KR980003882A - 위상반전 마스크 제조방법 - Google Patents
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Abstract
위상반전 마스크 제조방법이 개시되어 있다. 이 방법은, 투명한 기판 상에 차광물질층을 형성하는 단계와, 상기 결과물 상에 상기 차광물질층의 소정영역을 노출시키는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로하여 상기 노출된 차광물질층을 식각함으로써, 상기 투명한 기판의 소정영역을 노출시키는 차광물질 패턴을 형성하는 단계와, 상기 노출된 투명한 기판 및 상기 포토레지스트 패턴 상에 상기 차광물질층과 동일한 두께를 갖는 투명한 절연막을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트 패턴 및 그 위에 형성된 투명한 절연막을 리프트 오프 방식으로 제거하는 단계와, 상기 투명한 기판 상에 형성된 투명한 절연막중 선택된 투명한 절연막 상에 쉬프터를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 균일한 두께를 갖는 쉬프터를 형성할 수 있으므로, 일정한 위상차를 갖는 위상반전 마스크를 형성할 수 있으며, 결과적으로 고해상도의 감광막 패턴을 형성할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2c도는 본 발명에 의한 교호 위상반전 마스크 제조방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
Claims (3)
- 투명한 기판 상에 차광물질층을 형성하는 단계; 상기 결과물 상에 상기 차광물질층의 소정영역을 노출시키는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로하여 상기 노출된 차광물질층을 식각함으로써, 상기 투명한 기판의 소정역을 노출시키는 차광물질 패턴을 형성하는 단계; 상기 노출된 투명한 기판 및 상기 포토레지스트 패턴 상에 상기 차광물질층과 동일한 두께를 갖는 투명한 절연막을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴 및 그 위에 형성된 투명한 절연막을 리프트 오프 방식으로 제거하는 단계; 및 상기 투명한 기판 상에 형성된 투명한 절연막중 선택된 투명한 절연막 상에 쉬프터를 형성하는 단계를 포함 하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 차광물질층은 크롬막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 쉬프터는 SOG(spin on glass)로 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960024025A KR980003882A (ko) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 위상반전 마스크 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960024025A KR980003882A (ko) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 위상반전 마스크 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR980003882A true KR980003882A (ko) | 1998-03-30 |
Family
ID=66240269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960024025A KR980003882A (ko) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 위상반전 마스크 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR980003882A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030040048A (ko) * | 2001-11-15 | 2003-05-22 | 엔이씨 일렉트로닉스 코포레이션 | 위상시프트마스크 및 그 제조방법 |
-
1996
- 1996-06-26 KR KR1019960024025A patent/KR980003882A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030040048A (ko) * | 2001-11-15 | 2003-05-22 | 엔이씨 일렉트로닉스 코포레이션 | 위상시프트마스크 및 그 제조방법 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |