CN105974653B - 彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置 - Google Patents

彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN105974653B
CN105974653B CN201610581676.3A CN201610581676A CN105974653B CN 105974653 B CN105974653 B CN 105974653B CN 201610581676 A CN201610581676 A CN 201610581676A CN 105974653 B CN105974653 B CN 105974653B
Authority
CN
China
Prior art keywords
photochromy
polarizing film
resin layer
layer
transmission region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201610581676.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105974653A (zh
Inventor
祝政委
陈传宝
张军
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201610581676.3A priority Critical patent/CN105974653B/zh
Publication of CN105974653A publication Critical patent/CN105974653A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105974653B publication Critical patent/CN105974653B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof

Abstract

本发明公开一种彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。彩膜基板的制造方法包括：采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团；通过构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，彩色滤光层包括多种滤光单元，彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵。本发明解决了彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，达到了简化彩色滤光层的形成过程，进而简化彩膜基板的制造过程的效果。本发明用于彩膜基板的制造。

Description

彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展，显示装置广泛应用于显示领域，显示装置可以为薄膜晶体管液晶显示器(英文：Thin Film Transistor Liquid Crystal Display；简称：TFT-LCD)。
TFT-LCD通常包括彩膜基板，彩膜基板包括衬底基板和依次形成在衬底基板上的黑矩阵、彩色滤光层、上覆盖层、公共电极层和隔垫物(英文：Photo Spacer；简称：PS)层，彩色滤光层包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元，任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵(英文：black matrix；简称：BM)。相关技术中，在制造彩膜基板时，可以通过一次构图工艺在衬底基板上形成黑矩阵，再通过三次构图工艺在形成有黑矩阵的衬底基板上分别形成红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元得到彩色滤光层，之后在形成有彩色滤光层的衬底基板上依次形成上覆盖层、公共电极层和PS层。其中，在形成红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元中的任意一种滤光单元时，都需要先涂覆相应的树脂材料得到树脂材料层，然后通过一次构图工艺对树脂材料层进行处理得到相应的滤光单元，也即是，形成彩色滤光层时，需要进行三次涂覆。
在实现本发明的过程中，发明人发现相关技术至少存在以下问题：
相关技术在形成彩色滤光层时，需要进行三次涂覆，因此，彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂。
发明内容
为了解决彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，本发明提供一种彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置。所述技术方案如下：
第一方面，提供一种彩膜基板的制造方法，所述方法包括：
采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层，所述光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团；
通过构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多种滤光单元，所述彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵。
可选地，所述通过构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，包括：
通过一次构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层；
或者，
通过多次构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层。
可选地，所述多种滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元；
所述多种不同吸收波长的光敏基团包括：红光光敏基团、绿光光敏基团和蓝光光敏基团，所述红光光敏基团的吸收波长等于红光波长，所述绿光光敏基团的吸收波长等于绿光波长，所述蓝光光敏基团的吸收波长等于蓝光波长；
所述通过一次构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，包括：
采用白光光源和偏振掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，使所述光致色树脂层形成非曝光区域、第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域，所述偏振掩膜版包括遮光区域、第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域，所述第一透光区域设置有第一偏振片，所述第二透光区域设置有第二偏振片，所述第三透光区域设置有第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向与红光的振动方向相同，所述第二偏振片的偏振方向与绿光的振动方向相同，所述第三偏振片的偏振方向与蓝光的振动方向相同，所述非曝光区域与所述遮光区域对应，所述第一曝光区域与所述第一偏振片对应，所述第二曝光区域与所述第二偏振片对应，所述第三曝光区域与所述第三偏振片对应；
对曝光后的所述光致色树脂层进行显影处理，使所述非曝光区域的光致色树脂层去除，所述第一曝光区域、所述第二曝光区域和所述第三曝光区域的光致色树脂层保留，得到所述彩色滤光层。
可选地，所述多种滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元；
所述多种不同吸收波长的光敏基团包括：红光光敏基团、绿光光敏基团和蓝光光敏基团，所述红光光敏基团的吸收波长等于红光波长，所述绿光光敏基团的吸收波长等于绿光波长，所述蓝光光敏基团的吸收波长等于蓝光波长；
所述通过多次构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，包括：
采用红光光源和第一掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，使所述光致色树脂层形成非曝光区域和第一曝光区域，所述第一掩膜版包括遮光区域和第一透光区域，所述第一曝光区域与所述第一透光区域对应，所述非曝光区域与所述遮光区域对应；
