KR950015591A - 반도체 장치의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 장치의 제조 방식에 관한 것으로서, 경사면을 갖는 반도체 기판의 노광 공정시 경사면에 해당되는 부분에 도트 패턴을 구비하는 노광 마스크를 사용하거나, 경사면에 해당되는 부분으로의 노광을 방지하기 위한 보조패턴이 크롬 패턴들의 사이에 형성한 노광 마스크를 사용하여 경사면에서의 반사광에 의해 감광막의 예정되지 않은 부분이 노광되어 감공막이 손상되는 것을 방지하였으므로 종래의 삼층 레지스트 법이나, 저반사 물질을 이용하는 방법에 비해 공정이 간단하여 공정 수율을 증가시키고, 신뢰성을 향상시킨다.

Description

반도체 장치의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명에 따른 감광막 패턴 형성을 위한 노광 마스크의 일실시예의 평면도,
제5도는 제4도에서의 선V-V에 따른 단면도,
제6도는 제4도의 노광 마스크를 사용한 반도체 장치의 단면도.

Claims (4)

  1. 경사면을 갖는 기판의 상측에 감광막 패턴을 형성하는 반도체 장치의 제조 방법에 있어서, 상기 기판의 경사면에 대응되는 부분에 패턴이 되지 않을 정도의 크기로된 도트 패턴들을 구비하는 노광 마스크로 감광막을 노광하여 경사면에서 반사되는 광의 세기를 감소시켜 광반사에 의해 감광막 패턴의 손상을 방지하는 반도체 장치의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서. 상기 도트 패턴이 광차단 물질이나 위상 반전 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 도트 패턴이 0.1∼0.3㎛ 정도 크기로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조방법.
  4. 경사면을 갖는 기판의 상측에 감광막 패턴을 형성하는 반도체 장치의 제조 방법에 있어서, 상기 기판의 경사면에서 반사되는 광에 노출되는 부분에 노광되는 광을 차단하는 별도의 보조 패턴을 구비하는 노광 마스크로 노광하여 광반사에 의한 감광막 패턴의 손상을 방지하는 반도체 장치의 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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