KR890011015A - 불투명한 슬라이스의 두 대향 표면상의 비교적 정렬된 패턴의 형성 방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

불투명한 슬라이스의 두 대향 표면상의 비교적 정렬된 패턴의 형성 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1a도 내지 제1h도는 본 발명에 따른 방법의 단계를 도시한 도면.

제2도는 본 발명에 따른 방법을 수행하기 위해 적절히 사용된 투사에 의한 정렬의 장치를 도시한 도면.

Claims (6)

1. 최소 하나의 기준 패턴을 제1표면상에 가지고 있는 불투명한 슬라이스의 제1 및 제2의 대향 표면상의 비교적 정렬된 패턴의 형성 방법에서 있어서, 상기의 방법은 가) 상기의 불투명한 슬라이스보다 더큰 규모를 가진 투명한 평판의 제1표면에 상기의 불투명한 슬라이스의 제1표면을 결합시키는 단계와; 나) 상기의 불투명한 슬라이스의 외곽으로부터 투사되고, 상기 투명한 평판의 제1표면의 부분과 상기 슬라이스의 제2표면상에 광 절연층을 장착시키는 단계와; 다) 기준 패턴에 따라 정렬 마스크를 정렬시키는 단계와; 라) 상기의 불투명한 슬라이스의 외곽으로부터 주사하는 상기의 광 절연층상에 정렬 패턴을 생성시키기 위해 상기 제1표면에 반대로 위치한 상기 투명 평판의 제2표면과 정렬 마스크를 통하여 노출시키는 단게와; 마) 상기의 정렬 패턴을 나타내도록 하기 위해 상기의 라)단계 동안 노출된 상기의 광 절연층을 발전시키는 단계와; 바) 상기의 정렬 패턴과 함께 상기 슬라이스의 제2표면과 정반대로 배열된 재정렬 마스크를 정렬시키는 단계와; 사) 상기의 정렬 패턴에 따라 정렬된 기능적 패턴을 상기 슬라이스의 제2표면을 덮고 있는 상기의 광 절연층을 생성시키기 위해 상기의 재정렬 마스크를 통하여 노출시키는 단계와; 아) 상기의 기능적 패턴을 나타내게 하기 위해서 상기의 사)단계 동안 노출된 상기의 광 절연층을 발전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 불투명한 슬라이스의 두 대향 표면상의 비교적 정렬된 패턴의 형성 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기의 불투명한 슬라이드(2)가 반도체 결정인 것을 특징으로 하는 불투명한 슬라이스의 두 대향 표면상의 비교적 정렬된 패턴의 형성 방법.
3. 제1항 또는 제2항중 어느 한 항에 있어서, 상기의 투명 평판(1)이 유리로 구성되는 것을 특징으로 하는 불투명한 슬라이스의 두 대향 표면상의 비교적 정렬된 패턴의 형성 방법.
4. 선행항중 어느 한 항에 있어서, 상기의 불투명한 슬라이드(2)와 투명 평판(1)이 투명한 밀랍의 층(4)에 의해서 결합되는 것을 특징으로 하는 불투명한 슬라이스의 두 대향 표면상의 비교적 정렬된 패턴의 형성 방법.
5. 선행항중 어느 한 항에 있어서, 정렬과 노출의 단계가 투사부에서 동작하는 편면 장치에 의해서 수행되는 것을 특징으로 하는 불투명한 슬라이스의 두 대향 표면상의 비교적 정렬된 패턴의 형성 방법.
6. 선행항중 어느 한 항에 있어서, 상기의 정렬 패턴(8)이 대칭적이고, 상기의 정렬 마스크와 재정렬 마스크가 동일한 것을 특징으로 하는 불투명한 슬라이스의 두 대향 표면상의 비교적 정렬된 패턴의 형성 방법.

   ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.