KR980003791A - 하프톤 위상 반전 마스크 - Google Patents

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KR980003791A
KR980003791A KR1019960023985A KR19960023985A KR980003791A KR 980003791 A KR980003791 A KR 980003791A KR 1019960023985 A KR1019960023985 A KR 1019960023985A KR 19960023985 A KR19960023985 A KR 19960023985A KR 980003791 A KR980003791 A KR 980003791A
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KR
South Korea
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halftone phase
phase inversion
mask
glass plate
present
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KR1019960023985A
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Inventor
우상균
임성출
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

본 발명은 하프톤 위상 반전 마스크에 관해 개시한다. 본 발명에 의한 마스크는 유리판이 있고 상기 유리판 전면에 위상 반전층이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
따라서 본 발명에 의한 마스크를 사용하면, 실제공정에서 사이드 로브패턴이 형성될 수 있는 환경을 피할 수 있으므로 효과적으로 HTPSM를 사용할 수 있다. 또한, 감광막 패터닝 공정을 원활히 수행할 수 있고 감광막의 손실을 막을 수 있으므로 경제적은 공정이 된다.

Description

하프톤 위상 반전 마스크
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제6도 내지 제8도는 본 발명의 제2실시예에 의한 하프톤 위상 반전 마스크 제조방법의 일 실시예를 단계별로 나타낸 도면들이다.
제9도 내지 제11도는 본 발명의 제2실시예에 의한 하프톤 위상 반전 마스크 제조방법의 다른 실시예를 단계별로 나타낸 도면들이다.

Claims (2)

  1. 유리판과 상기 유리판 전면에 형성된 위상 반전층을 구비하는 것을 특징으로 하는 하프톤 위상 반전 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 위상 반전층 상에는 상기 위상반전층의 중앙을 노출시키는 크롬층 패턴을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 하프톤 위상 반전 마스크.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960023985A 1996-06-26 1996-06-26 하프톤 위상 반전 마스크 KR980003791A (ko)

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