KR970052550A - 반도체장치의 콘택 형성방법 - Google Patents
반도체장치의 콘택 형성방법 Download PDFInfo
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Abstract
포토레지스트 플로우공정을 가진 반도체장치의 콘택 형성방법이 개시되어 있다. 본 발명은 포토리소그라피 공정과 포토레지스트 플로우공정 및 식각공정이 구비되어 이루어지는 반도체장치의 콘택 형성방법에 있어서, 상기 포토레지스트 플로우공정 전에 포토레지스트막의 콘택패턴 사이에 보조홈이 형성되는 것을 특징으로 한다.
따라서, 다수의 콘택패턴들이 인접되어 배치될 때 포토레지스트 플로우공정을 진행할 경우 그 간격의 차이에 의해 객개의 패턴들이 왜곡, 변형되는 것을 방지하여 원하는 형태의 미세 콘택패턴을 이루도록 하는 효과를 가진다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 과정중 포토레지스트 플로우 전에 콘택패턴들 사이에 보조홈을 설치한 상태를 나타낸 도면.
Claims (3)
- 포토리소그라피 공정과 포토레지스트 플로우공정 및 식각공정이 구비되어 이루어지는 반도체장치의 콘택 형성방법에 있어서, 상기 포토레지스트 플로우공정 전에 포토레지스트막의 콘택패턴 사이에 보조홈이 형성되는 단계가 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 콘택 형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 보조홈은 주변에 있는 콘택 가운데 거리가 멀리 떨어진 콘택들 사이에 상기 콘택들을 연결하는 직선과 수직하게 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 콘택 형성방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 보조홈은 상기 포토레지스트막의 하부층과 연결되지 않도록 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 콘택 형성방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950055718A KR970052550A (ko) | 1995-12-23 | 1995-12-23 | 반도체장치의 콘택 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950055718A KR970052550A (ko) | 1995-12-23 | 1995-12-23 | 반도체장치의 콘택 형성방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970052550A true KR970052550A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66616990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950055718A KR970052550A (ko) | 1995-12-23 | 1995-12-23 | 반도체장치의 콘택 형성방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970052550A (ko) |
-
1995
- 1995-12-23 KR KR1019950055718A patent/KR970052550A/ko not_active Application Discontinuation
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