KR970062806A - 알루미늄 상의 포토레지스트 마스크 패터닝 방법 - Google Patents

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aluminum
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photoresist mask
photoresist
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KR1019960004475A
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고성훈
심경보
환연백
김재필
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 알루미늄층 상에 산화막을 형성하여 얇은 알루미늄의 패터닝을 형성하는 알루비늄 상의 포토레지스트 마스크 패터닝 방법에 관한 것이다.
본 발명은 알루미늄층 상에 산화막 및 포토레지스트층을 증착한 후 상기 포토레지스트층을 패터닝 함으로서 상기 알루미늄층의 난반사를 약화시켜 패턴의 넥킹(Necking)또는 브리지(Bridge)를 방지하고 일정한 사이즈의 균일한 패턴을 얻을 수 있는 것을 특징으로 한다.

Description

알루미늄 상의 포토레지스트 마스크 패터닝 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명에 의한 포토레지스트 마스크 패터닝시 단면도이다.

Claims (2)

  1. 알루미늄층 상에 산화막 및 포토레지스트층을 증착한 후 상기 포토레지스트층을 패터닝 함으로서 상기 알루미늄층의 난반사를 약화시키는 것을 특징으로 하는 알루미늄 상의 포토레지스트 마스크 패터닝 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 알루미늄층의 두께는 4000Å 이상이고, 상기 산화막의 두께는 100~1000Å이고, 상기 포토레지스트의 두께는 0.6㎛이하인 것을 특징으로 하는 알루미늄 상의 포토레지스트 마스크 패터닝 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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