KR950009322A - 기능성 도막을 형성하는 방법 - Google Patents
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Abstract
격자상 또는 줄무늬모양 등의 미세무늬 형상의 기능성 도막, 예컨데 차광성의 도막을 정밀도가 양호하게 형성시킨 기판을 제조하는 방법을 제공한다.
이러한 미세무늬 형상의 기능성 도막을 형성시킨 기판의 제조방법은 (a)표면에 도전층을 갖는 기판의 전면에, 포지티브형 또는 네가티브형 포토 레지스트를 도포하여 도막을 형성시키는 공정, (b)형성된 포지티브형 또는 네가티브형 포토 레지스트 도막의 표면에 기능성 도막을 형성시키는 예정된 부분 이외의 부분을 피복한 도막을 다음의 현상공정에서 부여하는 패턴을 갖는 마스크를 포개서 광선을 조사하는 노광 공정, (c)기능성 도막을 형성시키는 예정된 부분의 도막을 제거하는 현상 공정, (d)이상의 공정을 거쳐서 수득된 기판에, 그 표면의 도전층을 한쪽의 전극으로서 사용하여 전착도장을 실시함으로써, 그 도전층상의 도막에 피복되어 있지 않은 부분에 기능성도막을 형성시키는 공정, (e)앞서 형성된 포지티브형 또는 네가티브형 포토 레지스트 도막만을 제거하는 공정, 을 상기의 순서로 실시하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 각 공정에서 수득되는 제품 등의 단면의 모식도이다,
제2도는 본 발명의 (d)공정에서 수득되는 기능성 도막 등의 패턴의 평면의 모식도이다.
Claims (5)
- 미세무늬형상을 갖는 기능성 도막을 형성한 기판을 제조하는 방법에 있어서, (a)표면에 도전층을 갖는 기판에 전면에, 포지티브형 또는 네가티브형 포토 레지스트를 도포하여 도막을 형성시키는 공정, (b)형성된 포지티브형 또는 네가티브형 포토 레지스트 도막의 표면에 기능성 도막을 형성시키는 예정된 부분 이외의 부분을 피복한 도막을 다음의 현상공정에서 부여하는 패턴을 갖는 마스크를 포개서 광선을 조사하는 노광 공정, (c)기능성 도막을 형성시키는 예정된 부분의 도막을 제거하는 현상 공정, (d)이상의 공정을 거쳐서 수득된 기판에, 그 표면의 도전층을 한쪽의 전극으로서 사용하여 전착도장을 실시함으로써, 그 도전층상의 도먹에 피복되어 있지 않은 부분에 기능성 도막을 형성시키는 공정, (e)앞서 형성된 포지티브형 또는 네가티브형 포토 레지스트 도막만을 제거하는 공정을 상기의 순서로 실시하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 기능성 도막의 무늬형상이 격자상 또는 줄무늬 상이며, 이 도막의 최단 공간 폭이 약200㎛이하인 방법.
- 제1항 또는 2항에 있어서, (d)공정의 전에 현상공정에서 남은 도막을 열처리하는 공정을 포함하는 방법.
- 블랙 매트릭스로서, 제1항, 2항 또는 3항에 기재된 제조방법에 의해서 수득되는 미세무늬형상의 기능성 도막을 갖는 기판을 사용하여 이루어지는 컬러 필터.
- 블랙 매트릭스로서, 제1항, 2항 또는 3항에 기재된 제조방법에 의해서 수득되는 미세무늬형상의 기능성 도막을 갖는 기판에 3원색의 도막을 형성시킨 다음, 오버 코우트막을 형성시키고, 또 그 위에 액정구동용의 투명 도전막을 형성시켜 이루어지는 컬러 필터.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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