KR960005754A - 포토마스크 - Google Patents

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KR960005754A
KR960005754A KR1019940017982A KR19940017982A KR960005754A KR 960005754 A KR960005754 A KR 960005754A KR 1019940017982 A KR1019940017982 A KR 1019940017982A KR 19940017982 A KR19940017982 A KR 19940017982A KR 960005754 A KR960005754 A KR 960005754A
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KR
South Korea
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chromium region
photomask
region
chromium
center
Prior art date
Application number
KR1019940017982A
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English (en)
Inventor
임창문
김형수
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
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Publication date
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Priority to KR1019940017982A priority Critical patent/KR960005754A/ko
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

본 발명은 커패시터 모듈(module)형성에 이용 가능한 포토마스크에 관한 것으로, 크롬영역(10)과 비크롬영역(20)으로 이루어지는 포토마스크에 있어서, 상기 비크롬영역(20)의 중앙부에 집중되는 노광에너지를 완화시키기 위해 상기 비크롬영역(20)의 중앙부에 미세 크롬영역(50)을 형성하는 것을 특징으로 한다.

Description

포토마스크
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2A도는 본 발명의 일실시예에 따라 형성된 다크필드마스크이다.
제2B도는 본 발명의 일실시예에 따라 형성된 마스크 패턴과 등광선을 나타낸 평면도이다.

Claims (1)

  1. 크롬영역(10)과 비크롬영역(20)으로 이루어지는 포토마스크에 있어서, 상기 비크롬영역(20)의 중앙부에 집중되는 노광에너지를 완화시키기 위해 상기 비크롬영역(20)의 중앙부에 미세 크롬영역(50)을 형성하는 것을 특징으로 하는 포토마스크.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940017982A 1994-07-25 1994-07-25 포토마스크 KR960005754A (ko)

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