KR950027932A - 포토마스크(Photomask) 제작방법 - Google Patents
포토마스크(Photomask) 제작방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 포토마스크 제작방법에 관한 것으로, 특히 높이차로 인하여 난반사가 심한 박막위에서 감광막 패턴(pattern)형성시 더미 크롬 패턴을 포토마스크 패턴의 가장자리에 붙여 감광막 패턴의 노칭현상을 방지할 수 있는 포토마스크 제작방법에 관한 것이며, 난반사가 심한 박막상에 증착된 감광막의 패턴형성시 발생하는 감광막 패턴 노칭현상을 방지하기 위하여 포토마스크 패턴(2)의 모서리에 더미 크롬 패턴(4)을 형성하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 의한 모서리에 더미 크롬 패턴을 형성한 포토마스크의 평면도,
제4도는 본 발명에 의한 포토마스크에 의하여 반도체 기판상에 형성된 감광막 패턴을 나타내는 평면도.
Claims (1)
- 포토마스크 제작방법에 있어서, 난반사가 심한 박막증에 증착된 감광막의 패턴형성시 발생하는 감광막 패턴노칭현상을 방지하기 위하여 포토마스크 패턴(2)의 모서리에 더미 크롬 패턴(4)을 형성하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 제작방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940005265A KR950027932A (ko) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | 포토마스크(Photomask) 제작방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940005265A KR950027932A (ko) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | 포토마스크(Photomask) 제작방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950027932A true KR950027932A (ko) | 1995-10-18 |
Family
ID=66690058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940005265A KR950027932A (ko) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | 포토마스크(Photomask) 제작방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR950027932A (ko) |
-
1994
- 1994-03-16 KR KR1019940005265A patent/KR950027932A/ko not_active Application Discontinuation
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