采用绿光光源和第二掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，使所述光致色树脂层形成非曝光区域和第二曝光区域，所述第二掩膜版包括遮光区域和第二透光区域，所述第二曝光区域与所述第二透光区域对应，所述非曝光区域与所述遮光区域对应；
采用蓝光光源和第三掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，使所述光致色树脂层形成非曝光区域和第三曝光区域，所述第三掩膜版包括遮光区域和第三透光区域，所述第三曝光区域与所述第三透光区域对应，所述非曝光区域与所述遮光区域对应；
对曝光后的所述光致色树脂层进行显影处理，使所述非曝光区域的光致色树脂层去除，所述第一曝光区域、所述第二曝光区域和所述第三曝光区域的光致色树脂层保留，得到所述彩色滤光层。
可选地，所述采用白光光源和偏振掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，包括：
将所述偏振掩膜版设置在所述光致色树脂层的上方，使所述遮光区域在所述衬底基板上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影重合；
采用所述白光光源照射所述偏振掩膜版，使所述白光光源的光线分别透过所述第一偏振片、所述第二偏振片和所述第三偏振片照射到所述光致色树脂层上；
其中，所述光致色树脂层上与所述第一偏振片对应的区域中的红光光敏基团吸收透过所述第一偏振片的光线形成所述第一曝光区域，所述光致色树脂层上与所述第二偏振片对应的区域中的绿光光敏基团吸收透过所述第二偏振片的光线形成所述第二曝光区域，所述光致色树脂层上与所述第三偏振片对应的区域中的蓝光光敏基团吸收透过所述第三偏振片的光线形成所述第三曝光区域。
可选地，在所述通过构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层之后，所述方法还包括：
在形成有所述彩色滤光层的衬底基板上依次形成上覆盖层、公共电极层和隔垫物PS层。
第二方面，提供一种采用第一方面所述的方法制造的彩膜基板，所述彩膜基板包括：衬底基板，
所述衬底基板上形成彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多种滤光单元，所述彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵。
可选地，所述多种滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元。
可选地，形成有所述彩色滤光层的衬底基板上依次形成有上覆盖层、公共电极层和隔垫物PS层。
第三方面，提供一种掩膜版，所述掩膜版包括：遮光区域和透光区域，所述透光区域设置有偏振片。
可选地，所述掩膜版包括：遮光区域和多种透光区域，每种所述透光区域设置有一种偏振片，且所述多种透光区域中任意两种透光区域的偏振片的偏振方向不同。
可选地，所述多种透光区域包括：第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域；
所述第一透光区域设置有第一偏振片，所述第二透光区域设置有第二偏振片，所述第三透光区域设置有第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向与红光的振动方向相同，所述第二偏振片的偏振方向与绿光的振动方向相同，所述第三偏振片的偏振方向与蓝光的振动方向相同。
第四方面，提供一种掩膜版的制造方法，用于制造第三方面所述的掩膜版，所述方法包括：
在掩膜版上形成遮光区域和透光区域；
提供偏振片；
将所述偏振片设置在所述透光区域上。
可选地，所述掩膜版包括：遮光区域和多种透光区域，每种所述透光区域设置有一种偏振片，且所述多种透光区域中任意两种透光区域的偏振片的偏振方向不同，
所述在掩膜版上形成遮光区域和透光区域，包括：
在所述掩膜版上形成遮光区域和多种透光区域；
所述提供偏振片，包括：
提供多种偏振片，所述多种偏振片中任意两种偏振片的偏振方向不同；
所述将所述偏振片设置在所述透光区域上，包括：
将所述多种偏振片设置在所述多种透光区域上，使每种所述透光区域对应一种偏振片。
可选地，所述多种透光区域包括：第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域；
所述多种偏振片包括：第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向与红光的振动方向相同，所述第二偏振片的偏振方向与绿光的振动方向相同，所述第三偏振片的偏振方向与蓝光的振动方向相同；
所述将所述多种偏振片设置在所述多种透光区域上，使每种所述透光区域对应一种偏振片，包括：
将所述第一偏振片、所述第二偏振片和所述第三偏振片依次设置在所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域上。
第五方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括：第二方面所述的彩膜基板。
本发明提供的技术方案带来的有益效果是：
本发明提供的彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置，彩膜基板的制造方法包括：采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团；通过构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，彩色滤光层包括多种滤光单元，彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵。由于经过一次涂覆和构图工艺处理就能形成彩色滤光层，因此，解决了相关技术中彩色滤光层的形成过程复杂的导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，达到了简化彩色滤光层的形成过程，进而简化彩膜基板的制造过程的效果。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本发明。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是相关技术提供的一种彩膜基板的制造流程示意图；
图2是本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图；
图3是本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图；
图4是图3所示的掩膜版的俯视图；
图5-1是本发明实施例提供的一种掩膜版的制造方法的流程图；
图5-2是图5-1所示实施例提供的一种在掩膜版上形成遮光区域和透光区域后的结构示意图；
图5-3是图5-2的俯视图；
图6是本发明实施例提供的一种彩膜基板的制造方法的流程图；
图7-1是本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制造方法的流程图；
图7-2是图7-1所示实施例提供的一种在衬底基板上形成黑矩阵后的结构示意图；
图7-3是图7-1所示实施例提供的一种在形成有黑矩阵的衬底基板上形成光致色树脂层后的结构示意图；
图7-4是图7-1所示实施例提供的一种通过一次构图工艺对光致色树脂层进行处理的方法流程图；
图7-5是图7-1所示实施例提供的一种采用白光光源和偏振掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理的方法流程图；
图7-6是图7-1所示实施例提供的将掩膜版设置在光致色树脂层的上方的示意图；
图7-7是图7-1所示实施例提供的采用白光光源照射掩膜版的示意图；
图7-8是图7-1所示实施例提供的一种对曝光后的光致色树脂层进行显影处理后的结构示意图；
图7-9是图7-1所示实施例提供的一种在形成有彩色滤光层的衬底基板上形成上覆盖层后的结构示意图；
图7-10是图7-1所示实施例提供的一种在形成有上覆盖层的衬底基板上形成公共电极层后的结构示意图；
图8-1是本发明实施例提供的再一种彩膜基板的制造方法的流程图；
图8-2是图8-1所示实施例提供的一种通过多次构图工艺对光致色树脂层进行处理的方法流程图；
图8-3是图8-1所示实施例提供的一种采用红光光源和第一掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理的示意图；
图8-4是图8-1所示实施例提供的一种采用绿光光源和第二掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理的示意图；
