KR910010424A - 광회절격자 소자의 제조방법 - Google Patents
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- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도 내지 제5도는 본 발명의 한 실시예를 표시하는 것.
제1도 (a)~(c)는 각각 광회절격자소자의 제조순서를 표시하는 개략종단면도.
제2도는 제1도(f)의 부분확대도.
제3도(a)(b)는 CF4가스로부터 생성된 이온빔에 의하여 에칭된 톱니모양의 격자의 종단면도.
Claims (4)
- 광회절격자소자의 제조방법은, 유리기판상에 레지스트막을 형성하는 제1공정과, 상기 레지스트막에 노광 및 현상처리를 시행하여 회절격자패턴을 형성하는 제2공정과, 유리기판표면에 대하여 경사윗방향으로 부터 이온빔을 조사하여, 상기 레지스트막 및 유리기판을 에칭하는 것에 의하여, 톱니형상단면을 가지는 회절격자를 상기 유리기판상에 형성하는 제3공정과를 포함하고, 상기 제3공정에 있어서, 상기 이온빔을 생성하는 가스로서, 유리기판과 화학반응을 일으키는 가스를 사용하도록 되어있는 광회절격자소자의 제조방법.
- 광회절격자소자의 제조방법은, 투광성기판상에 레지스트막을 형성하는 제1공정과, 복수의 회절격자패턴에 대응하여 상기 레지스트막에 노광 및 현상처리를 시행하고, 레지스트막이 존재하지 않는 창부를 형성하는 제2공정과, 투광성기판표면에 대하여 경상윗방향으로부터 이온빔을 조사하여, 상기 레지스트막 및 투광성기판을 에칭하는 것에 의하여, 각각 톱니형상단면을 가지는 것과 아울러, 입사광에 대한 회절각의 다른 복수의 회절격자를 투광성기판상에 형성하는 제3공정과를 포함하고, 상기 제2공정에 있어서, 상기 복수의 회절격자패턴에 의하지 않고, 상기 창부의 폭은 거의 일정하게 설정되도록 되어 있는 광회절격자소자의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 광회절격자소자의 제조방법이고, 상기 가스는, 예를들면, CF4, CHF3, C2F6, NF3인 광회절격자소자의 제조방법.
- 제2항에 있어서, 광회절격자소자의 제조방법은, 다시금, 복수의 회절격자패턴에 대응하여 기판상에 차광성박막이 설치되어 있지 않은 광투과부와, 차광성박막이 설치된 차광부와 가지는 포토마스크 작성하는 공정을 포함하고, 상기 차광부의 폭은, 형성되는 상기 회절격자의 격자피치가 클수록 넓게 설정되고, 상기 광투과부의 폭은, 복수의 회절격자패턴에 의하지 않고 거의 일정하게 설정되어 있는 광회절격자소자의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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