KR950015692A - 반도체 웨이퍼 결함 검사시의 원점 통일 패턴 - Google Patents
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Abstract
본 발명에서는 종래의 다이 고정점 패턴에 바둑판 모양의 패턴을 새롭게 추가하여 각각의 결함 검사 장비에 맞게 상기 두 개의 패턴 중 하나를 선택할 수 이게 함으로써, 각각의 장비들이 서로 동일한 기준점을 갖게 하여 결함 검사 결과를 서로 효과적으로 비교할 수 있도록 하는 원점 통일 패턴에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명의 원점 통일 패턴을 도시한 평면도.
Claims (2)
- 반도체 소자의 결함 검사시의 기준점을 통일하기 위한 패턴에 있어서, 반도체 칩의 스크라이브(scribe) 영역의 네 모서리의 일정 부분에 형성되며 빛이 통과하는 영역과 빛이 통과하지 않는 영역의 두 부분으로 구분이 된 다이 고정점(die fit target) 패턴과, 스크라이브 영역 내에서 각 고정점 패턴의 주위에 형성되며 정사각형의 빛이 통과하는 영역과 빛이 통과하지 않는 영역이 바둑판 모양으로 나열된 바둑판 모양의 패턴으로 이루어지는 원점 통일 패턴.
- 제1항에 있어서, 패턴 이미지 비교 방식용 장비에서는 상기 다이 고정점 패턴을 이용하여 기준점을 설정하고, 빛 산란 방식용 장비에서는 상기 바둑판 모양의 패턴을 이용하여 기준점을 설정하도록 하는 원점 통일 패턴.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019930024746A KR100256806B1 (ko) | 1993-11-19 | 1993-11-19 | 반도체 웨이퍼 결함 검사시의 원점 통일 패턴 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019930024746A KR100256806B1 (ko) | 1993-11-19 | 1993-11-19 | 반도체 웨이퍼 결함 검사시의 원점 통일 패턴 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR950015692A true KR950015692A (ko) | 1995-06-17 |
KR100256806B1 KR100256806B1 (ko) | 2000-05-15 |
Family
ID=19368513
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019930024746A KR100256806B1 (ko) | 1993-11-19 | 1993-11-19 | 반도체 웨이퍼 결함 검사시의 원점 통일 패턴 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR100256806B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100624469B1 (ko) * | 2004-11-19 | 2006-09-15 | 삼성전자주식회사 | 비대칭 패턴을 갖는 체크보드 및 이를 이용한영상획득장치의 캘리브레이션 방법 및 장치 |
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1993
- 1993-11-19 KR KR1019930024746A patent/KR100256806B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100624469B1 (ko) * | 2004-11-19 | 2006-09-15 | 삼성전자주식회사 | 비대칭 패턴을 갖는 체크보드 및 이를 이용한영상획득장치의 캘리브레이션 방법 및 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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KR100256806B1 (ko) | 2000-05-15 |
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