KR970016790A - 포토 마스크 제조방법 - Google Patents
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Abstract
포토레지스터가 코팅되지 않은 상태의 블랭크 마스크를 이온 빔으로 직접 에칭함으로써 제조 공정을 줄일 수 있는 포토 마스크 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 포토마스크의 제조 방법은, 차광막과 광투과성 기판으로 형성된 블랭크 마스크의 상기 차광막 상에 미리 설계된 패턴이 형성되도록 상기 차광막을 이온 빔으로 직접 에칭함을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 공수가 줄어들어서 작업성이 개선되며, 수율이 향상되고, 미세패턴을 형성하는데 효과적이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 2도의 (가) 및 (나)는 본 발명에 따른 포토마스트 제조 방법의 실시예를 나타내는 도면이다.
Claims (2)
- 포토마스크 제조 방법에 있어서, 차광막과 광투과성 기판으로 형성된 블랭크 마스크의 상기 차광막 상에 미리 설계된 패턴이 형성되도록 상기 차광막을 이온 빔으로 직접 에칭함을 특징으로 하는 포토마스크 제조 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 에칭에 의하여 발생된 스테인을 세정시키고, 상기 이온 빔으로 상기 차광막을 에칭할 때 그 하부의 광투과성 기판의 표면이 손상된 것을 평탄화시켜서 상기 차광막이 에칭된 윈도우 부분의 투과성을 높이는 과정이 추가 구성됨을 특징으로 하는 상기 포토마스크 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950029562A KR100219398B1 (ko) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 포토마스크제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950029562A KR100219398B1 (ko) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 포토마스크제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970016790A true KR970016790A (ko) | 1997-04-28 |
| KR100219398B1 KR100219398B1 (ko) | 1999-09-01 |
Family
ID=19426437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950029562A KR100219398B1 (ko) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 포토마스크제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100219398B1 (ko) |
-
1995
- 1995-09-11 KR KR1019950029562A patent/KR100219398B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100219398B1 (ko) | 1999-09-01 |
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