KR950019780A - 컬러필터의 제조방법 - Google Patents

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KR950019780A
KR950019780A KR1019940038009A KR19940038009A KR950019780A KR 950019780 A KR950019780 A KR 950019780A KR 1019940038009 A KR1019940038009 A KR 1019940038009A KR 19940038009 A KR19940038009 A KR 19940038009A KR 950019780 A KR950019780 A KR 950019780A
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light
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유타카 오오츠키
히토시 유아사
히로요시 오오미카
마사유키 안도
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오오사와 히데지로
니혼 세키유 가부시키가이샤
기타지마 요시토시
다이닛폰 인사츠 가부시키가이샤
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    • G—PHYSICS
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    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Abstract

컬러필터를 제조하는 방법은 (a)투명전도충을 그위에 갖고 있는 투명기판의 투명 도전층상에 포지형 감광성 도막을 형성하는 공정, (b)광조사량이 두단계로 다른 제1영역을 상기 포지형 감광성 도막상에 형성하는 공정, (c)포지형 감광성 도막의 제1영역의 적어도 광조사부분을 현상하여 투명도전충을 노출시킨다음 그위에 착색 도료를 전착하여 착색층을 형성하는 공정, (d)잔여 포지형 감광성 도막위에 광조사량이 두단계로 다른 제2영역을 형성하는 공정, (e)포지형 감광성 도막의 제2영역의 적어도 광조사부분을 현상하여 투명전도층을 노출시킨다음 그 위에 착색도료를 전착하여 착색층을 형성하는 공정,(f) 상기 공정(c)및 (e)에서 현상되지 않은 전여 포지형 감광성 도막을 제고하는 공정, (g)상기 포지형 감광성도막이 상기 공정성 도막이 상기 공정(f)에서 제거되는 상기 추명기판상에 포자형 감광성 도막과 네가형 감광성 도막으로 이루어지는 군으로부터 선정되는 감광상 도막을 형성하는 공정, (h)광조사량이 적어도 세단계로 다른 제3영역을 상기 공정(g)에서 형성된 상기 감광성 도막을 형성하는 공정과, (i)제3영역의 감광성 도막을 현상하여 투명도전층을 노출시킨다음 그위에 착색도료를 전착하여 착색층을 형성하는 공정에서,상기 감광성 도막이 포지형 감광성 도막인 경우에는 광조사량을 감소시키는 순서로 또 상기 감광성 도막이 네가형 감광성 도막인 경우에는 광조사량을 증가시키는 순서로 상기 현상 및 전착조작을 순차적 으로 반복하여 여러 착색층을 형성하는 공정을 포함한다.

Description

컬 러필터의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 세단계로 광투과율이 상이한 마스크를 나타내는 개략 평면도이고,
제4도는 두단계로 광투과율이 상이한 이동용 마스크를 나타내는 개략 평면도이고,
제5도는 두단계로 광투과율이 상이한 다른 마스크를 나타내는 개략 평면도이다.

Claims (10)

1. (a)투명전도층을 그위에 갖고 있는 투명기판의 투명도전층상에 포지형 감광성 도막을 형성하는 공정, (b)광조사량이 두단계로 다른 제1영역을 상기 포지형 감광성 도막상에 형성하는 공정, (c)포지형 감광성 도막의 제1영역의 적어도 광조사부분을 현상하여 투명도전층을 노출시킨다음 그위에 착색 도료를 전착하여 착색층을 형성하는 공정, (d)잔여 포지형 감광성 도막위에 광조사량이 두단계로 다른 제2영역을 형성하는 공정, (e)포지형 감광성 도막의 제2영역의 적어도 광조사부분을 현상하여 투명전도층을 노출시킨다음 그위에 착색도료를 전착하여 착색층을 성하는 공정, (f)상기 공정 (c)및(e)에서 현상되지 않은 잔여 포지형 감광성 도막을 제거하는 공정, (g)상기 포지형 감광성 도막이 상기 공정(f)에서 제거되는 상기 투명기판상에 포지형 감광성 도막과 네가형 감광성 도막으로 이루어지는 군으로부터 선정되는 감광성 도막을 형성하는 공정, (h)광조사량이 적어도 세단계로 다른 제3영역을 상기 공정(g)에서 형성된 상기 감광성 도막을 형성하는 공정과, (i)제3영역의 감광성 도막을 현상하여 투명도전층을 노출시킨다음 그위에 착색도료를 전착하여 착색층을 형성하는 공정에서, 상기 감광성 도막이 포지형 감 광성 도막인 경우에는 광조사량을 감소시키는 순서로 또 상기 감광성 도막이 네가형 감광성 도막인 경우에는 광조사량을 증가시키는 순서로 상기 현상 및 전착조작을 순차적으로 반복하여 여러 착색층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 공정(b)에서 광조사량이 두단계로 다른 상기 제1영역이 광조사부분깍 비-광조사부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
제1항에 있어서, 차광층이 상기 공정(c)에서 형성되는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 공정(f)에서 잔여 포지형 감광성 도막이 고해성능을 갖는 현상액을 사용하여 제거되는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 공정(f)에서 잔여 포지형 감광성 도막이 광노출에 의해 제거된 다음 현상액으로 현상되는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법
제1항에 있어서, 상기 공정(h)에서 상기 감광성 도막이 적어도 세단계로 다른 광투과율의 패턴을 갖는 마스크를 통하여 일회 광에 노출되는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법,
제1항에 있어서, 상기 공정(h)에서 상기 감광성 도막이 광투과율이 두단계로 다른 일정 패턴을 갖는 마스크를 통하여 광에 노출되며 상기 마스크는 적어도 일회 이동되어 다른 광조사량에서 감광성 도막을 광에 또 노출시키게 되는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 공정(h)에서 상기 감광성 도막이 광투과율이 두단계로 다른 일정 패턴을 갖는 마스크를 통하여 광에 노출되며 그다음 감광성 도막은 상기 일정 패턴의 마스크와는 다론 패턴을 갖는 적어도 하나의 다른 마스크를 통하여 광에 노출되어서 광조사량을 변경시키게 되는 건을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 공정(i)에서 제3영역의 감광성 도막이 현상되어 투명도전층의 일부분을 노출시키며 투명도전층의 상기 노출부분이 착색층을 전착함이 없이 손상되지 않게 남겨두는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.
제1항에 있어서, 공정(c), (e), (i)중의 적어도 하나에서 상기 착색층 대신에 투명층이 상기 컬러필터의 외부프레임에 형성되는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940038009A 1993-12-28 1994-12-28 컬러필터의 제조방법 KR950019780A (ko)

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