图8-5是图8-1所示实施例提供的一种采用蓝光光源和第三掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理的示意图。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
请参考图1，其示出了相关技术提供的一种彩膜基板的制造流程示意图，其中，彩膜基板可以包括衬底基板和依次形成在衬底基板上的黑矩阵、彩色滤光层、上覆盖层、公共电极层和PS层，彩色滤光层包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元，任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵。参见图1，彩膜基板的具体形成过程可以包括如下19个工艺步骤：
(1)清洗衬底基板，(2)形成黑色树脂层，(3)对黑色树脂层进行曝光，(4)对曝光后的黑色树脂层进行显影得到黑矩阵，(5)涂覆红色树脂材料得到红色树脂层，(6)对红色树脂层进行曝光，(7)对曝光后的红色树脂层进行显影得到红色滤光单元，(8)涂覆绿色树脂材料得到绿色树脂层，(9)对绿色树脂层进行曝光，(10)对曝光后的绿色树脂层进行显影得到绿色滤光单元，(11)涂覆蓝色树脂材料得到蓝色树脂层，(12)对蓝色树脂层进行曝光，(13)对曝光后的蓝色树脂层进行显影得到蓝色滤光单元，(14)形成上覆盖层，(15)形成公共电极层，(16)形成PS树脂层，(17)对PS树脂层进行曝光，(18)对曝光后的PS树脂层进行显影得到PS，(19)得到成品彩膜基板。
其中，在上述19个工艺步骤中，步骤(2)至(4)用于形成黑矩阵，步骤(5)至(13)用于形成彩色滤光层，步骤(14)用于形成上覆盖层，步骤(15)用于形成公共电极层，步骤(16)至(18)用于形成PS。在上述步骤(5)至(13)中，步骤(5)至(7)用于形成红色滤光单元，步骤(8)至(10)用于形成绿色滤光单元，步骤(11)至(13)用于形成蓝色滤光单元。参见以上可知，在形成彩色滤光层的过程中，需要进行三次涂覆，因此，彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂。
请参考图2，其示出的是本发明实施例提供的一种彩膜基板01的结构示意图，参见图2，彩膜基板01包括衬底基板010，衬底基板010上形成有彩色滤光层012，彩色滤光层012包括多种滤光单元，彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵011。其中，衬底基板010可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的基板。
可选地，如图2所示，多种滤光单元包括红色滤光单元0121、绿色滤光单元0122和蓝色滤光单元0123。
进一步地，如图2所示，形成有彩色滤光层012的衬底基板010上依次形成有上覆盖层013、公共电极层014和PS层015。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板包括彩色滤光层，该彩色滤光层的多种滤光单元可以采用一次涂覆和构图工艺形成，因此，解决了相关技术中彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，达到了简化彩色滤光层的形成过程，进而简化彩膜基板的制造过程的效果。
请参考图3和图4，其示出了本发明实施例提供的一种掩膜版02的结构示意图，其中，图3为掩膜版02的剖面图，图4为图3的俯视图，参见图3和图4，该掩膜版02包括：遮光区域021和透光区域(图3中未标出)，透光区域设置有偏振片022。
进一步地，掩膜版02包括：遮光区域021和多种透光区域(图3中未标出)，每种透光区域设置有一种偏振片，且多种透光区域中任意两种透光区域的偏振片的偏振方向不同。
示例地，如图3和4所示，多种透光区域包括：第一透光区域(图3和图4中未标出)、第二透光区域(图3和图4中未标出)和第三透光区域(图3和图4中未标出)；第一透光区域设置有第一偏振片0221、第二透光区域设置有第二偏振片0222、第三透光区域设置有第三偏振片0223，第一偏振片0221的偏振方向与红光的振动方向相同，第二偏振片0222的偏振方向与绿光的振动方向相同，第三偏振片0223的偏振方向与蓝光的振动方向相同。
综上所述，本发明实施例提供的掩膜版，包括遮光区域和透光区域，透光区域设置有偏光片，偏光片可以对光线进行筛选，进而采用该掩膜版进行曝光时可以通过一次涂覆和构图工艺形成彩膜基板的彩色滤光层，因此，解决了相关技术中彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，达到了简化彩色滤光层的形成过程，进而简化彩膜基板的制造过程的效果。
本发明实施例提供的掩膜版可以应用于下文的方法，本发明实施例中掩膜版的制造方法和制造原理可以参见下文各实施例中的描述。
请参考图5-1，其示出了本发明实施例提供的一种掩膜版的制造方法的流程图，该掩膜版的制造方法可以用于制造图3和图4所示的掩膜版。参见图5-1，该方法可以包括：
步骤501、在掩膜版上形成遮光区域和透光区域。
步骤502、提供偏振片。
步骤503、将偏振片设置在透光区域上。
可选地，掩膜版包括：遮光区域和多种透光区域，可以提供多种偏振片，且使多种偏振片中任意两种偏振片的偏振方向不同，然后在每种透光区域上设置一种偏振片。
示例地，多种透光区域包括：第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域；多种偏振片包括：第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片，第一偏振片的偏振方向与红光的振动方向相同，第二偏振片的偏振方向与绿光的振动方向相同，第三偏振片的偏振方向与蓝光的振动方向相同；
因此，如图5-2和图5-3所示，其中，图5-2为掩膜版的剖面图，图5-3为图5-2的俯视图，可以在掩膜版上形成遮光区域Z、第一透光区域T1、第二透光区域T2和第三透光区域T3，然后将第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片依次设置在第一透光区域T1、第二透光区域T2和第三透光区域T3上。其中，将第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片依次设置在第一透光区域T1、第二透光区域T2和第三透光区域T3上后的示意图可以参考图3和图4，本发明实施例在此不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供的掩膜版的制造方法制造的掩膜版，包括遮光区域和透光区域，透光区域设置有偏光片，偏光片可以对光线进行筛选，进而采用该掩膜版进行曝光时可以通过一次涂覆和构图工艺形成彩膜基板的彩色滤光层，因此，解决了相关技术中彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，达到了简化彩色滤光层的形成过程，进而简化彩膜基板的制造过程的效果。
本发明实施例提供的彩膜基板可以应用于下文的方法，本发明实施例中彩膜基板的制造方法和制造原理可以参见下文各实施例中的描述。
请参考图6，其示出了本发明实施例提供的一种彩膜基板的制造方法的流程图，该彩膜基板的制造方法可以用于制造图2所示的彩膜基板。参见图6，该方法可以包括：
步骤601、采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团。
步骤602、通过构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，彩色滤光层包括多种滤光单元，彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团，通过构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，彩色滤光层包括多种滤光单元。由于采用一次涂覆和构图工艺就可以形成彩色滤光层，因此，解决了相关技术中彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，达到了简化彩色滤光层的形成过程，进而简化彩膜基板的制造过程的效果。
可选地，步骤602可以包括：
通过一次构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层；或者，
通过多次构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层。
可选地，多种滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元；
多种不同吸收波长的光敏基团包括：红光光敏基团、绿光光敏基团和蓝光光敏基团，红光光敏基团的吸收波长等于红光波长，绿光光敏基团的吸收波长等于绿光波长，蓝光光敏基团的吸收波长等于蓝光波长；
通过一次构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，包括：
采用白光光源和偏振掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理，使光致色树脂层形成非曝光区域、第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域，偏振掩膜版包括遮光区域、第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域，第一透光区域设置有第一偏振片，第二透光区域设置有第二偏振片，第三透光区域设置有第三偏振片，第一偏振片的偏振方向与红光的振动方向相同，第二偏振片的偏振方向与绿光的振动方向相同，第三偏振片的偏振方向与蓝光的振动方向相同，非曝光区域与遮光区域对应，第一曝光区域与第一偏振片对应，第二曝光区域与第二偏振片对应，第三曝光区域与第三偏振片对应；
对曝光后的光致色树脂层进行显影处理，使非曝光区域的光致色树脂层去除，第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域的光致色树脂层保留，得到彩色滤光层。
可选地，多种滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元；
多种不同吸收波长的光敏基团包括：红光光敏基团、绿光光敏基团和蓝光光敏基团，红光光敏基团的吸收波长等于红光波长，绿光光敏基团的吸收波长等于绿光波长，蓝光光敏基团的吸收波长等于蓝光波长；
通过多次构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，包括：
采用红光光源和第一掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理，使光致色树脂层形成非曝光区域和第一曝光区域，第一掩膜版包括遮光区域和第一透光区域，第一曝光区域与第一透光区域对应，非曝光区域与遮光区域对应；
采用绿光光源和第二掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理，使光致色树脂层形成非曝光区域和第二曝光区域，第二掩膜版包括遮光区域和第二透光区域，第二曝光区域与第二透光区域对应，非曝光区域与遮光区域对应；
采用蓝光光源和第三掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理，使光致色树脂层形成非曝光区域和第三曝光区域，第三掩膜版包括遮光区域和第三透光区域，第三曝光区域与第三透光区域对应，非曝光区域与遮光区域对应；
对曝光后的光致色树脂层进行显影处理，使非曝光区域的光致色树脂层去除，第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域的光致色树脂层保留，得到彩色滤光层。
可选地，采用白光光源和偏振掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理，包括：
将偏振掩膜版设置在光致色树脂层的上方，使遮光区域在衬底基板上的正投影与黑矩阵在衬底基板上的正投影重合；
采用白光光源照射偏振掩膜版，使白光光源的光线分别透过第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片照射到光致色树脂层上；
其中，光致色树脂层上与第一偏振片对应的区域中的红光光敏基团吸收透过第一偏振片的光线形成第一曝光区域，光致色树脂层上与第二偏振片对应的区域中的绿光光敏基团吸收透过第二偏振片的光线形成第二曝光区域，光致色树脂层上与第三偏振片对应的区域中的蓝光光敏基团吸收透过第三偏振片的光线形成第三曝光区域。
可选地，在步骤602之后，该方法还可以包括：
在形成有彩色滤光层的衬底基板上依次形成上覆盖层、公共电极层和隔垫物PS层。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团，通过构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，彩色滤光层包括多种滤光单元。由于采用一次涂覆和构图工艺就可以形成彩色滤光层，因此，解决了相关技术中彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，达到了简化彩色滤光层的形成过程，进而简化彩膜基板的制造过程的效果。
请参考图7-1，其示出了本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制造方法的流程图，该彩膜基板的制造方法可以用于制造图2所示的彩膜基板。参见图7-1，该方法可以包括：
步骤701、在衬底基板上形成黑矩阵。
示例地，请参考图7-2，其示出的是图7-1所示实施例提供的一种在衬底基板010上形成黑矩阵011后的结构示意图。其中，衬底基板010可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的基板。黑矩阵011可以采用黑色树脂材料形成，黑矩阵011的厚度可以根据实际需要设置，本发明实施例对此不作限定。
示例地，可以在衬底基板010上涂覆一层黑色树脂材料，得到黑色树脂层，然后采用掩膜版对黑色树脂层进行曝光，使黑色树脂层形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺处理，使完全曝光区的黑色树脂被完全去除，非曝光区的黑色树脂全部保留得到黑矩阵011。
需要说明的是，在本发明实施例中，黑色树脂材料可以是黑色光刻胶，本发明实施例是以采用正性光刻胶形成黑矩阵011为例进行说明的，实际应用中，还可以采用负性光刻胶形成黑矩阵011，本发明实施例对此不做限定。
步骤702、采用光致色树脂材料在形成有黑矩阵的衬底基板上形成光致色树脂层，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团。
示例地，请参考图7-3，其示出的是图7-1所示实施例提供的一种采用光致色树脂材料在形成有黑矩阵011的衬底基板010上形成光致色树脂层G后的结构示意图。其中，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团，每种光敏基团可以对波长等于其吸收波长的光线进行吸收从而使光致色树脂层呈现相应的颜色。可选地，多种不同吸收波长的光敏基团可以包括：红光光敏基团、绿光光敏基团和蓝光光敏基团，红光光敏基团的吸收波长等于红光波长，绿光光敏基团的吸收波长等于绿光波长，蓝光光敏基团的吸收波长等于蓝光波长。红光光敏基团可以对红光进行吸收使光致色树脂层呈现红色，蓝光光敏基团可以对蓝光进行吸收使光致色树脂层呈现蓝色，绿光光敏基团可以对绿光进行吸收使光致色树脂层呈现绿色。
在本发明实施例中，可以采用涂覆的方式在形成有黑矩阵011的衬底基板010上形成光致色树脂层G，该光致色树脂层G的厚度可以根据实际需要设置，本发明实施例对此不作限定。
步骤703、通过一次构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，彩色滤光层包括多种滤光单元，彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵。
本发明实施例以多种滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元为例进行说明。示例地，请参考图7-4，其示出的是图7-1所示实施例提供的一种通过一次构图工艺对光致色树脂层进行处理的方法流程图，参见图7-4，该方法可以包括：
子步骤7031、采用白光光源和偏振掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理，使光致色树脂层形成非曝光区域、第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域，偏振掩膜版包括遮光区域、第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域，第一透光区域设置有第一偏振片，第二透光区域设置有第二偏振片，第三透光区域设置有第三偏振片，第一偏振片的偏振方向与红光的振动方向相同，第二偏振片的偏振方向与绿光的振动方向相同，第三偏振片的偏振方向与蓝光的振动方向相同，非曝光区域与遮光区域对应，第一曝光区域与第一偏振片对应，第二曝光区域与第二偏振片对应，第三曝光区域与第三偏振片对应。
示例地，请参考图7-5，其示出的是图7-1所示实施例提供的一种采用白光光源和偏振掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理的方法流程图，参见图7-5，该方法可以包括：
子步骤70311、将偏振掩膜版设置在光致色树脂层的上方，使遮光区域在衬底基板上的正投影与黑矩阵在衬底基板上的正投影重合。
