KR880014642A - 투영노광방법 및 그 장치 - Google Patents

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KR880014642A
KR880014642A KR870005015A KR870005015A KR880014642A KR 880014642 A KR880014642 A KR 880014642A KR 870005015 A KR870005015 A KR 870005015A KR 870005015 A KR870005015 A KR 870005015A KR 880014642 A KR880014642 A KR 880014642A
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wafer
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미츠오 다바라
도루 도죠
마그토 나카세
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와타리 스기이치로
가부시키가이샤 도시바
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

투영노광방법 및 그 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일실시예에 따른 투영노광장치의 개략구성도, 제2도는 웨어퍼상에 형성시킬 패턴 및 제 1 위치설정 표시부를 나타내는 평면도, 제3도는 표시도를 이용하여 위치를 설정하는 원리를 설명하기 위한 모식도.

Claims (7)

  1. 소정패턴이 형성된 복수의 마스크(20)를 써서 복수의 마스크패턴을 투영광학장치를 거쳐 웨이퍼(40)상에다 순차적으로 전사하고, 각 마스크패턴영역(A,B,C,D)의 주면부를 웨이퍼(40) 상에서 결합시켜 하나의 칩패턴을 형성시켜 주도록 된 투영노광방법에 있어서, 상기 마스크(20)에는 상기 마스크패턴영역의 상기 웨이퍼(40)상에서 결합되지 않는 적어도 2곳의 주변부 근방에 각각 제 1 위치 정합용 표시부군(21)을 형성시켜주고, 상기 웨이퍼(40) 상에는 상기 마스크(20)마다 상기 표시부군(21)과 위치정합되어질 제 2 위치 정합용 표시부군(41)을 형성시켜 놓아, 상기 제 1 및 제 2 위치 정합용 표시부군(21, 41)의 상대위치를 정합시켜 각 마스크패턴을 노광시켜줄 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 마스크(20)는 사각형 마스크패턴영역을 갖는 4매의 마스크(20a∼20d)를 사용하도록 된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 위치 정합용 표시부군(41)은 전자빔 노광장치를 사용하여 형성시켜 주도록 된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 위치 정합용 표시부군은 상기 마스크패턴을 웨이퍼(40) 상에다 전사해 줄 때 사용하게 되는 투영노광장치보다도 노광영역이 넓은 별도의 투영노광장치를 써서 형성시켜 주도록 된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  5. 마스크에 형성된 마스크패턴을 투영노광장치를 통해 웨이퍼상에 전사하도록 된 투영노광장치에 있어서, 상기 마스크(20)와 웨어퍼(40)의 위치정합이 이루어지도록 하기 위한 위치검출 광합장치(61)를 상기 마스크 패턴영역(A, B, C, D)의 4주변방향에다 각각 배치시켜 놓은 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 위치검출 광학장치(61)는 마스크(20)의 종류에 따라 복수개가 사용하도록 된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
  7. 제 5 항에 있어서, 상기 위치검출 광학장치(61)는 상기 마스크(20)에 형성된 제 1 위치 정합용 표시부군(21)과 상기 웨이퍼(40)에 형성된 제 2 위치 정합용 표시부군(41)과의 상대위치를 검출하도록 된 것으로, 이 위치검출광학장치(61)에 대해 각 마스크신호검출이 상기 투영광학장치를 통해 이루어지도록 된 것을 특징으로 하는 투영노광방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019870005015A 1986-05-20 1987-05-20 투영노광법 및 그 장치 KR900004051B1 (ko)

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