KR100277933B1 - 위상반전마스크제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 위상반전마스크 제조방법에 관한 것으로, 종래의 하프톤 위상반전마스크에 있어서 2번 내지 4번 노광되는 지역이 1번 노광되는 지역보다 빛을 많이 받게 되어 현상시 감광막이 원하는 양보다 적게 남게 됨에 따라 발생하는 식각시의 문제를 해결하기 위해 크롬레스 위상반전마스크 원리를 이용하여 2번이상 중복노광되는 지역에 미세패턴을 형성한다.

본 발명에 의하면, 노광공정시 여러번 노광되는 지역에서 전혀 노광효과가 나타나지 않게 되므로 현상후 감광막의 손실이 없게 되어 식각시 문제가 발생하는 일등이 없어지게 된다.

Description

위상반전마스크 제조방법

본 발명은 위상반전마스크의 제조방법에 관한 것으로, 특히 하프톤(half tone) 위상반전마스크의 제조방법에 관한 것이다.

종래의 위상반전마스크는 제1도에 도시된 바와 같이 석영기판(1)상에 형성된 차광막인 크롬(2)의 두께를 조정하여 원하는 양만큼 빛이 투과되는 크롬막 상부 또는 하부에 위산반전물질(3)을 입힘으로써 노광공정시 촛점심도를 넓히는 효과를 얻었다.

제1도와 같이 투과성 크롬막(2)의 상부나 하부에 위상반전물질(3)을 입힘으로써 노광시 크롬 및 위상반전물질이 없는 저여과 크롬 및 위상반전물질이 존재하는 경계면에서의 빛의 간섭효과로 인하여 투과되는 빛의 콘트라스트를 높여 임계해상치 및 촛점심도를 증가시킨다.

상기한 종래기술에 있어서는 제2도에 도시된 바와 같이 노광장비에서의 노광시에 얼라인먼트 키(Alignment key) 및 버니어(vernier)가 있는 스크라이브(scribe)지역은 오버래핑(overlapping)되어 노광되므로 2번 내지 4번 노광되게 된다. 제2도에서 참조부호A는 4번 노광되는 지역, B는 2번 노광되는 지역을 각각 나타낸다.

따라서 하프톤 마스크를 사용하는 경우에는 크롬이 입혀진 지역도 어느 정도 빛이 투과되므로 이러한 2번 내지 4번 노광되는 지역은 1번 노광되는 지역보다 빛을 많이 받게 되어 현상시 감광막이 원하는 양보다 적게 남아 있게 되어 식각시 문제를 야기하게 된다.

본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위한 것으로, 노광시 여러번 노광되는 지역에서의 노광효과을 없앨 수 있도록 한 위상반전마스크의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 위상반전마스크 제조방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

본 발명의 위상반전마스크는 제3도에 도시된 바와 같이 크롬레스(Chromeless) 위상반전마스크의 원리를 이용하여 노광공정시 2번 내지 4번 노광되는 지역(14)에 미세패턴(15)을 형성하여 노광시 빛의 간섭효과로 인하여 노광효과가 없도록 제작한다.

즉, 노광시 제2도에 도시된 바와 같이 겹쳐지는 부분, 즉, 2번 내지 4번 노광되는 부분에 약 0.2㎛이하의 미세패턴(15)을 형성하게 되면 노광시 상기 미세패턴을 투과하는 빛은 주변의 빛과 간섭효과를 일으켜 차광막으로 막아 놓은 것과 같은 효과를 나타내게 된다. 따라서 노광공정시 여러번 노광되는 지역(14)은 노광이 되지 않게 된다. 제4도에 상기 미세패턴(15)에 의한 차광막효과를 나타내었다.

본 발명의 위상반전마스크는 제3도에 도시된 바와 같이 석영기판(11)상에 반투과성 크롬막(12)을 형성하고 이위에 위산반전층(13)을 형성한 후, 원하는 패턴으로 패터닝하는바, 여러번 노광되는 지역(14)에는 미세패턴(15)이 형성되도록 패터닝한다.

상기 미세패턴은 제5도에 도시된 바와 같이 라인/스페이스(line/space)패턴으로 형성하거나 제6도에 도시된 바와 같이 바둑판 패턴으로 형성할 수 있다.

이상 상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 노광공정시 여러번 노광되는 지역에서 전혀 노광효과가 나타나지 않게 되므로 현상후 감광막의 손실이 없게 되어 식각시 문제가 발생하는 일등은 없게 된다.

제1도는 종래의 하프톤 위상반전마스크 및 이의 효과를 나타낸 도면.

제2도는 종래의 위상반전마스크의 문제점을 도시한 도면.

제3도는 본 발명의 위상반전마스크를 도시한 도면.

제4도는 크롬레스 위상반전마스크 원리를 이용한 차광막 효과를 나타낸 도면.

제5도 및 제6도는 본 발명의 위상반전마스크의 미세패턴의 예를 도시한 도면.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

11.석영기판 12.크롬막

13.위상반전층 14.여러번 노광되는 지역

15.미세패턴

Claims (2)

1. 크롬레스 위상반전마스크 원리를 이용하여 2번이상 중복노광되는 지역에 미세패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전마스크 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 미세패턴은 0.2㎛이하의 라인/스페이스패턴 또는 바둑판패턴으로 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전마스크 제조방법.