KR950027931A - 포토마스크(Photomask) 제작방법 - Google Patents
포토마스크(Photomask) 제작방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 포토마스크 제작방법에 관한 것으로, 특히 탈착이 가능한 태그를 포토마스크에 사용하여 난반사가 심한 박막위에서 감광막에 의한 패턴형성시 발생하는 패턴 넥킹을 방지할 수 있는 포토마스크 제작방법에 관한 것이며, 난반사가 심함 박막증에 증착된 감광막의 패턴형성시 발생하는 패턴 넥킹을 방지하기 위하여 탈착이 가능한 태그(6)를 박막의 패턴을 형성하는 포토마스크(10)에 접착하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 의한 높이차를 갖는 반도체 기판의 감광막 패턴 형성을 위한 포토마스크의 평면도,
제4도는 본 발명에 의한 인접 패턴이 있는 포토마스크의 평면도.
Claims (1)
- 포토마스크 제작방법에 관한 것으로, 난반사가 심한 박막위에서 감광막에 의한 패턴형성시 발생하는 패턴넥킹을 방지하기 위하여 탈착이 가능한 태그(6)를 박막의 패턴을 형성하는 포토마스크(10)에 접착하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 제작방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940005264A KR950027931A (ko) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | 포토마스크(Photomask) 제작방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940005264A KR950027931A (ko) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | 포토마스크(Photomask) 제작방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950027931A true KR950027931A (ko) | 1995-10-18 |
Family
ID=66690047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940005264A KR950027931A (ko) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | 포토마스크(Photomask) 제작방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR950027931A (ko) |
-
1994
- 1994-03-16 KR KR1019940005264A patent/KR950027931A/ko not_active Application Discontinuation
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