JPH01277202A - 透明電極付カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
透明電極付カラーフィルターの製造方法Info
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- JPH01277202A JPH01277202A JP63106887A JP10688788A JPH01277202A JP H01277202 A JPH01277202 A JP H01277202A JP 63106887 A JP63106887 A JP 63106887A JP 10688788 A JP10688788 A JP 10688788A JP H01277202 A JPH01277202 A JP H01277202A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
この発明は、液晶デイスプレィなどに用いられるカラー
フィルター上に透明電極を形成する方法に関する。
フィルター上に透明電極を形成する方法に関する。
単純マトリクス駆動型の液晶デイスプレィに用いるカラ
ーフィルターに透明電極を形成するには、従来、次のよ
うにして行なわれていた。 まず、蒸着法やスパッタリング法などで、透明基板に透
明導電膜を全面に形成し、フォトレジスト層を形成後、
フォトマスクを重ね合わせて露光し、現像を行なってフ
ォトレジスト層をパターン化し、次いでエツチングを行
なって透明導電膜をパターン化し、最後にレジストを除
去するという工程を経て、透明電極を形成している。そ
して、この透明電極が形成された基板上にカラーフィル
ター層や各色の隙間にブラックマスクを形成していた。 この場合、カラーフィルター層のＲＧＢの各色およびブ
ラックマスクは、正確に透明電極に位置合わせして形成
する必要がある。しかし、透明電極のパターンマスクと
カラーフィルターの各色のパターンマスクとブラックマ
スクのパターンマスクとを、ピッチおよびパターン寸法
を正確に一致させなければならないこと、そしてそれぞ
れを透明電極に正確に位置合わせして形成しなければな
らないことという困難さがあった。 また、上記の構成では、液晶デイスプレィに組み込んだ
際に、透明電極と液晶との間にカラーフィルター層が介
在することになり、液晶デイスプレィの動作時にカラー
フィルター層の内部抵抗による電圧降下や、カラーフィ
ルタ・−層内部のインピーダンス容量による遅れ時間が
発生し、悪影響をもたらすものであった。そこで、カラ
ーフィルター層、ブラックマスクを基板上に形成した後
、透明電極を形成する構成のカラーフィルターが主流に
なってきた。
ーフィルターに透明電極を形成するには、従来、次のよ
うにして行なわれていた。 まず、蒸着法やスパッタリング法などで、透明基板に透
明導電膜を全面に形成し、フォトレジスト層を形成後、
フォトマスクを重ね合わせて露光し、現像を行なってフ
ォトレジスト層をパターン化し、次いでエツチングを行
なって透明導電膜をパターン化し、最後にレジストを除
去するという工程を経て、透明電極を形成している。そ
して、この透明電極が形成された基板上にカラーフィル
ター層や各色の隙間にブラックマスクを形成していた。 この場合、カラーフィルター層のＲＧＢの各色およびブ
ラックマスクは、正確に透明電極に位置合わせして形成
する必要がある。しかし、透明電極のパターンマスクと
カラーフィルターの各色のパターンマスクとブラックマ
スクのパターンマスクとを、ピッチおよびパターン寸法
を正確に一致させなければならないこと、そしてそれぞ
れを透明電極に正確に位置合わせして形成しなければな
らないことという困難さがあった。 また、上記の構成では、液晶デイスプレィに組み込んだ
際に、透明電極と液晶との間にカラーフィルター層が介
在することになり、液晶デイスプレィの動作時にカラー
フィルター層の内部抵抗による電圧降下や、カラーフィ
ルタ・−層内部のインピーダンス容量による遅れ時間が
発生し、悪影響をもたらすものであった。そこで、カラ
ーフィルター層、ブラックマスクを基板上に形成した後
、透明電極を形成する構成のカラーフィルターが主流に