其中，偏振掩膜版可以为图3或图4所示的掩膜版02，参见图3和图4，掩膜版02包括：遮光区域021、第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域，第一透光区域设置有第一偏振片0221，第二透光区域设置有第二偏振片0222，第三透光区域设置有第三偏振片0223，第一偏振片0221的偏振方向与红光的振动方向相同，第二偏振片0222的偏振方向与绿光的振动方向相同，第三偏振片0223的偏振方向与蓝光的振动方向相同。
在本发明实施例中，可以将偏振掩膜版设置在光致色树脂层的上方，使遮光区域在衬底基板上的正投影与黑矩阵在衬底基板上的正投影重合。示例地，请参考图7-6，其示出的是图7-1所示实施例提供的将掩膜版02设置在光致色树脂层G的上方的示意图，参见图7-6，将掩膜版02设置在光致色树脂层G的上方后，遮光区域021位于黑矩阵011的上方，第一偏振片0221、第二偏振片0222和第三偏振片0223都位于除黑矩阵011之外的区域的上方。优选地，遮光区域021在衬底基板010上的正投影与黑矩阵011在衬底基板010上的正投影重合，具体地，遮光区域021与黑矩阵011对应，第一偏振片0221与待形成的红色滤光单元对应，第二偏振片0222与待形成的绿色滤光单元对应，第三偏振片0223与待形成的蓝色色滤光单元对应，本发明实施例在此不再赘述。
子步骤70312、采用白光光源照射偏振掩膜版，使白光光源的光线分别透过第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片照射到光致色树脂层上。
在本发明实施例中，白光光源可以为发出的光线为白色光线的光源，白光光源的形式多种多样，包括点状光源、板状光源等等，其具体结构可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。
将偏振掩膜版设置在光致色树脂层的上方后，可以采用白光光源照射偏振掩膜版，使光致色树脂层上与第一偏振片对应的区域中的红光光敏基团吸收透过第一偏振片的光线形成第一曝光区域，光致色树脂层上与第二偏振片对应的区域中的绿光光敏基团吸收透过第二偏振片的光线形成第二曝光区域，光致色树脂层上与第三偏振片对应的区域中的蓝光光敏基团吸收透过第三偏振片的光线形成第三曝光区域。
示例地，请参考图7-7，其示出的是图7-1所示实施例提供的采用白光光源03照射掩膜版02的示意图。可以将白光光源03设置在掩膜版02的上方来对掩膜版02进行照射。其中，由于掩膜版02上的第一偏振片0221的偏振方向与红光的振动方向相同，第二偏振片0222的偏振方向与绿光的振动方向相同，第三偏振片0223的偏振方向与蓝光的振动方向相同，因此采用白光光源03照射掩膜版02时，白光光源03中的红光可以通过第一偏振片0221透过掩膜版02照射到光致色树脂层G上并与光致色树脂层G中的红光光敏基团发生反应，并被红光光敏基团吸收，光致色树脂层G上吸收红光的区域形成第一曝光区域G1，白光光源03中的绿光可以通过第二偏振片0222透过掩膜版02照射到光致色树脂层G上并与光致色树脂层G中的绿光光敏基团发生反应，并被绿光光敏基团吸收，光致色树脂层G上吸收绿光的区域形成第二曝光区域G2，白光光源03中的蓝光可以通过第三偏振片0223透过掩膜版02照射到光致色树脂层G上并与光致色树脂层G中的蓝光光敏基团发生反应，并被蓝光光敏基团吸收，光致色树脂层G上吸收蓝光的区域形成第三曝光区域G3，光致色树脂层G上未被光线照射的区域为非曝光区G4。
子步骤7032、对曝光后的光致色树脂层进行显影处理，使非曝光区域的光致色树脂层去除，第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域的光致色树脂层保留，得到彩色滤光层。
采用白光光源和偏振掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理后，可以对曝光后的光致色树脂层进行显影处理，使非曝光区域的光致色树脂层去除，第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域的光致色树脂层保留，得到彩色滤光层。其中，显影的具体实现过程可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。
示例地，请参考图7-8，其示出的是图7-1所示实施例提供的一种对曝光后的光致色树脂层G进行显影处理后的结构示意图，参见图7-8，经过显影处理之后，非曝光区的光致色树脂层上被完全去除，第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域的光致色树脂层保留，第一曝光区域形成红色滤光单元0121，第二曝光区域形成绿色滤光单元0122，第三曝光区域形成蓝色滤光单元0123，形成红色滤光单元0121、绿色滤光单元0122和蓝色滤光单元0123后，即可得到彩色滤光层012。
步骤704、在形成有彩色滤光层的衬底基板上依次形成上覆盖层、公共电极层和隔垫物PS层。
在形成有黑矩阵的衬底基板上形成彩色滤光层后，可以在形成有彩色滤光层的衬底基板上依次形成上覆盖层、公共电极层和PS层。
示例地，请参考图7-9，其示出了图7-1所示实施例提供的一种在形成有彩色滤光层012的衬底基板010上形成上覆盖层013后的结构示意图。其中，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition；简称：PECVD)等方法在形成有彩色滤光层012的衬底基板010上沉积一层树脂材料，得到上覆盖层013。实际应用中，当上覆盖层013包括图形时，还可以采用构图工艺对沉积的树脂材料进行处理，本发明实施例在此不再赘述。
示例地，请参考图7-10，其示出了图7-1所示实施例提供的一种在形成有上覆盖层013的衬底基板010上形成公共电极层014后的结构示意图。其中，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有上覆盖层013的衬底基板010沉积一层氧化铟锡(英文：Indium tin oxide；简称：ITO)材料得到ITO材质层，然后通过一次构图工艺对ITO材质层进行处理得到公共电极层014。其中，一次构图工艺包括：光刻胶(英文：Photoresist；简称：PR)涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离，因此，通过一次构图工艺对ITO材质层进行处理得到公共电极层014可以包括：在ITO材质层上涂覆一层具有一定厚度的光刻胶得到光刻胶层，采用掩膜版对光刻胶层进行曝光，使光刻胶层形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺处理，使完全曝光区的光刻胶被完全去除，非曝光区的光刻胶全部保留，采用刻蚀工艺对ITO材质层上完全曝光区对应的区域进行刻蚀，之后剥离非曝光区的光刻胶，ITO材质层上非曝光区对应的区域形成公共电极层014。需要说明的是，本发明实施例是以采用ITO材料形成公共电极层014为例进行说明的，实际应用中，还可以采用氧化铟锌(英文：Indiumzinc oxide；简称：IZO)等其他材料形成公共电极层014，本发明实施例对此不作限定。
示例地，在形成有形成公共电极层014的衬底基板010上形成PS层015后的示意图可以参考图2，参见图2，PS层015上包括多个柱状的隔垫物。其中，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有上覆盖层013的衬底基板010沉积一层树脂材料得到树脂材料层，然后通过一次构图工艺对树脂材料层进行处理得到PS层015，本发明实施例在此不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团，通过构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，彩色滤光层包括多种滤光单元。由于采用一次涂覆和构图工艺就可以形成彩色滤光层，因此，解决了相关技术中彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，达到了简化彩色滤光层的形成过程，进而简化彩膜基板的制造过程的效果。
相关技术在形成彩色滤光层时，需要进行三次涂覆，导致彩色滤光层的形成过程耗时较长，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过一次涂覆就可以形成彩色滤光层，因此，彩膜基板的形成过程耗时较短。
本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，可以节省树脂材料，降低成本，提升工艺效率和产能。
请参考图8-1，其示出了本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制造方法的流程图，该彩膜基板的制造方法可以用于制造图2所示的彩膜基板。参见图8-1，该方法可以包括：
