KR950009812A - 위상반전마스크 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 위상반전마스크 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 석영기판의 상부에 크롬패턴이 형성되고, 크롬 패턴과 석영기판의 예정된 부분에 위상반전물질층 패턴이 형성되고, 크롬패턴이 형성되지 않는 석영기판 뒷면에 위상변화막용 감광막패턴을 형성하되, 석영기판상에 형성된 위상 반전물질층 패턴의 가장자리영역의 석영기판 뒷면에 선택적으로 감광막패턴이 형성되게 하여 위상반전마스크의 위상반전물질층 패턴의 가장자리에서 위상차가 발생하여 불필요한 감광막패턴이 형성되는 것을 방지하는 기술이다.

Description

위상반전마스크 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 내지 제4도는 본 발명에 대한 종래의 기술을 도시한 단면도,제1도는 포지티브형 위상반전마스크의 평면도를 도시한 단면도,
제2도는 포지스트브형 위상반전마스크를 제1도의 Ⅰ-Ⅰ를 따라 도시한 단면도,
제3도는 포지티브형 위상반전마스크의 공정결과를 도시한 평면도,
제4도는 네가티브형 위상반전마스크의 평면도를 도시한 단면도.

Claims (6)

  1. 본 발명은 위상반전마스크 및 그 제조방법에 있어서, 석영기판위에 크롬막패턴을 형성하고, 크롬막패턴과 석영기판의 예정된 부분에 위상반전물질층 패턴을 형성하는 공정과, 크롬막패턴이 형성되지 않은 석영기판에 뒷면에 감광막을 도포한후, 상기 크롬막패턴 및 위상반전물질층 패턴을 마스크로하여 뒷면에 있는 감광막을 노광시키고, 현상공정을 거쳐 감광막패턴을 형성하는 위상반전마스크 및 그 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 감광막의 두께를 조정하므로써 0-180도의 위상변화를 시키는 것을 특징으로 하는 위상반전마스크 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 감광막대신에 SOG형태의 폴리이미드(polyimide)와 같은 감광성필름을 사용하는 것을 특징으로하는 위상반전마스크 및 그 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 위상변환막 대신에 석영기판을 식각하여 위상변환시키는 것을 특징으로 하는 위상반전마스크 및 그 제조방법.
  5. 위상반전마스크 및 그 제조방법에 있어서, 석영기판의 상부에 크롬패턴이 형성되고, 크롬패턴과 석영기판의 예정된 부분에 위상반전물질층 패턴이 형성되고, 크롬패턴이 형성되지 않은 석영기판 뒷면에 위상변화막용 감과막패턴을 형성하되, 석영기판상에 형성된 위상반전물질층 패턴의 가장자리영역의 석영기판 뒷면에 선택적으로 감광패턴이 형성된 것을 포함하는 위상반전마스크 및 그 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 석영기판 뒷면에 형성되는 감광막패턴을 위상반전물질층 패턴의 가장자리 영역뿐만아니라 크롬패턴의 석영기판 뒷면에 형성되는 것을 포함하는 위상 반전마스크 및 그 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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