なってきた。
この場合は、透明電極にカラーフィルター層２とブラッ
クマスク３とを位置合わせするという困難さはなくなる
が、ブラックマスクとカラーフィルターとの位置合わせ
およびこれらに透明電極を位置合わせして形成しなけれ
ばならない。もちろん、前記したように、各マスクの寸
法精度は必要である。 この発明の目的は以上のような問題点を解決し、精度が
高い透明電極付カラーフィルターを効率よく製造する方
法を提供することにある。
クマスク３とを位置合わせするという困難さはなくなる
が、ブラックマスクとカラーフィルターとの位置合わせ
およびこれらに透明電極を位置合わせして形成しなけれ
ばならない。もちろん、前記したように、各マスクの寸
法精度は必要である。 この発明の目的は以上のような問題点を解決し、精度が
高い透明電極付カラーフィルターを効率よく製造する方
法を提供することにある。
この発明は、以上の目的を達成するために、次のように
構成した。すなわちこの発明の透明電極付カラーフィル
ターの製造方法は、透明基板の一方表面にカラーフィル
ター層を形成し、カラーフィルター層の色の継目にブラ
ックマスクを形成し、カラーフィルター層およびブラッ
クマスクを被覆するオーバーコート層を形成し、オーバ
ーコート層上に透明導電膜を形成し、透明導電股上にネ
ガ型フォトレジスト層を形成し、透明基板の他方表面か
ら平行光線によりフォトレジスト層を露光し、フォトレ
ジスト層の現像を行い、フォトレジスト層の未露光部分
を除去し、エツチング処理を行ない、透明導電膜をパタ
ーン化して透明電極とし、フォトレジスト層を除去する
ように構成した。 また、他の透明電極付カラーフィルターの製造方法は、
透明基板の一方表面にブラックマスクを形成し、少なく
ともブラックマスクの間隙にカラーフィルター層を形成
し、カラーフィルター層およびブラックマスクを被覆す
るオーバーコート層を形成し、オーバーコート層上に透
明導電膜を形成し、透明導電膜上にネガ型フォトレジス
ト層を形成し、透明基板の他方表面から平行光線により
フォトレジスト層を露光し、フォトレジスト層の現像を
行い、フォトレジスト層の未露光部分を除去し、エツチ
ング処理を行ない、透明導電膜をパターン化して透明電
極とし、フォトレジスト層を除去するように構成した。 図面を用いてこの発明をさらに詳しく説明する。 第１図はこの発明の透明電極付カラーフィルターの製造
工程を示す断面図、第２図はこの発明の他の透明電極付
カラーフィルターの製造工程を示す断面図である。１は
透明基板、２はカラーフィルター層、３はブラックマス
ク、４はオーバーコート層、５は透明導電膜、６はフォ
トレジスト層、７は透明電極である。 まず、透明基板１の一方表面にカラーフィルター層２を
形成する（第１図Ｃ参照）、透明基板１としては、液晶
デイスプレィなどの各種表示装置に用いられるものでよ
く、通常はガラス板または合成樹脂板や合成樹脂フィル
ムを用いることができる。カラーフィルター層２を形成
する方法としては、感光構成樹脂を透明基板１にスピナ
ー法やロールコート法などによってコーティングしたの
ち、フォトリソ法によってパターン化し、染色する工程
を繰り返して形成する方法、または、着色材を分散また
は溶解させた感光性樹脂を透明基板１に上記と同様の方
法でコーティングしたのち、フォトリソ法によってパタ
ーン化する工程を繰り返して形成する方法、あるいは透
明基板上に金属酸化物による透明活性膜層を設け、この
透明活性膜層を染色する方法などがある。 次に、カラーフィルター層２の色の継目にブラックマス
ク３を形成する（第１図す参照）、ブラックマスク３を
形成する方法としては、メツキ・蒸着・スパッタリング
などの方法により金属薄膜層を形成し、リフトオフまた
はエツチングによりパターン化する方法がある。 次に、カラーフィルター層２およびブラックマスク３を
被覆するオーバーコート層４を形成する（第１図Ｃ参照
）、オーバーコート層４としては、アクリル系樹脂ある
いはメラミン系樹脂・エポキシ系樹脂・シリコン系樹脂
・不飽和ポリエステル系樹脂・イソシアヌレート系樹脂
・ポリイミド系樹脂・紫外線硬化性樹脂などのうち、硬
質で透明性に優れた樹脂を単一あるいは２種以上の混合
物もしくは共重合体として用い、印刷法やスピナー法・
ロールコート法・スプレー法などで塗布して形成すれば
よい。このほか、珪酸ナトリウムや珪酸リチウムなどの
無機材料を塗布し、加熱することによってもオーバーコ
ート層４を形成することができる。 次に、オーバーコート層４上に透明導電膜５を形成する
（第１図Ｃ参照）、透明導電膜５としては、ＩＴＯや酸
化スズなどをＥＢ蒸着法やスパッタリング法などによっ
て膜厚１．０００〜３，０００人、表面抵抗値１０〜２
００Ω／Ｃ膳２のものを用いる。 次に、透明導電膜５上にネガ型フォトレジスト層６を形
成する（第１図Ｃ参照）、ネガ型フォトレジスト６とし
ては、特に可視波長領域での感度特性を有するフォトレ
ジストを選択することが肝要で、膜厚０．５〜１０μｍ
程度に形成する。形成方法は、スピナー法・ロールコー
ト法・ディッピング法が適している。 次に、透明基板１の他方表面から平行光線により露光す
る（第１図Ｃ参照）、ブラックマスク３は遮光性を有す
るため、フォトレジスト層６はブラックマスク３のパタ
ーンをネガパターンとして露光する。したがって、ブラ
ックマスク３の光学濃度は、２以上必要である。また、
平行光線を使用するので、微細なパターンを再現するこ
とが可能となる。露光において、フォトレジスト層６側
からではなく、透明基板１側から露光を行なうため、フ
ォトレジスト層６に加わる露光量が、カラーフィルター
層２の色によ゛って異なる。したがって、光源の分光分
布とカラーフィルター層２の各色の分光透過率が合致す
るように、光源およびカラーフィルター層２の着色材を
選択する必要がある。特に、フォトレジスト層６の分布
感度が可視領域にもあるフォトレジストが望ましい、カ
ラーフィルター層の色相が赤の場合、赤の透過波長領域
に分光光度を有するフォトレジストが少ないため、赤フ
ィルターの分光透過波長が４０Ｏｎ＋ｓ以下で透過する
ような色素を選択する必要がある。また、フォトレジス
トが５７Ｏｎ＋ｉ以上で分光感度を向上させるために、
増感剤を添加するようにしてもよい。 また、透明基板の種類によっても、上記波長領域での分
光透過率を考慮する必要がある。 次に、フォトレジスト層６の現像を行い、フォトレジス
ト層６の未露光部分を除去する（第１図ｇ参照）。現像
は、フォトレジストの種類によるが、通常はアルカリ現
像を行なう。 次に、エツチング処理を行ない、透明導電膜５をパター
ン化して透明電極７とする（第１図り参照）。濃度１８
％の塩酸水溶液や塩化第二鉄−塩酸液、塩化ヨウ素液な
どが使用され、４３〜５０℃にて３０秒〜２分間程度エ
ツチング処理が行なわれる。 次に、フォトレジスト層をアルカリ処理を行なって除去
する（第１図ｇ参照）。 また、次のような工程で透明電極付カラーフィルターを
製造することができる。まず、透明基板１上にブラック
マスク３を形成する（第１図ｇ参照）０次に、少なくと
もブラックマスク３の間隙にカラーフィルター層２を形
成するく第２図す参照）。続いて前記と同様の工程を経
て透明電極付カラーフィルターを得ることができる（第
２図Ｃ〜ｉ参照）。
構成した。すなわちこの発明の透明電極付カラーフィル
ターの製造方法は、透明基板の一方表面にカラーフィル
ター層を形成し、カラーフィルター層の色の継目にブラ
ックマスクを形成し、カラーフィルター層およびブラッ
クマスクを被覆するオーバーコート層を形成し、オーバ
ーコート層上に透明導電膜を形成し、透明導電股上にネ
ガ型フォトレジスト層を形成し、透明基板の他方表面か
ら平行光線によりフォトレジスト層を露光し、フォトレ
ジスト層の現像を行い、フォトレジスト層の未露光部分
を除去し、エツチング処理を行ない、透明導電膜をパタ
ーン化して透明電極とし、フォトレジスト層を除去する
ように構成した。 また、他の透明電極付カラーフィルターの製造方法は、
透明基板の一方表面にブラックマスクを形成し、少なく
ともブラックマスクの間隙にカラーフィルター層を形成
し、カラーフィルター層およびブラックマスクを被覆す
るオーバーコート層を形成し、オーバーコート層上に透
明導電膜を形成し、透明導電膜上にネガ型フォトレジス
ト層を形成し、透明基板の他方表面から平行光線により
フォトレジスト層を露光し、フォトレジスト層の現像を
行い、フォトレジスト層の未露光部分を除去し、エツチ
ング処理を行ない、透明導電膜をパターン化して透明電
極とし、フォトレジスト層を除去するように構成した。 図面を用いてこの発明をさらに詳しく説明する。 第１図はこの発明の透明電極付カラーフィルターの製造
工程を示す断面図、第２図はこの発明の他の透明電極付
カラーフィルターの製造工程を示す断面図である。１は
透明基板、２はカラーフィルター層、３はブラックマス
ク、４はオーバーコート層、５は透明導電膜、６はフォ
トレジスト層、７は透明電極である。 まず、透明基板１の一方表面にカラーフィルター層２を
形成する（第１図Ｃ参照）、透明基板１としては、液晶
デイスプレィなどの各種表示装置に用いられるものでよ
く、通常はガラス板または合成樹脂板や合成樹脂フィル
ムを用いることができる。カラーフィルター層２を形成
する方法としては、感光構成樹脂を透明基板１にスピナ
ー法やロールコート法などによってコーティングしたの
ち、フォトリソ法によってパターン化し、染色する工程
を繰り返して形成する方法、または、着色材を分散また
は溶解させた感光性樹脂を透明基板１に上記と同様の方
法でコーティングしたのち、フォトリソ法によってパタ
ーン化する工程を繰り返して形成する方法、あるいは透
明基板上に金属酸化物による透明活性膜層を設け、この
透明活性膜層を染色する方法などがある。 次に、カラーフィルター層２の色の継目にブラックマス
ク３を形成する（第１図す参照）、ブラックマスク３を
形成する方法としては、メツキ・蒸着・スパッタリング
などの方法により金属薄膜層を形成し、リフトオフまた
はエツチングによりパターン化する方法がある。 次に、カラーフィルター層２およびブラックマスク３を
被覆するオーバーコート層４を形成する（第１図Ｃ参照
）、オーバーコート層４としては、アクリル系樹脂ある
いはメラミン系樹脂・エポキシ系樹脂・シリコン系樹脂
・不飽和ポリエステル系樹脂・イソシアヌレート系樹脂
・ポリイミド系樹脂・紫外線硬化性樹脂などのうち、硬
質で透明性に優れた樹脂を単一あるいは２種以上の混合
物もしくは共重合体として用い、印刷法やスピナー法・
ロールコート法・スプレー法などで塗布して形成すれば
よい。このほか、珪酸ナトリウムや珪酸リチウムなどの
無機材料を塗布し、加熱することによってもオーバーコ
ート層４を形成することができる。 次に、オーバーコート層４上に透明導電膜５を形成する
（第１図Ｃ参照）、透明導電膜５としては、ＩＴＯや酸
化スズなどをＥＢ蒸着法やスパッタリング法などによっ
て膜厚１．０００〜３，０００人、表面抵抗値１０〜２
００Ω／Ｃ膳２のものを用いる。 次に、透明導電膜５上にネガ型フォトレジスト層６を形
成する（第１図Ｃ参照）、ネガ型フォトレジスト６とし
ては、特に可視波長領域での感度特性を有するフォトレ
ジストを選択することが肝要で、膜厚０．５〜１０μｍ
程度に形成する。形成方法は、スピナー法・ロールコー
ト法・ディッピング法が適している。 次に、透明基板１の他方表面から平行光線により露光す
る（第１図Ｃ参照）、ブラックマスク３は遮光性を有す
るため、フォトレジスト層６はブラックマスク３のパタ
ーンをネガパターンとして露光する。したがって、ブラ
ックマスク３の光学濃度は、２以上必要である。また、
平行光線を使用するので、微細なパターンを再現するこ
とが可能となる。露光において、フォトレジスト層６側
からではなく、透明基板１側から露光を行なうため、フ
ォトレジスト層６に加わる露光量が、カラーフィルター
層２の色によ゛って異なる。したがって、光源の分光分
布とカラーフィルター層２の各色の分光透過率が合致す
るように、光源およびカラーフィルター層２の着色材を
選択する必要がある。特に、フォトレジスト層６の分布
感度が可視領域にもあるフォトレジストが望ましい、カ
ラーフィルター層の色相が赤の場合、赤の透過波長領域
に分光光度を有するフォトレジストが少ないため、赤フ
ィルターの分光透過波長が４０Ｏｎ＋ｓ以下で透過する
ような色素を選択する必要がある。また、フォトレジス
トが５７Ｏｎ＋ｉ以上で分光感度を向上させるために、
増感剤を添加するようにしてもよい。 また、透明基板の種類によっても、上記波長領域での分
光透過率を考慮する必要がある。 次に、フォトレジスト層６の現像を行い、フォトレジス
ト層６の未露光部分を除去する（第１図ｇ参照）。現像
は、フォトレジストの種類によるが、通常はアルカリ現
像を行なう。 次に、エツチング処理を行ない、透明導電膜５をパター
ン化して透明電極７とする（第１図り参照）。濃度１８
％の塩酸水溶液や塩化第二鉄−塩酸液、塩化ヨウ素液な
どが使用され、４３〜５０℃にて３０秒〜２分間程度エ
ツチング処理が行なわれる。 次に、フォトレジスト層をアルカリ処理を行なって除去
する（第１図ｇ参照）。 また、次のような工程で透明電極付カラーフィルターを
製造することができる。まず、透明基板１上にブラック
マスク３を形成する（第１図ｇ参照）０次に、少なくと
もブラックマスク３の間隙にカラーフィルター層２を形
成するく第２図す参照）。続いて前記と同様の工程を経
て透明電極付カラーフィルターを得ることができる（第
２図Ｃ〜ｉ参照）。
この発明は、ブラックマスクによって透明電極のパター
ン化を行なうように構成したので、透明電極用のパター
ンマスクが必要なくなり、透明電極を形成する際に、カ
ラーフィルターパターンとブラックマスクパターンとの
位置合わせが不必要となる。また、単純マトリクス駆動
の場合、カラーフィルターパターンやブラックマスクパ
ターンの寸法と設計値との公差許容範囲を大きく取るこ
とが可能と、なり、生産性・歩留まりが向上する。
ン化を行なうように構成したので、透明電極用のパター
ンマスクが必要なくなり、透明電極を形成する際に、カ
ラーフィルターパターンとブラックマスクパターンとの
位置合わせが不必要となる。また、単純マトリクス駆動
の場合、カラーフィルターパターンやブラックマスクパ
ターンの寸法と設計値との公差許容範囲を大きく取るこ
とが可能と、なり、生産性・歩留まりが向上する。
第１図はこの発明の透明電極付カラーフィルターの製造
工程を示す断面図、第２図はこの発明の他の透明電極付
カラーフィルターの製造工程を示す断面図である。 １・・・透明基板、２・・・カラーフィルター層、３・
・・ブラックマスク、４・・・オーバーコート層、５・
・・透明導電膜、６・・・フォトレジスト層、７・・・
透明電極。 特許出願人 日本写真印刷株式会社 第１図 第２図
工程を示す断面図、第２図はこの発明の他の透明電極付
カラーフィルターの製造工程を示す断面図である。 １・・・透明基板、２・・・カラーフィルター層、３・
・・ブラックマスク、４・・・オーバーコート層、５・
・・透明導電膜、６・・・フォトレジスト層、７・・・
透明電極。 特許出願人 日本写真印刷株式会社 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、次の各工程を順次行なうことを特徴とする透明電極
付カラーフィルターの製造方法。 （ａ）透明基板（１）の一方表面にカラーフィルター層
（２）を形成する工程。 （ｂ）カラーフィルター層（２）の色の継目にブラック
マスク（３）を形成する工程。 （ｃ）カラーフィルター層（２）およびブラックマスク
（３）を被覆するオーバーコート層（４）を形成する工
程。 （ｄ）オーバーコート層（４）上に透明導電膜（５）を
形成する工程。 （ｅ）透明導電膜（５）上にネガ型フォトレジスト層（
６）を形成する工程。 （ｆ）透明基板（１）の他方表面から平行光線によりフ
ォトレジスト層（６）を露光する工程。 （ｇ）フォトレジスト層（６）の現像を行い、フォトレ
ジスト層（６）の未露光部分を除去する工程。 （ｈ）エッチング処理を行ない、透明導電膜（３）をパ
ターン化して透明電極（７）とする工程。 （ｉ）フォトレジスト層（６）を除去する工程。 ２、次の各工程を順次行なうことを特徴とする透明電極
付カラーフィルターの製造方法。 （ａ）透明基板（１）の一方表面にブラックマスク（３
）を形成する工程。 （ｂ）少なくともブラックマスク（３）の間隙にカラー
フィルター層（２）を形成する工程。 （ｃ）カラーフィルター層（２）およびブラックマスク
（３）を被覆するオーバーコート層（４）を形成する工
程。 （ｄ）オーバーコート層（４）上に透明導電膜（５）を
形成する工程。 （ｅ）透明導電膜（５）上にネガ型フォトレジスト層（
６）を形成する工程。 （ｆ）透明基板（１）の他方表面から平行光線によりフ
ォトレジスト層（６）を露光する工程。 （ｇ）フォトレジスト層（６）の現像を行い、フォトレ
ジスト層（６）の未露光部分を除去する工程。 （ｈ）エッチング処理を行ない、透明導電膜（３）をパ
ターン化して透明電極（７）とする工程。 （ｉ）フォトレジスト層（６）を除去する工程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63106887A JPH01277202A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 透明電極付カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63106887A JPH01277202A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 透明電極付カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01277202A true JPH01277202A (ja) | 1989-11-07 |
Family
ID=14445003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63106887A Pending JPH01277202A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 透明電極付カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01277202A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5399374A (en) * | 1987-01-28 | 1995-03-21 | Nissha Printing Co., Ltd. | Color filter and the manufacturing method therefor |
| EP0707231A3 (en) * | 1994-10-13 | 1996-07-17 | Shinto Paint Co Ltd | Method of repairing a defective color filter |
| JP2000330128A (ja) * | 1999-05-14 | 2000-11-30 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | カラー液晶表示装置製造方法 |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP63106887A patent/JPH01277202A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5399374A (en) * | 1987-01-28 | 1995-03-21 | Nissha Printing Co., Ltd. | Color filter and the manufacturing method therefor |
| EP0707231A3 (en) * | 1994-10-13 | 1996-07-17 | Shinto Paint Co Ltd | Method of repairing a defective color filter |
| JP2000330128A (ja) * | 1999-05-14 | 2000-11-30 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | カラー液晶表示装置製造方法 |
| JP4538111B2 (ja) * | 1999-05-14 | 2010-09-08 | エーユー オプトロニクス コーポレイション | カラー液晶表示装置製造方法 |
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