KR940001289A - 위상 반전 마스크 및 그의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

노광공정에서 위상반전을 연속적으로 일으키기 위한 투명한 기판, 상기 기펀상에 형성되고, 하나 또는 2이상의 광 투과성 개구부를 포함하는 차광층으로 구성된 마스크에 있어서, 상기 개구부는 위상비반전영역, 위상반전영역 및 위상비반전영역과 위상반전영역 사이에 존재하는 위상전이 영역을 포함항을 특징으로 하는 위상반전마스크 및 그의 제조방법이 개시되어 있다.
본 발명의 위상반전 마스크를 사용하여 노광하는 경우 위상전이영역에 의해 위상반전이 연속적으로 일어나기 때문에 시프터의 존재에 의하여 시프터 경계면에서 광량 “0”부위가 형성되지 않는다.
따라서, 포지티브형 레지스트를 노광하는 경우 양호한 레지스트프로필을 수득할 수 있다.

Description

위상 반전 마스크 및 그의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4A도는 상기 재2A도의 AA´선에 대응하는 본 발명의 위상반전 마스크의 단면도이고,
제4B도는 본 발명의 위상 반전마스크를 사용하여 노광하는 경우 웨이퍼상의 레지스트 상에 형성된 광도프로필을 나타내고,
제5A도 내지 5D도는 본 발명의 위상반전마스크의 제조방법의 일예를 나타내는 개략도이다.

Claims (5)

  1. 투명한 기판, 상기 기판상에 형성되고, 하나 또는 2이상의 광 투과성 개구를 포함하는 차광층으로 구성된 마스크에 있어서, 상기 개구부는 위상비반전영역, 우싱반전영역 및 위상비반전영역과 위상반전영역 사이에 존재하는 위상전이 영역을 포함함을 특징으로 하는 위상반전마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 위상반전영역은 상기 기판의 식각부위임을 특징으로 하는 위상반전마스크.
  3. 제1항에 있어서, 상기 위상전이영역의 기울기(α)가 30-60˚임을 특징으로 하는 위상반전마스크.
  4. 하나 또는 2이상의 광투과성 개구부를 포함하는 차과층 형성된 투명한 기판상에, 상기 개구부의 일부를 노출하도록 레지스트 패턴을 형성하고, 상기 레지스트 패턴 및 투명한 기판을 Resist의 선택비를 이용 식각하여 위상 반전영역, 위상전이 영역 및 위상비반전 영역을 포함하는 개구부를 형성함을 특징으로 하는 위상반전마스크의 제조방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 레지스트 패턴을 전자빔 레지스트를 도파하고, 전자빔에 노광하여 형성함을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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