步骤801、在衬底基板上形成黑矩阵。
步骤802、采用光致色树脂材料在形成有黑矩阵的衬底基板上形成光致色树脂层，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团。
该步骤801和步骤802的具体实现过程可以参考图7-1所示实施例中的步骤701和步骤702，本发明实施例在此不再赘述。
步骤803、通过多次构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，彩色滤光层包括多种滤光单元，彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵。
本发明实施例以多种滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元为例进行说明。示例地，请参考图8-2，其示出的是图8-1所示实施例提供的一种通过多次构图工艺对光致色树脂层进行处理的方法流程图，参见图8-2，该方法可以包括：
子步骤8031、采用红光光源和第一掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理，使光致色树脂层形成非曝光区域和第一曝光区域，第一掩膜版包括遮光区域和第一透光区域，第一曝光区域与第一透光区域对应，非曝光区域与遮光区域对应。
在本发明实施例中，红光光源可以为发出的光线为红色光线的光源，红光光源的形式多种多样，包括点状光源、板状光源等等；第一掩膜版包括遮光区域和第一透光区域，遮光区域用于对光线进行遮挡，第一透光区域用于使光线透过第一掩膜版。其中，红光光源的具体结构和第一掩膜版的具体结构均可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。
可选地，可以将第一掩膜版设置在光致色树脂层的上方，然后将红光光源设置在第一掩膜版的上方，并照射第一掩膜版，使红光光源的光线透过第一掩膜版的第一透光区域照射到光致色树脂层上。
示例地，请参考图8-3，其示出了图8-1所示实施例提供的一种采用红光光源041和第一掩膜版051对光致色树脂层G进行曝光处理的示意图，参见图8-3，第一掩膜版051包括遮光区域0511和第一透光区域0512，第一透光区域0512与光致色树脂层G上待形成的红色滤光单元对应，遮光区域0511与光致色树脂层G上除待形成的红色滤光单元之外的区域对应。采用红光光源041照射第一掩膜版051时，红光透过第一掩膜版051上的第一透光区域0512照射到光致色树脂层G上，并与光致色树脂层G中的红光光敏基团发生反应，红光被红光光敏基团吸收，光致色树脂层G上吸收红光的区域形成第一曝光区域(图8-3中未标出)，光致色树脂层G上未被照射的区域为非曝光区域。
子步骤8032、采用绿光光源和第二掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理，使光致色树脂层形成非曝光区域和第二曝光区域，第二掩膜版包括遮光区域和第二透光区域，第二曝光区域与第二透光区域对应，非曝光区域与遮光区域对应。
在本发明实施例中，绿光光源可以为发出的光线为绿色光线的光源，绿光光源的形式多种多样，包括点状光源、板状光源等等；第二掩膜版包括遮光区域和第二透光区域，遮光区域用于对光线进行遮挡，第二透光区域用于使光线透过第一掩膜版。其中，绿光光源的具体结构和第二掩膜版的具体结构均可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。
可选地，可以将第二掩膜版设置在光致色树脂层的上方，然后将绿光光源设置在第二掩膜版的上方，并照射第二掩膜版，使绿光光源的光线透过第二掩膜版的第二透光区域照射到光致色树脂层上。
示例地，请参考图8-4，其示出了图8-1所示实施例提供的一种采用绿光光源042和第二掩膜版052对光致色树脂层G进行曝光处理的示意图，参见图8-4，第二掩膜版052包括遮光区域0521和第二透光区域0522，第二透光区域0522与光致色树脂层G上待形成的绿色滤光单元对应，遮光区域0521与光致色树脂层G上除待形成的绿色滤光单元之外的区域对应。采用绿光光源042照射第二掩膜版052时，绿光透过第二掩膜版052上的第二透光区域0522照射到光致色树脂层G上，并与光致色树脂层G中的绿光光敏基团发生反应，绿光被绿光光敏基团吸收，光致色树脂层G上吸收绿光的区域形成第二曝光区域(图8-4中未标出)，光致色树脂层G上未被照射的区域为非曝光区域。
子步骤8033、采用蓝光光源和第三掩膜版对光致色树脂层进行曝光处理，使光致色树脂层形成非曝光区域和第三曝光区域，第三掩膜版包括遮光区域和第三透光区域，第三曝光区域与第三透光区域对应，非曝光区域与遮光区域对应。
在本发明实施例中，蓝光光源可以为发出的光线为蓝色光线的光源，蓝光光源的形式多种多样，包括点状光源、板状光源等等；第三掩膜版包括遮光区域和第三透光区域，遮光区域用于对光线进行遮挡，第三透光区域用于使光线透过第一掩膜版。其中，蓝光光源的具体结构和第三掩膜版的具体结构均可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。
可选地，可以将第三掩膜版设置在光致色树脂层的上方，然后将蓝光光源设置在第三掩膜版的上方，并照射第三掩膜版，使蓝光光源的光线透过第三掩膜版的第三透光区域照射到光致色树脂层上。
示例地，请参考图8-5，其示出了图8-1所示实施例提供的一种采用蓝光光源043和第三掩膜版053对光致色树脂层G进行曝光处理的示意图，参见图8-5，第三掩膜版053包括遮光区域0531和第三透光区域0532，第三透光区域0532与光致色树脂层G上待形成的蓝色滤光单元对应，遮光区域0531与光致色树脂层G上除待形成的蓝色滤光单元之外的区域对应。采用蓝光光源043照射第三掩膜版053时，蓝光透过第三掩膜版053上的第三透光区域0532照射到光致色树脂层G上，并与光致色树脂层G中的蓝光光敏基团发生反应，蓝光被蓝光光敏基团吸收，光致色树脂层G上吸收蓝光的区域形成第三曝光区域(图8-5中未标出)，光致色树脂层G上未被照射的区域为非曝光区域。
子步骤8034、对曝光后的光致色树脂层进行显影处理，使非曝光区域的光致色树脂层去除，第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域的光致色树脂层保留，得到彩色滤光层。
该子步骤8034的具体实现过程可以参考图7-1所示实施例中的子步骤7032，本实施例在此不再赘述。
步骤804、在形成有彩色滤光层的衬底基板上依次形成上覆盖层、公共电极层和隔垫物PS层。
该子步骤804的具体实现过程可以参考图7-1所示实施例中的子步骤704，本实施例在此不再赘述。
需要说明的是，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，示例地，本发明实施例是以上述子步骤8031至子步骤8033按照先后顺序进行的，实际应用中，上述子步骤8031至子步骤8033中任意两个子步骤之间的先后顺序可以颠倒，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层，光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团，通过构图工艺对光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，彩色滤光层包括多种滤光单元。由于采用一次涂覆和构图工艺就可以形成彩色滤光层，因此，解决了相关技术中彩色滤光层的形成过程复杂，导致彩膜基板的制造过程复杂的问题，达到了简化彩色滤光层的形成过程，进而简化彩膜基板的制造过程的效果。
相关技术在形成彩色滤光层时，需要进行三次涂覆，导致彩色滤光层的形成过程耗时较长，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过一次涂覆就可以形成彩色滤光层，因此，彩膜基板的形成过程耗时较短。
本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，可以节省树脂材料，降低成本，提升工艺效率和产能。
本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括图2所示的彩膜基板，该显示装置可以为：液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分步骤可以通过硬件来完成，也可以通过程序来指令相关的硬件完成，所述的程序可以存储于一种计算机可读存储介质中，上述提到的存储介质可以是只读存储器，磁盘或光盘等。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
