도트 패턴을 갖는 마스크 | |
| KR980003804A (ko) | 해프톤 위상반전 마스크 | |
| KR950015591A (ko) | 반도체 장치의 제조방법 | |
| KR937000886A (ko) | 미세 레지스트 패턴의 형성 방법 | |
| KR950001889A (ko) | 광 선택 필터가 부착된 포토마스크 | |
| KR970012001A (ko) | 마스크 제조방법 | |
| KR100334978B1 (ko) | 포토마스크 및 그 제조방법 | |
| KR940020172A (ko) | 노광 강도(light intensity)변화에 의한 국지적인 패턴 손실 방지 포토마스크 | |
| KR960005754A (ko) | 포토마스크 | |
| TW353767B (en) | Light exposure mask for semiconductor devices and method for forming the same | |
| KR970076069A (ko) | 콘택 마스크 | |
| KR19990057884A (ko) | 위상 반전 마스크 | |
| KR950003914A (ko) | 반도체 제조용 위상반전 마스크 제조방법 | |
| KR950030230A (ko) | 크롬 마스크를 이용한 하프-톤 마스크 제작 방법 | |
| KR970030231A (ko) | 해프톤 위상반전마스크 | |
| KR970066705A (ko) | 마스크 및 그 제조방법 | |
| KR970016479A (ko) | 미세 패턴 형성 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |