KR970022515A - 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토마스크 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판 상에 액상의 포토레지스트가 스핀 방식에 의하여 코팅될 때 표면 장력 차로 인하여 발생되는 변부의 두께 차를 최소화 할 수 있는 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토마스크에 관한 것이다.
본 발명에 따른 포토마스크는, 스핀 코팅 방식으로 기판 상에 포토레지스트가 코팅되는 포토마스크에 있어서, 상기 포토마스크 기판의 변부에 소정 하강 경사를 갖도록 커팅된 하강경사면이 형성됨을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 웨이퍼를 제조하기 위한 포토마스크의 균일도가 개선되어 고집적화 장치에서 요구되는 최소 해상도를 충족시키고 이를 구현하기 위한 선폭(Critical Dimension)을 만족시킬 수 있는 효과가 있으며, 미세패턴 형성 면적이 확대될 수 있는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3A도는 본 발명에 따른 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토레지스트의 실시예를 나타내는 단면도,
제3B도는 본 발명에 따른 실시예를 구성하는 커팅 면이 형성된 기판의 평면도,
제3C도는 제3B도의 III-III선을 자른 단면도.
Claims (4)
- 스핀 코팅 방식으로 기판 상에 포토레지스트가 코팅되는 포토마스크에 있어서; 상기 포토마스크 기판의 변부에 외향 하강 경사를 갖도록 커팅된 하강경사면이 형성됨을 특징으로 하는 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 하강경사면은 상기 포토마스크 기판의 변부 중 각 꼭지 부분에 형성됨을 특징으로 하는 상기 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 하강경사면의 경사각은 30° 내지 80° 범위 내임을 특징으로 하는 상기 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 하강경사면은 소정 곡률을 갖도록 형성됨을 특징으로 하는 상기 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950034350A KR970022515A (ko) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950034350A KR970022515A (ko) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토마스크 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970022515A true KR970022515A (ko) | 1997-05-28 |
Family
ID=66583186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950034350A KR970022515A (ko) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 포토레지스트 균일도 개선을 위한 포토마스크 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970022515A (ko) |
-
1995
- 1995-10-06 KR KR1019950034350A patent/KR970022515A/ko not_active Application Discontinuation
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