以涂覆的方式，采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层，所述光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团，所述多种不同吸收波长的光敏基团包括红光光敏基团、绿光光敏基团和蓝光光敏基团，所述红光光敏基团的吸收波长等于红光波长，所述绿光光敏基团的吸收波长等于绿光波长，所述蓝光光敏基团的吸收波长等于蓝光波长；
通过构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多种滤光单元，所述多种滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元，所述彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，包括：
通过一次构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层；
或者，
通过多次构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，
所述通过一次构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，包括：
采用白光光源和偏振掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，使所述光致色树脂层形成非曝光区域、第一曝光区域、第二曝光区域和第三曝光区域，所述偏振掩膜版包括遮光区域、第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域，所述第一透光区域设置有第一偏振片，所述第二透光区域设置有第二偏振片，所述第三透光区域设置有第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向与红光的振动方向相同，所述第二偏振片的偏振方向与绿光的振动方向相同，所述第三偏振片的偏振方向与蓝光的振动方向相同，所述非曝光区域与所述遮光区域对应，所述第一曝光区域与所述第一偏振片对应，所述第二曝光区域与所述第二偏振片对应，所述第三曝光区域与所述第三偏振片对应；
对曝光后的所述光致色树脂层进行显影处理，使所述非曝光区域的光致色树脂层去除，所述第一曝光区域、所述第二曝光区域和所述第三曝光区域的光致色树脂层保留，得到所述彩色滤光层。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，
所述通过多次构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层，包括：
采用红光光源和第一掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，使所述光致色树脂层形成非曝光区域和第一曝光区域，所述第一掩膜版包括遮光区域和第一透光区域，所述第一曝光区域与所述第一透光区域对应，所述非曝光区域与所述遮光区域对应；
采用绿光光源和第二掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，使所述光致色树脂层形成非曝光区域和第二曝光区域，所述第二掩膜版包括遮光区域和第二透光区域，所述第二曝光区域与所述第二透光区域对应，所述非曝光区域与所述遮光区域对应；
采用蓝光光源和第三掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，使所述光致色树脂层形成非曝光区域和第三曝光区域，所述第三掩膜版包括遮光区域和第三透光区域，所述第三曝光区域与所述第三透光区域对应，所述非曝光区域与所述遮光区域对应；
对曝光后的所述光致色树脂层进行显影处理，使所述非曝光区域的光致色树脂层去除，所述第一曝光区域、所述第二曝光区域和所述第三曝光区域的光致色树脂层保留，得到所述彩色滤光层。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述采用白光光源和偏振掩膜版对所述光致色树脂层进行曝光处理，包括：
将所述偏振掩膜版设置在所述光致色树脂层的上方，使所述遮光区域在所述衬底基板上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影重合；
采用所述白光光源照射所述偏振掩膜版，使所述白光光源的光线分别透过所述第一偏振片、所述第二偏振片和所述第三偏振片照射到所述光致色树脂层上；
其中，所述光致色树脂层上与所述第一偏振片对应的区域中的红光光敏基团吸收透过所述第一偏振片的光线形成所述第一曝光区域，所述光致色树脂层上与所述第二偏振片对应的区域中的绿光光敏基团吸收透过所述第二偏振片的光线形成所述第二曝光区域，所述光致色树脂层上与所述第三偏振片对应的区域中的蓝光光敏基团吸收透过所述第三偏振片的光线形成所述第三曝光区域。
6.根据权利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，在所述通过构图工艺对所述光致色树脂层进行处理，得到彩色滤光层之后，所述方法还包括：
在形成有所述彩色滤光层的衬底基板上依次形成上覆盖层、公共电极层和隔垫物PS层。
7.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板采用权利要求1至6任一所述的方法制造而成，所述彩膜基板包括：衬底基板，
所述衬底基板上形成彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多种滤光单元，所述多种滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元，所述彩色滤光层中任意相邻的两个滤光单元之间设置有黑矩阵；
其中，所述彩色滤光层是以涂覆的方式，采用光致色树脂材料在衬底基板上形成光致色树脂层后，通过构图工艺对所述光致色树脂层进行处理得到的，所述光致色树脂材料含有多种不同吸收波长的光敏基团，所述多种不同吸收波长的光敏基团包括红光光敏基团、绿光光敏基团和蓝光光敏基团，所述红光光敏基团的吸收波长等于红光波长，所述绿光光敏基团的吸收波长等于绿光波长，所述蓝光光敏基团的吸收波长等于蓝光波长。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，
形成有所述彩色滤光层的衬底基板上依次形成有上覆盖层、公共电极层和隔垫物PS层。
9.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括：遮光区域和多种透光区域，所述多种透光区域包括第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域，所述第一透光区域设置有第一偏振片，所述第二透光区域设置有第二偏振片，所述第三透光区域设置有第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向与红光的振动方向相同，所述第二偏振片的偏振方向与绿光的振动方向相同，所述第三偏振片的偏振方向与蓝光的振动方向相同。
10.一种掩膜版的制造方法，其特征在于，用于制造权利要求9所述的掩膜版，所述方法包括：
在掩膜版上形成遮光区域和多种透光区域，所述多种透光区域包括第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域；
提供多种偏振片，所述多种偏振片包括第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向与红光的振动方向相同，所述第二偏振片的偏振方向与绿光的振动方向相同，所述第三偏振片的偏振方向与蓝光的振动方向相同；
将所述第一偏振片、所述第二偏振片和所述第三偏振片依次设置在所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域上。
11.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：权利要求7或8所述的彩膜基板。
CN201610581676.3A 2016-07-21 2016-07-21 彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置 Expired - Fee Related CN105974653B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610581676.3A CN105974653B (zh) 2016-07-21 2016-07-21 彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610581676.3A CN105974653B (zh) 2016-07-21 2016-07-21 彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105974653A CN105974653A (zh) 2016-09-28
CN105974653B true CN105974653B (zh) 2019-05-07

Family

ID=56953015

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610581676.3A Expired - Fee Related CN105974653B (zh) 2016-07-21 2016-07-21 彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105974653B (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107844025A (zh) * 2017-12-11 2018-03-27 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版、曝光装置及曝光方法
CN108388076B (zh) * 2018-03-06 2021-10-01 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版及其掩膜方法、制造方法、掩膜系统
JP6978690B2 (ja) * 2018-05-25 2021-12-08 日亜化学工業株式会社 透光性部材の形成方法および発光装置の製造方法、ならびに、発光装置
CN108919547B (zh) * 2018-07-10 2020-08-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 彩膜基板的制作方法
CN110989288B (zh) * 2019-12-20 2022-05-10 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版、掩膜版系统及制备、光刻方法
CN111650790A (zh) * 2020-05-06 2020-09-11 福建华佳彩有限公司 一种coa显示屏及制作方法
CN113990998A (zh) * 2021-11-01 2022-01-28 镭昱光电科技(苏州)有限公司 波长转换矩阵及其制作方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950002172B1 (ko) * 1991-06-13 1995-03-14 금성일렉트론주식회사 편광자를 사용한 편광노광장치 및 편광마스크 제조방법
KR950703746A (ko) * 1993-07-15 1995-09-20 다께다 가즈히꼬 칼라 필터 제조 방법(a process for producing a color filter)
JP3304579B2 (ja) * 1993-12-28 2002-07-22 大日本印刷株式会社 カラーフィルターの製造法
JP3576627B2 (ja) * 1995-01-25 2004-10-13 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置
JPH09120154A (ja) * 1995-10-25 1997-05-06 Hitachi Ltd 偏光マスク及びその製作方法及びそれを用いたパターン露光方法及びそれを用いたパターン投影露光装置
JP2002214796A (ja) * 2001-01-17 2002-07-31 Toshiba Corp 遮光パターン形成方法及び液晶表示装置の製造方法
US7150945B2 (en) * 2003-11-18 2006-12-19 Micron Technology, Inc. Polarized reticle, photolithography system, and method of forming a pattern using a polarized reticle in conjunction with polarized light
KR20050105570A (ko) * 2004-04-30 2005-11-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 패턴드 스페이서를 구비한 액정표시장치용 컬러필터 기판및 그 제조방법
JP2008242324A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 着色感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた色フィルタアレイ、固体撮像素子およびカメラシステム
WO2010090429A2 (ko) * 2009-02-03 2010-08-12 주식회사 엘지화학 입체영상 표시장치용 광학필터 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
CN105974653A (zh) 2016-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105974653B (zh) 彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、显示装置
US7522235B2 (en) Substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same
WO2017049878A1 (zh) 一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置
JP5094010B2 (ja) 液晶表示装置用カラーフィルタ基板及びその製造方法
WO2016155234A1 (zh) 触摸屏、其制作方法及显示装置
JP4331671B2 (ja) パターン化スペーサーを備えた液晶表示装置及びその製造方法
JP2001183648A (ja) カラー液晶表示装置及びその製造方法
JP6691974B2 (ja) カラーフィルタ基板の製作方法及び液晶パネルの製作方法
US7470491B2 (en) Method of fabricating color filter panel using back exposure and structure of color filter panel
KR100672645B1 (ko) 컬러필터 기판의 제조방법
KR101222953B1 (ko) 컬러필터 어레이 기판의 제조방법
US20070148565A1 (en) Method for manufacturing a color filter
KR20060040096A (ko) 컬러필터 기판 및 그 제조방법, 및 그를 이용한액정표시소자 및 그 제조방법
CN104965337A (zh) 彩色滤光片的制备方法
TWI232312B (en) Color wheel fabrication method
JP3748760B2 (ja) 反射型ｌｃｄおよびその製造方法
JP3683785B2 (ja) 液晶表示装置およびその製造方法
TW200416453A (en) A black matrix and production process of the same, a color filter and a liquid crystal display using the black matrix
US10175524B2 (en) Method of fabricating color filter, color filter, display panel, and display
JP2012528353A (ja) ハーフトーンマスク及びその製造方法
KR100710178B1 (ko) 액정표시장치용 컬러 필터 기판 및 그 제조방법
CN109696794A (zh) 一种超短焦抗光结构的制作方法
JP5654577B2 (ja) ハーフトーンマスク及びその製造方法
JPH0469602A (ja) カラーフィルタアレイの製造方法
TWI281577B (en) Manufacturing method of substrate for optoelectronic device, manufacturing method for optoelectronic device, substrate for optoelectronic device, optoelectronic device, and electronic machine

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20190507